公开(公告)号：CN119487234A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202280097767.3

申请日：2022-10-19

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 迪特尔·哈斯 ,  于尔根·亨里奇 ,  塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 ,  亨宁·奥斯特 ,  约尔格·舒勒 ,  安治高志

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  H10K71/00 ,  H10K99/00

Abstract: 描述一种用于处理多个基板的基板处理系统。所述基板处理系统包括：一个或多个真空腔室；至少第一沉积源和第二沉积源，所述第一沉积源和所述第二沉积源被提供在一个或多个真空腔室中，所述第一沉积源在第一角方向上提供第一沉积区域，并且所述第二沉积源提供第二沉积区域；至少第一空闲屏蔽物，所述第一空闲屏蔽物与第一沉积源相关联，所述第一空闲屏蔽物被配置为阻挡在第一沉积源的第二角方向上的所蒸发的材料；基板运输轨道，所述基板运输轨道被配置为通过平移来移动多个基板中的第一基板通过第一沉积区域和第二沉积区域；和屏蔽物运输轨道，所述屏蔽物运输轨道在基板运输轨道与第一沉积源之间，所述屏蔽物运输轨道被配置为通过平移来在第一沉积区域的第一屏蔽物位置与第一沉积区域的第二屏蔽物位置之间来回移动屏蔽物。