-
公开(公告)号：CN101396805A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200710165592.2
申请日：2007-11-22
申请人： 应用材料股份有限公司
发明人： 史蒂文·M·苏尼加 , 安德鲁·J·纳甘盖斯特 , 吴正勋
IPC分类号： B24B37/04 , B24B29/00 , H01L21/304
摘要： 本发明描述了一种具有底座组件、保持环组件、夹持环和柔性膜的研磨头。该底座组件相对于该罩可垂直移动。该保持环连接至该底座组件并相对于该底座组件可垂直移动，且具有构造为接触研磨垫的下表面和构造为外周围绕衬底的边缘以保持衬底的内表面。该夹持环连接至该底座组件并相对于该底座组件垂直固定，外周围绕该保持环以防止该保持环的横向移动，并且具有构造为接触研磨垫的底表面。
-
公开(公告)号：CN101293334A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200710165597.5
申请日：2007-11-22
申请人： 应用材料股份有限公司
发明人： 史蒂文·M·苏尼加 , 安德鲁·J·纳甘盖斯特 , 吴正勋
IPC分类号： B24B37/04 , B24B41/047 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/30 , Y10T428/24174 , Y10T428/24182
摘要： 本发明描述了一种具有底座组件、保持环组件、夹持环和柔性膜的研磨头。该柔性膜具有主要部分和外环形部分，其中该主要部分和该外环形部分之间的接合点包括外围边缘铰链和沿该外环形部分的外壁的铰链上方的凹陷。
-
公开(公告)号：CN101293332A
公开(公告)日：2008-10-29
申请号：CN200710165591.8
申请日：2007-11-22
申请人： 应用材料股份有限公司
发明人： 史蒂文·M·苏尼加 , 安德鲁·J·纳甘盖斯特 , 吴正勋
IPC分类号： B24B37/04 , B24B29/00 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/32
摘要： 本发明描述了一种具有底座组件、保持环组件、夹持环和柔性膜的研磨头。一种保持环组件具有设计形状以提供环形腔室的柔性膜和环形保持环，其中该柔性膜的环形同心凸起设计尺寸以啮合入该环形保持环的环形同心凹陷中。
-
公开(公告)号：CN101058169A
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：CN200710085240.6
申请日：2007-02-15
申请人： 应用材料股份有限公司
发明人： 本杰明·A·邦纳 , 彼得·麦克雷诺 , 格雷戈里·E·门克 , 格沛拉克里西那·B·普拉布 , 阿南德·N·莱尔 , 加伦·C·勒温 , 史蒂文·M·苏尼加 , 埃里克·S·朗登 , 亨利·H·奥
IPC分类号： B24D11/00 , B24D11/02 , B24B29/00 , B24B41/047 , B24D18/00 , H01L21/304
CPC分类号： B24B21/06 , B24B21/04 , B24B21/12 , B24B37/12 , B24B37/205 , B24B37/26 , B24D11/001
摘要： 本发明提供一种抛光装置。该抛光装置包括：可旋转压盘；驱动机构，用于以线性方向逐渐推进具有抛光表面的抛光片通过所述压盘；在所述压盘上的子垫，用于支撑所述抛光片，所述子垫具有形成于其中的凹槽；以及真空源，其与所述子垫的凹槽相连接并且配置用于提供足以将部分所述抛光片拉入所述子垫的凹槽中的真空，以在所述抛光表面形成凹槽。
-
公开(公告)号：CN1943989B
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200610152486.6
申请日：2006-09-29
申请人： 应用材料股份有限公司
IPC分类号： B24B29/02 , H01L21/304 , B24B41/04
摘要： 本发明公开了用于化学机械抛光的系统，该系统具有包括能够配置为压力区的可加压腔的承载头。该系统包括具有膜的用于在抛光期间和衬底接触的承载头。位于膜后面的可加压腔与压力输入连通。该压力输入可以向可加压腔施加不同的压力。某些可加压腔可以和不止一个压力输入连接。可以排列压力区域，其中每个区域包括一个或者多个可加压腔。通过改变构成每个压力区域的可加压腔来配置所述区域。
-
公开(公告)号：CN100461364C
公开(公告)日：2009-02-11
申请号：CN200510060159.3
申请日：2005-03-25
申请人： 应用材料股份有限公司
