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公开(公告)号:CN114728785B
公开(公告)日:2024-10-01
申请号:CN202080072253.3
申请日:2020-10-16
申请人: 巴斯夫欧洲公司 , 加利福尼亚大学董事会
IPC分类号: C01B7/04
摘要: 本发明涉及一种由氯化氢制备氯气的方法,该方法包括在包括三个鼓泡提升反应器I、II和III的反应器体系中循环包含铜离子Cun+(其中n为1‑2的数值)、碱阳离子和氯离子Cl‑的液体熔体,各反应器分别包括反应区i、ii和iii,其中:·(a)在第一鼓泡提升反应器I的反应区i中,使包含铜离子Cun+、碱阳离子和氯离子Cl‑的液体熔体在395‑405℃的温度下与氧气接触,使得液体熔体中的摩尔比Cu2+:Cu+增加,获得具有增加的摩尔比Cu2+:Cu+的液体熔体;·(b)将(a)中获得的液体熔体循环至第二鼓泡提升反应器II中的反应区ii,其中使液体熔体在395‑405℃的温度下与氯化氢接触,使得形成水,获得与根据(a)获得的液体熔体相比富含氯阴离子(Cl‑)的液体熔体;·(c)将(b)中获得的液体熔体循环至第三鼓泡提升反应器III中的反应区iii,其在420‑430℃的温度下操作,使得形成氯气(Cl2),其中Cl2以气态形式分别由反应区iii和第三鼓泡提升反应器III中移除,留下与根据(b)获得的液体熔体相比贫Cl‑的液体熔体。本发明进一步涉及包括三个鼓泡提升反应器I、II和III的反应器体系。
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公开(公告)号:CN114728785A
公开(公告)日:2022-07-08
申请号:CN202080072253.3
申请日:2020-10-16
申请人: 巴斯夫欧洲公司 , 加利福尼亚大学董事会
IPC分类号: C01B7/04
摘要: 本发明涉及一种由氯化氢制备氯气的方法,该方法包括在包括三个鼓泡提升反应器I、II和III的反应器体系中循环包含铜离子Cun+(其中n为1‑2的数值)、碱阳离子和氯离子Cl‑的液体熔体,各反应器分别包括反应区i、ii和iii,其中:(a)在第一鼓泡提升反应器I的反应区i中,使包含铜离子Cun+、碱阳离子和氯离子Cl‑的液体熔体在395‑405℃的温度下与氧气接触,使得液体熔体中的摩尔比Cu2+:Cu+增加,获得具有增加的摩尔比Cu2+:Cu+的液体熔体;(b)将(a)中获得的液体熔体循环至第二鼓泡提升反应器II中的反应区ii,其中使液体熔体在395‑405℃的温度下与氯化氢接触,使得形成水,获得与根据(a)获得的液体熔体相比富含氯阴离子(Cl‑)的液体熔体;(c)将(b)中获得的液体熔体循环至第三鼓泡提升反应器III中的反应区iii,其在420‑430℃的温度下操作,使得形成氯气(Cl2),其中Cl2以气态形式分别由反应区iii和第三鼓泡提升反应器III中移除,留下与根据(b)获得的液体熔体相比贫Cl‑的液体熔体。本发明进一步涉及包括三个鼓泡提升反应器I、II和III的反应器体系。
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公开(公告)号:CN111727272B
公开(公告)日:2023-04-28
申请号:CN201880079938.3
申请日:2018-09-17
发明人: D·D·施魏因富特 , L·迈尔 , S·V·克伦克 , S·魏戈尼 , C·H·温特 , K·布莱克尼 , N·韦拉滕加西里卡图格 , T·M·A·N·卡鲁纳拉特
IPC分类号: C23C16/20 , C23C16/06 , C23C16/08 , C23C16/455
摘要: 本发明属于制备无机含金属膜的方法的领域。该方法包括使固体基材与呈气态的通式(I)、(II)、(III)或(IV)化合物接触,其中A为NR2或OR,其中R为烷基、链烯基、芳基或甲硅烷基,E为NR或O,n为0、1或2,m为0、1或2,且R'为氢、烷基、链烯基、芳基或甲硅烷基。
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公开(公告)号:CN107531482B
公开(公告)日:2021-11-16
申请号:CN201680024775.X
申请日:2016-04-19
申请人: 巴斯夫欧洲公司
摘要: 本发明涉及降低或防止组合物Z分解的方法,所述组合物Z包含:Z1 50‑100重量%的量的连二亚硫酸盐,和任选Z2 0.0001‑40重量%的量的添加剂,所述添加剂选自碱金属碳酸盐、碱土金属碳酸盐、碱金属或碱土金属三聚磷酸盐(Na5P3O10)、碱金属或碱土金属亚硫酸盐、焦亚硫酸盐或硫酸盐、右旋糖和络合剂,所述方法包括使固体和/或干或者溶剂溶解或悬浮状态的组分Z1和任选Z2与固体和/或干或者溶剂溶解或悬浮状态的以下化合物V中的至少一种接触,其中化合物V选自:(a)碱金属锂、钠、钾、铷、铯或镁的氧化物,(b)四氢硼酸钠(NaBH4),(c)无水硫酸铜(II)(Cu(SO4))、五氧化二磷,和(d)碱性氨基酸精氨酸、赖氨酸、组氨酸,其中Z1、任选Z2和V的溶剂实际上是无水的。
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公开(公告)号:CN111954674A
公开(公告)日:2020-11-17
申请号:CN201980024905.3
