一种光亮铜膜或铜合金膜减反射工艺

    公开(公告)号:CN109554700A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201910098104.3

    申请日:2019-01-31

    IPC分类号: C23C22/73 C23C22/78

    CPC分类号: C23C22/73 C23C22/78

    摘要: 本发明涉及一种光亮铜膜或铜合金膜减反射工艺,所述工艺为:对光亮的铜膜或铜合金膜进行黑氧化处理,黑氧化处理的温度为40-60℃,时间为0.5-5min,处理结束后烘干,降低了铜膜或铜合金膜的反射率;所述光亮的铜膜或铜合金膜的厚度为0.1-1μm,在380-780nm波长内的反射率>30%。本发明通过对试剂的调配以及工艺条件的优化,实现了对氧化铜层厚度的精确控制。在保证铜膜或铜合金膜导电性满足要求的前提下,大幅降低其反射率,铜膜或铜合金膜在380-780nm波长范围内的平均反射率降低至15%以下,具有良好的应用前景。

    一种黑化液及其制备方法和使用方法

    公开(公告)号:CN111748810A

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN202010619739.6

    申请日:2020-06-30

    IPC分类号: C23C22/52

    摘要: 本发明公开了一种黑化液及其制备方法和使用方法。本发明的黑化液以水为溶剂,包含质量浓度如下的组分:二氧化硒0.1~5g/L、分散剂0.1~5g/L、缓冲剂0.1~10g/L。本发明的黑化液,不仅能够起到很好的黑化效果,明显降低铜的反射率和亮度,目视不明显,达到消影效果,而且铜面黑化均匀、铜网格线路完整、不影响其导电性能,具有良好的黑化效果稳定性。本发明的黑化液的制备方法简单,使用温度贴近常温、操作方便,黑化方法简单、成本低、黑化效果稳定。

    一种线路板的孔金属化工艺

    公开(公告)号:CN108471680A

    公开(公告)日:2018-08-31

    申请号:CN201810462184.1

    申请日:2018-05-15

    IPC分类号: H05K3/42

    摘要: 本发明提供了一种线路板的孔金属化工艺,所述孔金属化工艺为化学镀铜工艺或直接电镀工艺,包括在除油之前,对线路板进行烘烤。所述化学镀铜工艺包括如下步骤:依次对线路板进行去钻污、烘烤、除油、微蚀、预浸、活化、活化还原/速化和化学镀铜。本发明提供的孔金属化工艺能够有效避免线路板孔壁发生漏镀现象,提高导电材料与孔壁间的结合强度,防止二者分离,仅需一次孔金属化和一次电镀即可使孔壁被完全覆盖,减少了孔金属化所需的工序。