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/304 , B24B37/04
CPC分类号： B24B37/30
摘要： 一种用于基材的化学机械研磨程序的承载体(carrier head，或称承载头)，其包括一基底与一个延伸在基底下方的弹性膜。该弹性膜包括一个具有一外表面的中心部位，以提供一基材接收表面；一边缘部位，以连接该中心部位与该基底；以及至少一个由该中心部位的内表面延伸出的褶板。该褶板将弹性膜与基底之间的容积分割成数个腔室，且该褶板包括一个横向延伸的第一部位与一个弯曲的第二部位，该弯曲的第二部位延伸在该第一部位的下方，且连接该横向延伸的第一部位至该中心部位。
-
公开(公告)号：CN101244535A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200710163299.2
申请日：2007-02-15
申请人： 应用材料股份有限公司
发明人： 本杰明·A·邦纳 , 彼得·麦克雷诺 , 格雷戈里·E·门克 , 格沛拉克里西那·B·普拉布 , 阿南德·N·莱尔 , 加伦·C·勒温 , 史蒂文·M·苏尼加 , 埃里克·S·朗登 , 亨利·H·奥
IPC分类号： B24B29/00 , B24B1/00 , H01L21/304
CPC分类号： B24B21/06 , B24B21/04 , B24B21/12 , B24B37/12 , B24B37/205 , B24B37/26 , B24D11/001
摘要： 本发明提供一种抛光装置。该抛光装置包括：可旋转压盘；驱动机构，用于以线状方向逐渐推进具有抛光表面的抛光片通过所述压盘；在所述压盘上的子垫，用于支撑所述抛光片，所述子垫具有形成于其中的凹槽；以及真空源，其与所述子垫的凹槽相连接并且配置用于提供足以将部分所述抛光片拉入所述子垫的凹槽中的真空，以在所述抛光表面形成凹槽。
-
公开(公告)号：CN101456154B
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：CN200910002938.6
申请日：2005-03-25
申请人： 应用材料股份有限公司
IPC分类号： B24B29/02 , B24B37/04 , B24B7/22 , H01L21/304 , B24B41/06
CPC分类号： B24B37/30
摘要： 一种用于基材的化学机械研磨程序的承载体(carrier head，或称承载头)，其包括一基底与一个延伸在基底下方的弹性膜。该弹性膜包括一个具有一外表面的中心部位，以提供一基材接收表面；一边缘部位，以连接该中心部位与该基底；以及至少一个由该中心部位的内表面延伸出的褶板。该褶板将弹性膜与基底之间的容积分割成数个腔室，且该褶板包括一个横向延伸的第一部位与一个弯曲的第二部位，该弯曲的第二部位延伸在该第一部位的下方，且连接该横向延伸的第一部位至该中心部位。
-
公开(公告)号：CN101396805B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200710165592.2
申请日：2007-11-22
申请人： 应用材料股份有限公司
发明人： 史蒂文·M·苏尼加 , 安德鲁·J·纳甘盖斯特 , 吴正勋
IPC分类号： B24B37/04 , B24B29/00 , H01L21/304
摘要： 本发明描述了一种具有底座组件、保持环组件、夹持环和柔性膜的研磨头。该底座组件相对于该罩可垂直移动。该保持环连接至该底座组件并相对于该底座组件可垂直移动，且具有构造为接触研磨垫的下表面和构造为外周围绕衬底的边缘以保持衬底的内表面。该夹持环连接至该底座组件并相对于该底座组件垂直固定，外周围绕该保持环以防止该保持环的横向移动，并且具有构造为接触研磨垫的底表面。
-
公开(公告)号：CN1943989A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200610152486.6
申请日：2006-09-29
申请人： 应用材料股份有限公司
IPC分类号： B24B29/02 , H01L21/304 , B24B41/04
摘要： 本发明公开了用于化学机械抛光的系统，该系统具有包括能够配置为压力区的可加压腔的承载头。该系统包括具有膜的用于在抛光期间和衬底接触的承载头。位于膜后面的可加压腔与压力输入连通。该压力输入可以向可加压腔施加不同的压力。某些可加压腔可以和不止一个压力输入连接。可以排列压力区域，其中每个区域包括一个或者多个可加压腔。通过改变构成每个压力区域的可加压腔来配置所述区域。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
14 条记录 (耗时 0.03 秒)
