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公开(公告)号：CN114144872A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN201980098413.9
申请日：2019-07-25
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 于尔根·亨里奇
IPC: H01L21/677
Abstract: 描述了一种用于基板处理系统的真空取向模块。所述模块包括至少第一真空取向腔室，包括：真空腔室；第一运输轨道，所述第一运输轨道在所述真空腔室内，所述第一运输轨道具有第一支撑结构和第一驱动结构并且限定运输方向；取向致动器，所述取向致动器在非竖直取向与非水平取向之间改变基板取向，所述真空腔室在所述运输方向上在所述真空腔室的相对侧壁处具有第一对两个狭缝开口、特别是基本上竖直的狭缝开口；和第二运输轨道，所述第二运输轨道在所述真空腔室内，所述第二运输轨道具有沿所述运输方向延伸的第二支撑结构和第二驱动结构，所述真空腔室在所述真空腔室的所述相对侧壁处具有第二对两个狭缝开口。
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公开(公告)号：CN110546297A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201880007193.X
申请日：2018-03-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 马蒂亚斯·赫曼尼斯 , 斯蒂芬·班格特 , 托马索·维尔切斯 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
Abstract: 提供一种用于基板的光学检查的系统。此系统包括至少第一处理腔室及第二处理腔室。此系统包括至少传送腔室，用以从第一处理腔室接收基板及用以传送所述基板至第二处理腔室。传送腔室设置有检查装置，检查装置用以对在第一处理腔室中处理的基板执行光学检查。
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公开(公告)号：CN108966675A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201780005624.4
申请日：2017-04-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 奥利弗·海默尔 , 斯蒂芬·班格特
IPC: H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67709 , H01L21/67712 , H01L21/67715
Abstract: 说明一种用于在处理系统中路由载体的设备。所述设备包括第一保持组件，附接于真空腔室，用于沿着第一方向传送载体；第二保持组件，附接于真空腔室，用于沿着第二方向传送载体，第二方向不同于第一方向；和可旋转支撑件，用于从第一方向旋转载体至第二方向。
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公开(公告)号：CN119487234A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202280097767.3
申请日：2022-10-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述一种用于处理多个基板的基板处理系统。所述基板处理系统包括：一个或多个真空腔室；至少第一沉积源和第二沉积源，所述第一沉积源和所述第二沉积源被提供在一个或多个真空腔室中，所述第一沉积源在第一角方向上提供第一沉积区域，并且所述第二沉积源提供第二沉积区域；至少第一空闲屏蔽物，所述第一空闲屏蔽物与第一沉积源相关联，所述第一空闲屏蔽物被配置为阻挡在第一沉积源的第二角方向上的所蒸发的材料；基板运输轨道，所述基板运输轨道被配置为通过平移来移动多个基板中的第一基板通过第一沉积区域和第二沉积区域；和屏蔽物运输轨道，所述屏蔽物运输轨道在基板运输轨道与第一沉积源之间，所述屏蔽物运输轨道被配置为通过平移来在第一沉积区域的第一屏蔽物位置与第一沉积区域的第二屏蔽物位置之间来回移动屏蔽物。
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公开(公告)号：CN112204164A
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN201880093518.0
申请日：2018-05-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 斯蒂芬·班格特 , 栗田真一 , 于尔根·亨里奇 , 安德里亚斯·索尔
IPC: C23C14/04 , C23C14/56 , H01L21/677
Abstract: 描述一种在真空系统中处理掩模的方法。所述方法包括(a)在真空系统中沿着传送路径以非水平定向(V)传送运载第一掩模(11)的掩模载体(10)；(b)将运载第一掩模(11)的掩模载体(10)的定向从非水平定向(V)改变为基本上水平的定向(H)；和(c)从在真空系统中以基本上水平定向(H)布置的掩模载体(10)卸载第一掩模(11)。根据另外的方面，描述一种真空系统，包括掩模处理模块，所述掩模处理模块用于处理掩模。(图1C)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108966657B
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201780011626.4
申请日：2017-03-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔
IPC: C23C14/04 , H01F7/02 , B23Q3/154 , H01L21/677
Abstract: 说明一种用于在真空系统中使用的载体(20)。所述载体(20)包括：磁体布置(30)，所述磁体布置(30)包括一个或多个第一永磁体(32)；一个或多个第二永磁体(34)；和磁体装置(36)，经构造以改变一个或多个第一永磁体的磁化。载体可用于在真空系统中运载掩模装置或基板。此外，说明了一种真空系统(200)和一种操作真空系统的方法。
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公开(公告)号：CN110494587A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201880003483.7
申请日：2018-03-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 马蒂亚斯·赫曼尼斯 , 托马索·维尔切斯 , 斯蒂芬·班格特
Abstract: 本公开内容提供了一种处理基板的方法。所述方法包括：将具有多个沉积开口(21)的掩模运输到处理腔室中；将具有背面图案(11)的基板运输到所述处理腔室中；使所述基板(10)相对于所述掩模(20)对准(780)；和用光学检查装置(440)来至少局部地检查(790)所述多个沉积开口(21)与所述背面图案(11)之间的偏移。
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公开(公告)号：CN108966657A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201780011626.4
申请日：2017-03-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 安德烈亚斯·索尔
IPC: C23C14/04 , H01F7/02 , B23Q3/154 , H01L21/677
Abstract: 说明一种用于在真空系统中使用的载体(20)。所述载体(20)包括：磁体布置(30)，所述磁体布置(30)包括一个或多个第一永磁体(32)；一个或多个第二永磁体(34)；和磁体装置(36)，经构造以改变一个或多个第一永磁体的磁化。载体可用于在真空系统中运载掩模装置或基板。此外，说明了一种真空系统(200)和一种操作真空系统的方法。
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公开(公告)号：CN114144872B
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN201980098413.9
申请日：2019-07-25
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 于尔根·亨里奇
IPC: H01L21/677
Abstract: 描述了一种用于基板处理系统的真空取向模块。所述模块包括至少第一真空取向腔室，包括：真空腔室；第一运输轨道，所述第一运输轨道在所述真空腔室内，所述第一运输轨道具有第一支撑结构和第一驱动结构并且限定运输方向；取向致动器，所述取向致动器在非竖直取向与非水平取向之间改变基板取向，所述真空腔室在所述运输方向上在所述真空腔室的相对侧壁处具有第一对两个狭缝开口、特别是基本上竖直的狭缝开口；和第二运输轨道，所述第二运输轨道在所述真空腔室内，所述第二运输轨道具有沿所述运输方向延伸的第二支撑结构和第二驱动结构，所述真空腔室在所述真空腔室的所述相对侧壁处具有第二对两个狭缝开口。
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公开(公告)号：CN114127909B
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN201980098401.6
申请日：2019-07-25
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 于尔根·亨里奇
IPC: H01L21/677
Abstract: 描述了一种用于基板处理系统的真空取向模块。所述模块包括至少第一真空取向腔室，包含：真空腔室；运输轨道，所述运输轨道在所述真空腔室内，所述运输轨道具有支撑结构和驱动结构并且限定运输方向；和取向致动器，所述取向致动器用于在非竖直取向与非水平取向之间改变基板取向，所述真空腔室在所述运输方向上在所述真空腔室的相对侧壁处具有两个狭缝开口、特别是两个基本上竖直的狭缝开口。
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