光学微腔传感器的探测方法和系统

    公开(公告)号:CN118858222B

    公开(公告)日:2025-02-14

    申请号:CN202411273145.9

    申请日:2024-09-12

    Abstract: 本申请涉及光学微腔传感器解调技术领域,具体涉及一种光学微腔传感器的探测方法和系统。其中,光学微腔传感器的探测方法应用于基于光模态局域化效应的光学微腔传感器,光学微腔传感器的探测方法包括:获取基于光模态局域化效应的光学微腔传感器的输出频谱;输出频谱包括一个对称峰和一个反对称峰;测定输出频谱中,对称峰对应的第一谐振振幅与反对称峰对应的第二谐振振幅;基于第一谐振振幅和第二谐振振幅,解调得到基于光模态局域化效应的光学微腔传感器的目标探测物理量。基于对称峰和反对称峰的谐振振幅,解调得到目标探测物理量,实现目标探测物理量的精准测量,且减少受环境中物理量改变的影响。

    一种基于飞秒激光加工的分布式反馈激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN118554258A

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202411008095.1

    申请日:2024-07-26

    Abstract: 本申请涉及激光器制备技术领域,提供一种基于飞秒激光加工的分布式反馈激光器及其制备方法。制备方法包括:提供衬底;在衬底上沉积外延结构;在欧姆接触层沉积条形的第一电极;其中,第一电极沉积在欧姆接触层的中间区域,第一电极沿第一方向延伸;刻蚀限制层和欧姆接触层,得到脊型波导结构;采用飞秒技术在脊型波导结构两侧的波导层制备多个条形的分布式反馈光栅;在衬底背离外延结构的一侧沉积第二电极,退火后得到分布式反馈激光器。该制备方法能够避免精密对准工艺,制备精度高,减少设备成本和生产周期,可以实现规模化生产。同时,该制备方法为非热处理方法,减少了热影响区,提高了材料的光电性能,有利于降低制造成本。

    一种垂直腔表面发射激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN118198859B

    公开(公告)日:2024-07-23

    申请号:CN202410611944.6

    申请日:2024-05-17

    Abstract: 本申请涉及半导体技术领域,提供一种垂直腔表面发射激光器及其制备方法。制备方法包括:提供衬底;在衬底上依次生长缓冲层、N型DBR、空间层、多量子阱层、P‑空间层、薄层和第一P‑GaAs层;生长多条平行的AlAs纳米线、第二P‑GaAs层;形成P型DBR;刻蚀P型DBR,形成多个柱状结构;采用HF溶液腐蚀AlAs纳米线,得到多个线形空腔;沉积第一电极和第二电极,以得到垂直腔表面发射激光器。该制备方法采用激光诱导制备纳米线阵列结构,结合选择性腐蚀工艺,能够提高生产速率。降低对生长工艺和设备的依赖程度,降低工艺门槛,提高制备效率,生产成本低。

    一种长波长垂直腔表面发射激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN118156972B

    公开(公告)日:2024-07-23

    申请号:CN202410585008.2

    申请日:2024-05-13

    Abstract: 本申请涉及半导体技术领域,提供一种长波长垂直腔表面发射激光器及其制备方法,制备方法包括提供衬底,生长缓冲层、N型DBR结构、N‑空间层、多量子阱层、P‑空间层、P型DBR结构,刻蚀多个第二孔洞腐蚀P型DBR结构形成多个环形腔体,沉积第二介质绝缘材料层;沉积第一电极和第二电极,得到长波长垂直腔表面发射激光器。该制备方法采用选择性腐蚀以及介质绝缘材料薄膜沉积的方法来制备下DBR结构,能够有效保证激光器的光电性能,且满足实用性要求,同时还能够有效减少制备对数,提高散热能力,进而提高生产速率。

    一种针对激光吸收光谱的降噪方法及装置

    公开(公告)号:CN115586162A

    公开(公告)日:2023-01-10

    申请号:CN202211194339.0

    申请日:2022-09-28

    Abstract: 本申请公开了一种针对激光吸收光谱的降噪方法及装置,所述方法包括:确定激光照射待测气体时形成的激光吸收光谱;根据待测气体所在气室的当前压强对应的降噪光谱函数,以及当前温度与激光吸收光谱之间的关系,确定当前环境变量下的降噪光谱,降噪光谱与激光吸收光谱位于同一坐标系,当前环境变量包括当前温度和当前压强;通过对比激光吸收光谱和降噪光谱,确定降噪光谱在坐标系中的更新方向和更新位移量;根据更新方向和更新位移量,对降噪光谱在坐标系中的位置进行更新,直到更新后的降噪光谱满足预设条件,满足预设条件的降噪光谱为滤除噪声后的激光吸收光谱。本申请能够降低各种噪声对于待测气体的激光吸收光谱的影响,进而利于检测精度的改善。

