公开(公告)号：CN104704141B

公开(公告)日：2020-08-28

申请号：CN201380051375.4

申请日：2013-09-16

申请人： 应用材料公司

发明人： 大桥贤吾 ,  桥本孝男 ,  阿部忍

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23C16/04

摘要： 本发明一般提供一种具有遮覆框支撑件的处理腔室，遮覆框支撑件导引清洁气体流至腔室的角落。遮覆框支撑件沿着部分的腔室壁设置，因此遗留角落成空着的状态。在清洁期间，遮覆框以置于基板支撑件与遮覆框支撑件上的方式设置。因此，沿着腔室壁流动的清洁气体由遮覆框支撑件阻挡，且由于遮覆框支撑件没有延伸到角落，清洁气体被迫使到角落。

公开(公告)号：CN104704141A

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201380051375.4

申请日：2013-09-16

申请人： 应用材料公司

发明人： 大桥贤吾 ,  桥本孝男 ,  阿部忍

IPC分类号： C23C16/00 ,  C23C16/04

摘要： 本发明一般提供一种具有遮覆框支撑件的处理腔室，遮覆框支撑件导引清洁气体流至腔室的角落。遮覆框支撑件沿着部分的腔室壁设置，因此遗留角落成空着的状态。在清洁期间，遮覆框以置于基板支撑件与遮覆框支撑件上的方式设置。因此，沿着腔室壁流动的清洁气体由遮覆框支撑件阻挡，且由于遮覆框支撑件没有延伸到角落，清洁气体被迫使到角落。