用于进行拉曼光谱学的纳米线集光器

    公开(公告)号:CN102483379A

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:CN200980160669.4

    申请日:2009-07-30

    CPC classification number: G01N21/658

    Abstract: 本发明实施例涉及用于进行表面增强拉曼光谱学的系统。在一个实施例中,用于进行拉曼光谱学的系统(100、400、600、800、900、950)包括对于一系列波长的电磁辐射基本透明的基板和布置在基板的表面上的多个纳米线(104、602)。纳米线对于一系列波长的电磁辐射基本透明。该系统包括布置在每一个纳米线上的材料。所述电磁辐射透射到基板内,进入纳米线并从纳米线的末端射出,以产生来自位于材料上或靠近材料的分子的增强的拉曼散射光。

    用于表面增强拉曼光谱术的光放大装置

    公开(公告)号:CN102472666A

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200980160869.X

    申请日:2009-07-08

    CPC classification number: G01N21/658 B82Y20/00

    Abstract: 本文公开一种用于表面增强拉曼光谱术的光放大装置(10、10’、10”、10”’)。装置(10、10’、10”、10”’)包括具有两个相对的表面(S1、S2)的介电层(12)。介电层(12)的折射率高于与其直接相邻的材料或环境的折射率。至少一个开口(16)形成在介电层(12)的两个相对的表面(S1、S2)中的一个(S1)中,并且至少一个纳米天线(18、18’)设置在介电层(12)的两个相对的表面(S1、S2)中的一个(S1)上。增益区(14)位于介电层(12)中或与介电层(12)的两个相对的表面(S1、S2)中的另一个(S2)相邻。

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