    一种高反射率的复合金属电极制备方法

    公开(公告)号:CN114843387A

    公开(公告)日:2022-08-02

    申请号:CN202210437172.X

    申请日:2022-04-25

    Abstract: 本发明提供一种高反射率的复合金属电极制备方法,包括以下制备步骤:步骤1)提供一个GaAs基光电器件外延片,所述GaAs基光电器件外延片的结构其从下至上依次包括GaAs衬底,缓冲层,n‑GaAs欧姆接触层,有源层,p‑GaAs,p‑GaP欧姆接触层;步骤2)对所述GaAs基光电器件外延片进行清洗;步骤3)在清洗后的GaAs基光电器件的p‑GaP欧姆接触层上采用电子束蒸发的镀膜技术蒸镀第一电极层,电极膜层的先后顺序为Zn/Au;步骤4)对Zn/Au电极进行快速热退火;步骤5)在退火后的Zn/Au电极上再次蒸镀第二电极层,电极膜层的先后顺序为Ti/Au。

    一种音叉解调气体流速检测系统及方法

    公开(公告)号:CN114563594A

    公开(公告)日:2022-05-31

    申请号:CN202210171521.8

    申请日:2022-02-24

    Abstract: 本申请实施例提供的音叉解调气体流速检测系统及方法,系统包括泵浦光源、信号发生器、光调制器、热线式光纤、石英音叉、前置放大器、锁相放大器、计算机和风洞,信号发生器与光调制器连接,光调制器的输入端与泵浦光源连接,输出端与热线式光纤连接,热线式光纤设于石英音叉周围,前置放大器的输入端与石英音叉的信号输出端连接,输出端与锁相放大器的输入端连接,锁相放大器的输出端与计算机连接,风洞设于热线式光纤上方。热线式光纤的光热转换,引起周围温度周期性改变造成的压强周期性变化,使石英音叉振动并产生电流信号,由电流信号的差值反演出气体流速。石英音叉只响应与自身共振频率相同的压强变化,电流信号不受外界温度的影响。

    一种倒装柔性GaN基LED及其制备方法

    公开(公告)号:CN114122227A

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN202210087861.2

    申请日:2022-01-26

    Abstract: 本发明涉及半导体光电器件制备技术领域,特别涉及一种倒装柔性GaN基LED及其制备方法,GaN基LED器件下方贴合有键合层,键合层的下方贴合柔性金属衬底。键合层为金、铟、银或锡的任意一种构成的金属层;柔性金属衬底为铜、钼铜或钨钼铜的任意一种金属,柔性金属衬底的制备方法包括电镀或合金化处理。本发明的有益效果为:制备方法简单易行,方便可靠,另外本过程不会对器件产生影响,不会破坏材料结构特性,并且针对在硅衬底上生长得到的GaN基LED芯片,在制备过程中不经过传统工艺的高温过程,具有很好的工艺兼容性。不需要蒸镀厚的金层,降低了生产成本。应用范围广,可适用于所有的GaN基LED器件,尤其适用于提高紫外LED的出光效率。

    一种基于侧向外延的激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN118712886B

    公开(公告)日:2025-01-21

    申请号:CN202411195547.1

    申请日:2024-08-29

    Abstract: 本申请涉及激光器制备技术领域,提供一种基于侧向外延的激光器及其制备方法。制备方法包括:在衬底上生长缓冲层;形成多个第一台面结构;生长N‑GaAs层;形成第二台面结构;生长量子阱结构;形成第三台面结构;生长P‑GaAs层;去除第三台面结构表面的P‑GaAs层,形成第四台面结构;去除第一台面结构并制备N‑金属电极;制备P‑金属电极,得到基于侧向外延的激光器。该制备方法利用外延生长替代刻蚀技术,将竖向结构转换为横向结构,能够有效降低工艺复杂度,降低制备方法对高端设备的依赖,有效降低生产成本,节约生产时间,同时还能够提高制备均匀性,提高生产良率。

    一种长波长垂直腔表面发射激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN118156970B

    公开(公告)日:2024-07-23

    申请号:CN202410584759.2

    申请日:2024-05-13

    Abstract: 本申请涉及半导体技术领域,提供一种长波长垂直腔表面发射激光器及其制备方法。制备方法包括提供衬底;在衬底上依次生长缓冲层;在缓冲层生长N型DBR;腐蚀形成第一孔洞;沉积第一介质绝缘材料层;在N型DBR生长N‑空间层、多量子阱层、P‑空间层、P型DBR;刻蚀形成第二孔洞,在第二孔洞的轴向形成多个间隔分布的环形空腔;填充第二介质绝缘材料层;沉积第一电极和第二电极。该制备方法采用选择性腐蚀以及介质绝缘材料薄膜沉积的方法来制备下DBR结构,能够有效保证激光器的光电性能,且满足实用性要求,同时还能够有效减少制备对数,提高散热能力,进而提高生产速率。

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