公开(公告)号：CN101874292B

公开(公告)日：2013-02-13

申请号：CN200880117690.1

申请日：2008-12-15

申请人： 应用材料公司

发明人： 刘炜 ,  乔黑尼斯·F·斯温伯格 ,  哈恩·D·阮 ,  桑·T·阮 ,  罗杰·柯蒂斯 ,  菲利普·A·博蒂尼 ,  迈克尔·J·马克

IPC分类号： H01L21/3065 ,  H05H1/34

CPC分类号： H01L21/68742 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32623 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/68735

摘要： 本发明一般地提供在处理过程中控制边缘表现的方法与设备。本发明一个实施例提供的设备包括界定处理空间的腔室主体、设置以将处理气体流入处理空间的气体入口、及配置于处理空间中的支撑底座。支撑底座包括顶部平板，其具有设置以于背侧上接收并支撑基板的基板支撑表面、与设置以沿着基板的外边缘围绕基板的边缘表面，而基板的顶表面与边缘表面间的高度差用来控制基板的边缘区域对处理气体的暴露。