一种3-取代-1H-吡咯的合成工艺方法

    公开(公告)号:CN111116446A

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN202010035472.6

    申请日:2020-01-14

    IPC分类号: C07D207/34 C07D207/323

    摘要: 本发明提供了一种3-取代-1H-吡咯化合物的合成工艺方法,本发明工艺方法以二乙胺盐酸盐和甘氨酸乙酯盐酸盐为起始原料,分别经Mannich反应和磺酰胺化反应,然后经环合反应、脱水稀化反应、芳构化反应、水解脱羧反应得到3-取代-1H-吡咯化合物;本发明的3-取代-1H-吡咯化合物的合成工艺方法,整个合成路线步骤重复性好,操作条件温和,安全性高,有利于放大生产和产业化推广;后处理能耗低,不产生大量的有毒废水,对环境无污染,降低了生产的安全等级以及生产成本,有利于绿色环保的工业化生产的应用,具有广阔的应用前景。

    一种3-取代-1H-吡咯的合成工艺方法

    公开(公告)号:CN111116446B

    公开(公告)日:2023-07-14

    申请号:CN202010035472.6

    申请日:2020-01-14

    IPC分类号: C07D207/34 C07D207/323

    摘要: 本发明提供了一种3‑取代‑1H‑吡咯化合物的合成工艺方法,本发明工艺方法以二乙胺盐酸盐和甘氨酸乙酯盐酸盐为起始原料,分别经Mannich反应和磺酰胺化反应,然后经环合反应、脱水稀化反应、芳构化反应、水解脱羧反应得到3‑取代‑1H‑吡咯化合物;本发明的3‑取代‑1H‑吡咯化合物的合成工艺方法,整个合成路线步骤重复性好,操作条件温和,安全性高,有利于放大生产和产业化推广;后处理能耗低,不产生大量的有毒废水,对环境无污染,降低了生产的安全等级以及生产成本,有利于绿色环保的工业化生产的应用,具有广阔的应用前景。

    聚醚醚酮超声波焊接工艺方法

    公开(公告)号:CN108544760A

    公开(公告)日:2018-09-18

    申请号:CN201810343249.0

    申请日:2018-04-17

    IPC分类号: B29C65/08

    摘要: 本发明公开了聚醚醚酮超声波焊接工艺方法,其特征在于,包括以下步骤:选用带有导能筋的聚醚醚酮待焊接件;将带有导能筋的聚醚醚酮待焊接件放入循环加热箱内进行预热处理;预热后的聚醚醚酮待焊接件进行压紧;利用超声波对压紧后的聚醚醚酮待焊接件焊口进行持续超声处理焊接;超声处理完成后,撤除超声波,冷却至常温,恢复至常压状态。本发明提供的聚醚醚酮超声波焊接工艺方法,避免传统热熔接过程中的焊材变形的问题,在外表美观方面得到了很大改善,在焊接处外表面基本看不到焊接痕迹;其工艺步骤简单、操作简便,具有实用性广、提高产品合格率、极大地提高产品焊接强度等优点。

    一种具有D-π-A结构的化合物及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN108409750A

    公开(公告)日:2018-08-17

    申请号:CN201810081235.6

    申请日:2018-01-29

    摘要: 本发明涉及一种具有D-π-A结构的化合物及其制备方法和应用。本发明以引达省衍生物作为π共轭电子桥,并在其两端引入给电子基团和吸电子基团,从而制备具有D-π-A结构的非线性光学发色团。发色团较长的共轭长度使得其具备较大的一阶超极化率(β),进而可以制备高性能有机电光材料。本发色团具有较大的分子量,除了可与聚合物掺杂制备薄膜以外,还可直接用有机溶剂溶解、涂旋制备薄膜,为器件化过程提供了极大便利。本发明的发色团还具备较高的热分解温度和玻璃化温度,从而使得非线性光学发色团分子在材料中具备极好的取向稳定性,更大程度满足器件化要求。

    聚醚醚酮超声波焊接工艺方法

    公开(公告)号:CN108544760B

    公开(公告)日:2021-04-16

    申请号:CN201810343249.0

    申请日:2018-04-17

    IPC分类号: B29C65/08

    摘要: 本发明公开了聚醚醚酮超声波焊接工艺方法,其特征在于,包括以下步骤:选用带有导能筋的聚醚醚酮待焊接件;将带有导能筋的聚醚醚酮待焊接件放入循环加热箱内进行预热处理;预热后的聚醚醚酮待焊接件进行压紧;利用超声波对压紧后的聚醚醚酮待焊接件焊口进行持续超声处理焊接;超声处理完成后,撤除超声波,冷却至常温,恢复至常压状态。本发明提供的聚醚醚酮超声波焊接工艺方法,避免传统热熔接过程中的焊材变形的问题,在外表美观方面得到了很大改善,在焊接处外表面基本看不到焊接痕迹;其工艺步骤简单、操作简便,具有实用性广、提高产品合格率、极大地提高产品焊接强度等优点。

    一种有机二阶非线性光学发色团及其合成方法和应用

    公开(公告)号:CN109438459B

    公开(公告)日:2021-03-19

    申请号:CN201811413720.5

    申请日:2018-11-26

    摘要: 本发明涉及一种有机二阶非线性光学发色团及其合成方法和应用,所述发色团具有式Ⅰ所示结构:,式Ⅰ其中,为共轭电子桥,R1、R2分别独立地选自取代或未取代的下述基团:C1‑6的烷基、C1‑6的烷氧基、C4‑12的芳基或杂芳基中的任一种。本发明的发色团选用久洛尼定衍生物作为电子给体,三氰基呋喃类为电子受体,具有合适结构,可以有效降低分子间作用力,具有较高的一阶超极化率(β值)。同时,该发色团具有适当的共轭长度,具有较好的稳定性能,热分解温度可以达到250℃以上,并且,本发明的发色团具有优异的光学性能,其电光系数可以达到76pm/V以上。