公开(公告)号：CN105555889B

公开(公告)日：2018-11-27

申请号：CN201480051205.0

申请日：2014-07-08

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： M·劳特尔 ,  Y·李 ,  B·M·诺勒 ,  R·朗格 ,  R·赖夏特 ,  兰永清 ,  V·博伊科 ,  A·克劳泽 ,  J·冯 ,  塞耶尔 ,  S·A·奥斯曼 ,  易卜拉欣 ,  M·西伯特 ,  K·哈特纳格尔 ,  J·登勒 ,  N·S·希勒沙姆

IPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  C09G1/04 ,  C09G1/00

CPC分类号： C09G1/02 ,  C09D5/027 ,  C09D7/65 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

摘要： 本发明描述一种包含含氧化铈磨料粒子的化学机械抛光(CMP)组合物。

公开(公告)号：CN103210047B

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201180053707.3

申请日：2011-09-06

申请人： 巴斯夫欧洲公司

发明人： B·诺勒 ,  D·弗朗茨 ,  Y·李 ,  S·A·奥斯曼 ,  易卜拉欣 ,  H·W·平德尔 ,  S·S·文卡塔拉曼

IPC分类号： H01L21/312 ,  C09G1/04 ,  A01N51/00

CPC分类号： C09K13/00 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

摘要： 本发明涉及一种含水抛光组合物，其包含：(A)至少一种水溶性或水分散性化合物，其选自N‑取代的二氮烯二氧化物和N′‑羟基‑二氮烯氧化物盐；和(B)至少一种类型的磨料颗粒；化合物(A)在制造电子、机械和光学器件中的用途以及利用所述含水抛光组合物抛光电子、机械和光学器件用基底材料的方法。