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公开(公告)号：CN102792377B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201080060565.9
申请日：2010-10-29
申请人： 拜尔材料科学股份公司
IPC分类号： G11B7/24044 , G03F7/00 , G03F7/027 , G03H1/02 , G11B7/245
CPC分类号： G03H1/02 , C08G18/10 , C08G18/672 , C08G18/79 , C08J5/18 , C09D175/08 , G01N11/165 , G03F7/001 , G03F7/027 , G03H2001/0264 , G03H2260/12 , G11B7/0065 , G11B7/24044 , G11B7/245
摘要： 本发明的主题是制造包含具有可调节的机械模量GUV的光聚合物配制品的曝光全息介质的方法。本发明的另一主题是可通过本发明的方法获得的曝光全息介质。
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公开(公告)号：CN102792377A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201080060565.9
申请日：2010-10-29
申请人： 拜尔材料科学股份公司
CPC分类号： G03H1/02 , C08G18/10 , C08G18/672 , C08G18/79 , C08J5/18 , C09D175/08 , G01N11/165 , G03F7/001 , G03F7/027 , G03H2001/0264 , G03H2260/12 , G11B7/0065 , G11B7/24044 , G11B7/245
摘要： 本发明的主题是制造包含具有可调节的机械模量GUV的光聚合物配制品的曝光全息介质的方法。本发明的另一主题是可通过本发明的方法获得的曝光全息介质。
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公开(公告)号：CN102741925B
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201080061628.2
申请日：2010-11-02
申请人： 拜尔材料科学股份公司
IPC分类号： G11B7/24044 , G11B7/245 , G11B7/26
CPC分类号： G11B7/245 , G03H2260/12 , G03H2260/30 , G11B7/24044 , G11B7/26
摘要： 本发明涉及生产全息膜的方法，其中提供光聚合物配制品，其包含基质聚合物、书写单体、光引发剂体系和任选助剂和添加物，将所述光聚合物配制品作为薄膜平面施加到基底上，并干燥所述薄膜，其中使用具有≥0.03MPa的平台模量G0的光聚合物配制品。本发明还提供可通过本发明的方法获得的全息介质。
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公开(公告)号：CN102317381A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201080009595.7
申请日：2010-02-02
申请人： 拜尔材料科学股份公司
IPC分类号： C09D5/00
CPC分类号： C09D133/12 , C08K7/26 , C08L33/12 , C08L2205/02 , C09D5/00 , C09D7/67 , C09D7/70 , Y10T428/249974 , C08L2666/04
摘要： 本发明涉及组合物，它包括a)多孔硅石纳米颗粒，b)一种或多种的有机可溶性聚合物树脂，c)一种或多种UV可交联的活性稀释剂，d)溶剂，e)UV引发剂体系。本发明进一步涉及该组合物用于涂覆透明基材的用途，和涉及涂有该类型的配制剂的基材。
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公开(公告)号：CN102265342A
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：CN200980152758.4
申请日：2009-12-12
申请人： 拜尔材料科学股份公司 , 拜尔材料科技(中国)有限公司
IPC分类号： G11B7/253 , C08G64/00 , C08K5/1545
摘要： 本发明涉及聚碳酸酯用于制备光学记录介质的用途，该光学记录介质中可以获得有保证的高速运转，＞85％的凹点/凹槽结构的转记录性和足够的光盘平整。
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公开(公告)号：CN104749684A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201410858379.X
申请日：2014-12-24
申请人： 乐金显示有限公司 , 拜尔材料科学股份公司
IPC分类号： G02B5/32
CPC分类号： G03H1/20 , G02B5/0252 , G02B5/0278 , G02B5/32 , G02B27/0103 , G02B27/0944 , G03H1/02 , G03H1/0402 , G03H2001/0264 , G03H2001/0439 , G03H2222/18
摘要： 本公开涉及一种生产光束成形全息光学元件的方法，该光束成形全息光学元件被构造为生成衍射光束，所述衍射光束被构造为独立于光束在该光束成形全息光学元件上的冲击点而重建扩散器的图像，该方法包括以下步骤：提供记录元件；提供包括特定图案的主元件；形成包括所述记录元件和所述主元件在内的记录层叠，使得所述主元件被布置在所述记录元件的近复制距离内；利用重建光束照射所述记录层叠的至少一部分；利用基准光束照射所述记录层叠的至少一部分，其中，所述重建光束或基准光束中的至少一个穿过所述主元件，以将所述主元件的图案记录到所述记录元件上。
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公开(公告)号：CN102317381B
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201080009595.7
申请日：2010-02-02
申请人： 拜尔材料科学股份公司
IPC分类号： C09D5/00
CPC分类号： C09D133/12 , C08K7/26 , C08L33/12 , C08L2205/02 , C09D5/00 , C09D7/67 , C09D7/70 , Y10T428/249974 , C08L2666/04
摘要： 本发明涉及组合物，它包括a)多孔硅石纳米颗粒，b)一种或多种的有机可溶性聚合物树脂，c)一种或多种UV可交联的活性稀释剂，d)溶剂，e)UV引发剂体系。本发明进一步涉及该组合物用于涂覆透明基材的用途，和涉及涂有该类型的配制剂的基材。
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公开(公告)号：CN102741925A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201080061628.2
申请日：2010-11-02
申请人： 拜尔材料科学股份公司
CPC分类号： G11B7/245 , G03H2260/12 , G03H2260/30 , G11B7/24044 , G11B7/26
摘要： 本发明涉及生产全息膜的方法，其中提供光聚合物配制品，其包含基质聚合物、书写单体、光引发剂体系和任选助剂和添加物，将所述光聚合物配制品作为薄膜平面施加到基底上，并干燥所述薄膜，其中使用具有≥0.03MPa的平台模量G0的光聚合物配制品。本发明还提供可通过本发明的方法获得的全息介质。
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