申请日:2019-04-10
IPC分类号: C07F5/06 , C23C16/12 , C23C16/455
摘要: 本发明属于在衬底上产生无机薄膜的方法的领域,特别是原子层沉积方法。其涉及一种制备含金属的膜的方法,包括:(a)将含金属化合物由气态沉积到固体衬底上,和(b)使沉积有含金属化合物的固体衬底与通式(I)化合物接触,其中Z为C2‑C4亚烷基,且R为氢、烷基、链烯基、芳基或甲硅烷基。
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公开(公告)号:CN107075678A
公开(公告)日:2017-08-18
申请号:CN201580006067.9
申请日:2015-01-22
申请人: 巴斯夫欧洲公司
发明人: K·许 , C·席尔德克内希特 , J·施皮尔曼 , J·弗朗克 , F·布拉斯伯格 , M·盖特纳 , D·勒夫勒 , S·魏戈尼 , K·希尔勒-阿恩特 , K·费得塞勒 , F·阿贝尔斯 , T·阿德尔曼
IPC分类号: C23C16/455 , C07F3/00
CPC分类号: C23C16/45553 , C07F3/00 , C07F3/003 , C07F15/045 , C07F15/065
摘要: 本发明涉及一种产生基材上的薄无机膜的方法,特别是原子层沉积方法。该方法包括使通式(I)的化合物变为气态或气溶胶状态和将通式(I)的化合物由气态或气溶胶状态沉积至固体基材上,其中R1、R2、R3、R4、R5和R6相互独立地为氢、烷基或三烷基甲硅烷基,n为1至3的整数,M为金属或半金属,X为与M配位的配体,且m为0至4的整数。
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公开(公告)号:CN117693491A
公开(公告)日:2024-03-12
申请号:CN202280049512.X
申请日:2022-07-12
申请人: 巴斯夫欧洲公司
IPC分类号: C01G53/00
摘要: 本发明涉及制备TM的颗粒状(氧)氢氧化物的方法,其中TM表示金属的组合,并且其中TM包含镍和至少一种选自钴、铝和锰的金属,其中所述方法包括以下步骤:(a)将金属镍和至少一种选自铝和除镍以外的过渡金属的金属的含水浆料与选自氧气和硝酸盐的氧化剂在第一反应容器或第一组反应容器中在5‑40℃的温度下合并,(b)将含水反应介质从第一反应容器转移至第二反应容器,其中所述第二反应容器包含TM的氢氧化物的浆料,其中步骤(b)中的pH值高于步骤(a),并且温度为45‑80℃,从而形成并生长TM的氢氧化物的颗粒,(c)通过固液分离方法从液体中移除来自步骤(b)的颗粒并干燥颗粒,(d)将步骤(c)中获得的液相返回至第一反应容器。
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公开(公告)号:CN111954674B
公开(公告)日:2023-09-29
申请号:CN201980024905.3
申请日:2019-04-10
IPC分类号: C07F5/06 , C23C16/12 , C23C16/455
摘要: 本发明属于在衬底上产生无机薄膜的方法的领域,特别是原子层沉积方法。其涉及一种制备含金属的膜的方法,包括:(a)将含金属化合物由气态沉积到固体衬底上,和(b)使沉积有含金属化合物的固体衬底与通式(I)化合物接触,其中Z为C2‑C4亚烷基,且R为氢、烷基、链烯基、芳基或甲硅烷基。#imgabs0#
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公开(公告)号:CN111466051A
公开(公告)日:2020-07-28
申请号:CN201880079897.8
申请日:2018-12-10
申请人: 巴斯夫欧洲公司
摘要: 从含镍和锂的正极活性材料中回收过渡金属的方法,其中所述方法包括以下步骤:(a)用浸提剂(优选选自硫酸、盐酸、硝酸、甲磺酸、草酸和柠檬酸的酸)处理含锂过渡金属氧化物材料,(b)将pH值调节至2.5-8,和(c)用金属镍、钴或锰或前述中至少两种的组合处理步骤(b)中获得的溶液。
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公开(公告)号:CN107406981A
公开(公告)日:2017-11-28
申请号:CN201680014837.9
申请日:2016-03-02
申请人: 巴斯夫欧洲公司
IPC分类号: C23C16/455 , C23C16/18 , C23C16/40 , C07D207/08 , C07F7/08
CPC分类号: C07F7/0814 , C07D207/08 , C09D1/00 , C23C16/18 , C23C16/409 , C23C16/45553
摘要: 本发明属于在基材上产生薄无机膜的方法的领域。特别地,本发明涉及一种方法,其包括使通式(I)化合物变为气态或气溶胶状态和将该通式(I)化合物由该气态或气溶胶状态沉积至固体基材上,其中R1、R2、R3、R4彼此独立地为氢、烷基、芳基或SiA3基团,其中A为烷基或芳基,且R1、R2、R3、R4中的至少两个为SiA3基团,n为1至4的整数,M为金属或半金属,X为与M配位的配体,和m为0至4的整数。
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