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公开(公告)号:CN113518835A
公开(公告)日:2021-10-19
申请号:CN202080017920.8
申请日:2020-02-26
申请人: 应用材料公司
IPC分类号: C23C16/455 , C23C16/30 , C23C16/44 , H01J37/32
摘要: 本文描述的实施例提供形成非晶氟化金属膜的方法。该方法包括:将物体定位在具有处理区域的原子层沉积(ALD)腔室中;使用原子层沉积(ALD)工艺在物体上沉积含金属氧化物层;使用活化氟化工艺在含金属氧化物层上沉积金属氟层;及重复沉积含金属氧化物层和沉积含金属氧化物层,直到形成具有预定膜厚度的氟化金属膜为止。活化氟化工艺包括将氟前驱物(FP)的第一流引入处理区域。FP包括至少一种有机氟试剂或至少一种氟化气体。