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公开(公告)号：CN116903777A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202310865530.1
申请日：2023-07-14
申请人： 福建师范大学
IPC分类号： C08F220/14 , C08F226/08 , C08F2/44 , C08K5/08 , G11B7/245
摘要： 本发明涉及全息存储材料技术领域，具体涉及NVP掺杂PQ\PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法。该NVP掺杂PQ\PMMA光致聚合物全息存储材料，原料包括NVP、MMA、PQ和AIBN。在PQ\PMMA中掺杂NVP，以实现光致聚合物材料作为全息存储的优良介质。该材料制备工艺简单，价格低廉，有较高的衍射效率和感光灵敏度，相较于PQ\PMMA可以更好地用于全息成像及数据存储领域。
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公开(公告)号：CN115602201A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211337119.9
申请日：2022-10-28
申请人： 福建师范大学(CN)
IPC分类号： G11B7/245
摘要： 本发明属于全息聚合物材料技术领域，具体涉及一种光致聚合物全息存储材料、全息光盘及其制备方法。该光致聚合物全息存储材料由以下质量比的原料制备而成：MMA：NMP：AIBN：PQ＝100：5～25：0.7～1：1～1.5。该光致聚合物全息存储材料通过在PQ/PMMA(菲醌/聚甲基丙烯酸甲酯)中掺杂NMP(N‑甲基吡咯烷酮)进行配比，显著提升了材料的光学性能。
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公开(公告)号：CN111511567B
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN201980006796.2
申请日：2019-10-08
申请人： 索尼公司
IPC分类号： B41M5/42 , B41J2/475 , B41M5/28 , B41M5/44 , B41M5/46 , G11B7/0045 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2542 , G11B7/2572
摘要： 在根据本公开内容的实施方式的绘制方法中，当在记录层上方设置有面内具有凹凸形状的透光构件的热记录介质上进行绘制时，在所述透光构件上设置具有一个表面和另一个表面的光学补偿器，使得所述一个表面与透光构件彼此面对，并且经由光学补偿器向热记录介质照射激光束。光学补偿器的所述一个表面的形状与透光构件的凹凸形状相吻合，所述另一个表面是平坦的且面对所述一个表面。
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公开(公告)号：CN113826162A
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN202080035649.0
申请日：2020-03-12
申请人： 卡斯西部储备大学
IPC分类号： G11B7/245 , G11B7/09 , G11B7/24024 , G11B7/24027 , G11B7/26
摘要： 一种光学信息存储介质包括衬底和多层聚合物膜。所述多层聚合物膜具有延伸所述多层聚合物膜长度的第一表面和相对的第二表面。所述第二表面粘附到所述衬底的表面。所述多层聚合物膜包括多个共挤交替聚合物活性数据存储层和聚合物缓冲层。
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公开(公告)号：CN110461935B
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN201880021502.9
申请日：2018-12-07
申请人： 株式会社LG化学
IPC分类号： C08L33/08 , C08F8/42 , C08K5/5415 , C08K5/00 , C08L83/12 , C08F265/06 , G11B7/245
摘要： 本公开的目的是提供一种光聚合物组合物、使用该光聚合物组合物的全息记录介质、光学元件和全息记录方法，所述光聚合物组合物包含：具有特定化学结构的聚合物基质或其前体；光反应性单体；和光引发剂。
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公开(公告)号：CN112154504A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN201980034142.0
申请日：2019-06-10
申请人： 三菱化学株式会社
摘要： 一种全息记录介质用组合物，其特征在于，其含有下述成分(a‑1)～(e‑1)，成分(b‑1)中包含的丙二醇单元和四亚甲基二醇单元的合计重量相对于成分(a‑1)和成分(b‑1)的合计重量的比例为30重量％以下。成分(a‑1)：具有异氰酸酯基的化合物；成分(b‑1)：具有异氰酸酯反应性官能团的化合物；成分(c‑1)：聚合性单体；成分(d‑1)：光聚合引发剂；成分(e‑1)：具有稳定氮氧自由基的化合物。
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公开(公告)号：CN108292511B
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN201680058808.2
申请日：2016-09-29
申请人： 上海纳光信息科技有限公司
摘要： 本发明实施例公开了一种提供了用于光学数据存储的介质、系统和方法。用作光学数据记录介质的纳米复合材料包括被嵌入在主体基质中的纳米粒子，其中，主体基质包括具有高结构稳定性的材料，并且纳米粒子包括光学功能成分，该光学功能成分具有第一物理或化学状态并且具有在暴露于相应的光辐射时永久转变至第二物理或化学状态的性质，从而可以在延长的时间段内以光学功能成分的第一物理或化学状态和第二物理或化学状态来记录信息。
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公开(公告)号：CN108047369B
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201711259188.1
申请日：2017-12-04
申请人： 电子科技大学
IPC分类号： C08F120/36 , G11B7/245
摘要： 本发明涉及一种全息光存储聚合物及其制造方法。全息光存储聚合物是一种含有手性基团的假芪型偶氮高分子材料。全息光存储聚合物的制造方法是以S‑2‑甲基‑1‑丁醇为手性源，通过与4‑氨基苯甲酸反应得到带有手性基团的苯胺衍生物，然后再通过重氮偶合反应制备含有手性基团的假芪型偶氮单体，最后通过聚合反应将合成的偶氮单体聚合得到相应的聚合物。全息光存储聚合物的偶氮基团与聚合物主链之间的柔性间隔基为2‑16个亚甲基。该全息光存储聚合物的分子量可调，在532纳米的干涉激光照射下，可以在该全息光存储聚合物表面加工出12重及以上的表面准晶结构，可以在1分钟内于该全息光存储聚合物膜表面进行全息光存储，形成的全息图案可以被擦除并重新写入。
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公开(公告)号：CN110461935A
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201880021502.9
申请日：2018-12-07
申请人： 株式会社LG化学
IPC分类号： C08L33/08 , C08F8/42 , C08K5/5415 , C08K5/00 , C08L83/12 , C08F265/06 , G11B7/245
摘要： 本公开的目的是提供一种光聚合物组合物、使用该光聚合物组合物的全息记录介质、光学元件和全息记录方法，所述光聚合物组合物包含：具有特定化学结构的聚合物基质或其前体；光反应性单体；和光引发剂。
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公开(公告)号：CN106030711B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201480075951.3
申请日：2014-12-16
申请人： 科思创德国股份有限公司
摘要： 本发明涉及包含基质聚合物、书写单体和光引发剂并进一步包含式(I)的化合物的新型光聚合物制剂(I)其中A1、A2和A3各自独立地为氢、氟、氯、溴或碘，R1、R2、R3、R4和R5各自独立地为氢、卤素、氰基、硝基、氨基、烷基亚氨基、叠氮基、异氰基、烯胺基、甲酰基、酰基、羧基、羧酸酯、羧酰胺、原酸酯、磺酸酯、磷酸酯、有机磺酰基、有机亚砜基、任选氟代的烷氧基或任选取代的芳族、杂芳族、脂族、芳脂族、烯属或炔属基团，且合适的基团可经任意取代的桥相互连接，或两个或更多个式(I)的化合物可经基团R1、R2、R3、R4和R5的至少一个相接，其中这些基团此时可为2‑至4‑重官能桥，条件是基团R1、R2、R3、R4和R5的至少一个不是氢。本发明的进一步主题是包含基质聚合物、书写单体和光引发剂的光聚合物、包含本发明的光聚合物制剂或可用其获得的全息介质、本发明的全息介质用于制造全息介质的用途以及使用本发明的光聚合物制剂制造全息介质的方法。
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