一种还原炉系统的温度控制方法及装置

    公开(公告)号:CN115480479A

    公开(公告)日:2022-12-16

    申请号:CN202110664665.2

    申请日:2021-06-16

    IPC分类号: G05B11/42

    摘要: 本发明公开一种还原炉系统的温度控制方法,包括:将控制指令输入值输入模型器中;再将模型器中输出的温度输出值y(k)与设定的期望输出温度y*(k+1)的差值输入控制还原炉系统的控制器,将通过控制器计算得到的控制指令输入值作用于还原炉系统,预测出其在k时刻实际的输出温度y(k);将y(k)与y*(k+1)进行比较,如果差值超出了预设的误差阈值,则将所述差值重新输入所述控制器进行循环校正,直至差值在预设的误差阈值内。相应地,还提供温度控制装置。该温度控制方法可匹配控制非线性、大时滞性、强耦合作用的还原炉系统,并提高还原炉系统的硅棒温度的控制精度和动态性能,且使还原炉系统的温度控制具有较高的稳定性。