公开(公告)号：CN1925001A

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN200510096994.2

申请日：2005-08-31

申请人： 新科实业有限公司

发明人： 上田博国 ,  马洪涛 ,  方宏新 ,  乔晓峰 ,  乔亨 ,  朱勇

IPC分类号： G11B5/187 ,  G11B5/60 ,  G11B21/21

摘要： 一种在磁性读/写磁头的空气支承面(ABS)上形成微纹的方法，包括下列步骤：(a)将复数磁头阵列排列在托盘中，每个磁头包括一个朝上的极尖(pole tip)；(b)把所述托盘装入处理室中，并将所述处理室抽成具有预定压力的真空；(c)将含氧处理气体导入所述处理室中；(d)将所述磁头暴露于所述处理气体中的蚀刻手段(etchingmeans)中并对其表面进行蚀刻而在其上形成明显的两阶结构。本发明也揭露了通过上述方法形成的磁性读/写磁头的结构。

公开(公告)号：CN1925001B

公开(公告)日：2010-04-14

申请号：CN200510096994.2

申请日：2005-08-31

申请人： 新科实业有限公司

发明人： 上田博国 ,  马洪涛 ,  方宏新 ,  乔晓峰 ,  乔亨 ,  朱勇

IPC分类号： G11B5/187 ,  G11B5/60 ,  G11B21/21

摘要： 一种在磁性读/写磁头的空气支承面(ABS)上形成微纹的方法，包括下列步骤：(a)将复数磁头阵列排列在托盘中，每个磁头包括一个朝上的极尖(pole tip)；(b)把所述托盘装入处理室中，并将所述处理室抽成具有预定压力的真空；(c)将含氧处理气体导入所述处理室中；(d)将所述磁头暴露于所述处理气体中的蚀刻手段(etchingmeans)中并对其表面进行蚀刻而在其上形成明显的两阶结构。本发明也揭露了通过上述方法形成的磁性读/写磁头的结构。