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公开(公告)号：CN103080843B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180043123.8
申请日：2011-07-05
Applicant: 尤利塔股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70408 , G03B27/54 , G03F7/70325 , G03F7/7035
Abstract: 一种用于向光敏层中印刷所需图案的方法包括：提供承载与第一方向平行的线性特征的图案的掩模；布置与所述掩模平行并且从所述掩模分离的层；生成基本上单色光并且在基本上在与所述第一方向平行的平面中的角度范围上用所述光照射掩模图案，由此掩模透射的每个照射角度的光形成在Talbot平面之间的横向强度分布的范围并且在层处形成光场分量，并且所述分量的叠加印刷所需图案，其中相对于波长、间隔和周期选择角度的范围，使得所述分量的叠加基本上等同于光以角度之一形成的横向强度分布范围的平均。
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公开(公告)号：CN103403621A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201180068248.6
申请日：2011-12-20
Applicant: 尤利塔股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/201 , G03F7/70408
Abstract: 一种用于向光敏层中印刷周期性特征的期望图案的方法和设备，包括步骤：提供承载所述层的衬底，提供掩膜，将衬底布置成使得其相对于衬底在与之正交的第一平面中具有倾斜角，提供用于对所述掩膜图案进行照明的基本准直光，从而在分隔开泰伯距离的泰伯平面之间产生由一范围的横向强度分布组成的透射光场，并且使得所述透射光场在第一平面中具有强度包络，用所述光对掩膜进行照明同时使衬底在平行于第一平面且平行于衬底的方向上相对于掩膜移位，其中，所述倾斜角和所述强度包络被布置成使得所述层暴露于横向强度分布的范围的平均。
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公开(公告)号：CN105229534B
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201480028648.8
申请日：2014-03-18
Applicant: 尤利塔股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F7/7035 , G03F7/70408
Abstract: 一种用于将特征的周期性图案印刷到光敏层中的方法，所述方法包括提供承载周期性图案的掩模，提供承载光敏层的衬底，大体平行于掩模布置衬底，形成准直单色光的射束以用于光照所述掩模图案使得由掩模透射的光场形成通过泰伯距离分离的泰伯图像平面，以及利用所述射束执行掩模的N个子曝光并且在子曝光之间改变分离使得关于在第一子曝光期间的在第i子曝光期间的相对分离由泰伯距离的（mi+ni/N）倍给出，以及将掩模图案曝光于用于每一个子曝光的光照的相同能量密度，其中与波长有关地选择周期使得仅第零和第一衍射级被掩模透射。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103403621B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180068248.6
申请日：2011-12-20
Applicant: 尤利塔股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/201 , G03F7/70408
Abstract: 一种用于向光敏层中印刷周期性特征的期望图案的方法和设备，包括步骤：提供承载所述层的衬底，提供掩膜，将衬底布置成使得其相对于衬底在与之正交的第一平面中具有倾斜角，提供用于对所述掩膜图案进行照明的基本准直光，从而在分隔开泰伯距离的泰伯平面之间产生由一范围的横向强度分布组成的透射光场，并且使得所述透射光场在第一平面中具有强度包络，用所述光对掩膜进行照明同时使衬底在平行于第一平面且平行于衬底的方向上相对于掩膜移位，其中，所述倾斜角和所述强度包络被布置成使得所述层暴露于横向强度分布的范围的平均。
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公开(公告)号：CN108604068A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081700.5
申请日：2016-12-14
Applicant: 尤利塔股份公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于将期望周期图案印刷到基底上的光敏层中的方法，其包括：提供承载周期图案的掩模，该周期图案的周期是期望图案的周期的倍数，将基底设置成接近掩模，提供用于照亮所述掩模图案的至少一个射束以生成用塔尔博特距离描述的透射光场，在许多子曝光中通过在使基底和掩模之间的间隔改变达塔尔博特距离的至少某一分数且小于塔尔博特距离的同时利用至少一个射束照亮掩模图案来将该层曝光给时间积分强度分布，为不同子曝光配置照明或相对于掩模的基底，以使得该层被曝光给在某一方向上且相互横向偏移达某一距离的相同的时间积分强度分布。
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公开(公告)号：CN103080843A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201180043123.8
申请日：2011-07-05
Applicant: 尤利塔股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70408 , G03B27/54 , G03F7/70325 , G03F7/7035
Abstract: 一种用于向光敏层中印刷所需图案的方法包括：提供承载与第一方向平行的线性特征的图案的掩模；布置与所述掩模平行并且从所述掩模分离的层；生成基本上单色光并且在基本上在与所述第一方向平行的平面中的角度范围上用所述光照射掩模图案，由此掩模透射的每个照射角度的光形成在Talbot平面之间的横向强度分布的范围并且在层处形成光场分量，并且所述分量的叠加印刷所需图案，其中相对于波长、间隔和周期选择角度的范围，使得所述分量的叠加基本上等同于光以角度之一形成的横向强度分布范围的平均。
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公开(公告)号：CN108604068B
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201680081700.5
申请日：2016-12-14
Applicant: 尤利塔股份公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于将期望周期图案印刷到基底上的光敏层中的方法，其包括：提供承载周期图案的掩模，该周期图案的周期是期望图案的周期的倍数，将基底设置成接近掩模，提供用于照亮所述掩模图案的至少一个射束以生成用塔尔博特距离描述的透射光场，在许多子曝光中通过在使基底和掩模之间的间隔改变达塔尔博特距离的至少某一分数且小于塔尔博特距离的同时利用至少一个射束照亮掩模图案来将该层曝光给时间积分强度分布，为不同子曝光配置照明或相对于掩模的基底，以使得该层被曝光给在某一方向上且相互横向偏移达某一距离的相同的时间积分强度分布。
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公开(公告)号：CN105229534A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201480028648.8
申请日：2014-03-18
Applicant: 尤利塔股份公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G03F7/7035 , G03F7/70408
Abstract: 一种用于将特征的周期性图案印刷到光敏层中的方法，所述方法包括提供承载周期性图案的掩模，提供承载光敏层的衬底，大体平行于掩模布置衬底，形成准直单色光的射束以用于光照所述掩模图案使得由掩模透射的光场形成通过泰伯距离分离的泰伯图像平面，以及利用所述射束执行掩模的N个子曝光并且在子曝光之间改变分离使得关于在第一子曝光期间的在第i子曝光期间的相对分离由泰伯距离的（mi+ni/N）倍给出，以及将掩模图案曝光于用于每一个子曝光的光照的相同能量密度，其中与波长有关地选择周期使得仅第零和第一衍射级被掩模透射。
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