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公开(公告)号：CN105229534B
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201480028648.8
申请日：2014-03-18
Applicant: 尤利塔股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F7/7035 , G03F7/70408
Abstract: 一种用于将特征的周期性图案印刷到光敏层中的方法，所述方法包括提供承载周期性图案的掩模，提供承载光敏层的衬底，大体平行于掩模布置衬底，形成准直单色光的射束以用于光照所述掩模图案使得由掩模透射的光场形成通过泰伯距离分离的泰伯图像平面，以及利用所述射束执行掩模的N个子曝光并且在子曝光之间改变分离使得关于在第一子曝光期间的在第i子曝光期间的相对分离由泰伯距离的（mi+ni/N）倍给出，以及将掩模图案曝光于用于每一个子曝光的光照的相同能量密度，其中与波长有关地选择周期使得仅第零和第一衍射级被掩模透射。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103080843B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180043123.8
申请日：2011-07-05
Applicant: 尤利塔股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70408 , G03B27/54 , G03F7/70325 , G03F7/7035
Abstract: 一种用于向光敏层中印刷所需图案的方法包括：提供承载与第一方向平行的线性特征的图案的掩模；布置与所述掩模平行并且从所述掩模分离的层；生成基本上单色光并且在基本上在与所述第一方向平行的平面中的角度范围上用所述光照射掩模图案，由此掩模透射的每个照射角度的光形成在Talbot平面之间的横向强度分布的范围并且在层处形成光场分量，并且所述分量的叠加印刷所需图案，其中相对于波长、间隔和周期选择角度的范围，使得所述分量的叠加基本上等同于光以角度之一形成的横向强度分布范围的平均。
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公开(公告)号：CN107533285A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201580076621.0
申请日：2015-12-18
Applicant: 尤利塔股份公司
Abstract: 一种形成通过等离子体共振生成具有颜色的分布的期望图像的金属纳米特征的图案的方法，该方法包括：提供具有感光材料层的基底；将该层曝光于剂量分布的高分辨率周期性图案；确定剂量分布的至少一个低分辨率图案，以使得剂量分布的至少一个低分辨率图案和剂量分布的高分辨率周期性图案的总和适用于形成金属纳米特征的图案，其中所述金属纳米特征的横向维度具有跨图案的与期望图像中的颜色分布相对应的空间变化；将感光材料层曝光于剂量分布的所述至少一个低分辨率图案；显影感光材料层以在显影的感光材料中产生纳米结构的图案；处理纳米结构的图案，以使得金属纳米特征的图案被形成为具有与期望图像中的颜色分布相对应的跨图案的横向维度的所述空间变化。
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公开(公告)号：CN103080843A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201180043123.8
申请日：2011-07-05
Applicant: 尤利塔股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70408 , G03B27/54 , G03F7/70325 , G03F7/7035
Abstract: 一种用于向光敏层中印刷所需图案的方法包括：提供承载与第一方向平行的线性特征的图案的掩模；布置与所述掩模平行并且从所述掩模分离的层；生成基本上单色光并且在基本上在与所述第一方向平行的平面中的角度范围上用所述光照射掩模图案，由此掩模透射的每个照射角度的光形成在Talbot平面之间的横向强度分布的范围并且在层处形成光场分量，并且所述分量的叠加印刷所需图案，其中相对于波长、间隔和周期选择角度的范围，使得所述分量的叠加基本上等同于光以角度之一形成的横向强度分布范围的平均。
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公开(公告)号：CN107533285B
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201580076621.0
申请日：2015-12-18
Applicant: 尤利塔股份公司
Abstract: 一种形成通过等离子体共振生成具有颜色的分布的期望图像的金属纳米特征的图案的方法，该方法包括：提供具有感光材料层的基底；将该层曝光于剂量分布的高分辨率周期性图案；确定剂量分布的至少一个低分辨率图案，以使得剂量分布的至少一个低分辨率图案和剂量分布的高分辨率周期性图案的总和适用于形成金属纳米特征的图案，其中所述金属纳米特征的横向维度具有跨图案的与期望图像中的颜色分布相对应的空间变化；将感光材料层曝光于剂量分布的所述至少一个低分辨率图案；显影感光材料层以在显影的感光材料中产生纳米结构的图案；处理纳米结构的图案，以使得金属纳米特征的图案被形成为具有与期望图像中的颜色分布相对应的跨图案的横向维度的所述空间变化。
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公开(公告)号：CN105229534A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201480028648.8
申请日：2014-03-18
Applicant: 尤利塔股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F7/7035 , G03F7/70408
Abstract: 一种用于将特征的周期性图案印刷到光敏层中的方法，所述方法包括提供承载周期性图案的掩模，提供承载光敏层的衬底，大体平行于掩模布置衬底，形成准直单色光的射束以用于光照所述掩模图案使得由掩模透射的光场形成通过泰伯距离分离的泰伯图像平面，以及利用所述射束执行掩模的N个子曝光并且在子曝光之间改变分离使得关于在第一子曝光期间的在第i子曝光期间的相对分离由泰伯距离的（mi+ni/N）倍给出，以及将掩模图案曝光于用于每一个子曝光的光照的相同能量密度，其中与波长有关地选择周期使得仅第零和第一衍射级被掩模透射。
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