钯母体组合物及用其形成钯层的方法

    公开(公告)号:CN102817015B

    公开(公告)日:2016-01-13

    申请号:CN201210183045.8

    申请日:2012-06-05

    申请人: 施乐公司

    发明人: 吴贻良 柳平

    IPC分类号: C23C18/08

    CPC分类号: C23C18/08

    摘要: 本发明涉及一种含有钯盐和有机胺的钯母体组合物。该组合物使得可使用溶液处理法形成钯层。本发明还涉及一种用于在基底上形成钯层的方法,其包括接受一种钯母体组合物,其含有钯盐、有机胺、和水不混溶的有机溶剂;用钯母体组合物对基底进行溶液涂布;以及加热钯母体组合物以形成钯层。另外,本发明还涉及一种在物体上形成导电钯层的方法,其包括接受一种钯母体溶液,其含有至少一种钯盐、至少一种有机胺,和至少一种水不混溶的有机溶剂;用该钯母体溶液对该物体进行溶液涂布以在该物体上形成无定形涂层;以及加热该无定形层形成导电钯层。

    非催化钯母体组合物及用其形成导电钯层的方法

    公开(公告)号:CN102817016A

    公开(公告)日:2012-12-12

    申请号:CN201210185788.9

    申请日:2012-06-06

    申请人: 施乐公司

    发明人: 吴贻良 柳平

    IPC分类号: C23C18/08

    CPC分类号: C23C18/08 C09D11/52

    摘要: 本发明涉及一种非催化钯母体组合物及用其形成导电钯层的方法。本发明公开一种非催化钯母体组合物,包括钯盐和有机胺,其中所述组合物基本上不含水。该组合物使得可使用溶液处理法在各种基底上形成钯层,包括以图案形式形成用于电子设备的电路或通路。

    钯母体组合物及用其形成钯层的方法

    公开(公告)号:CN102817015A

    公开(公告)日:2012-12-12

    申请号:CN201210183045.8

    申请日:2012-06-05

    申请人: 施乐公司

    发明人: 吴贻良 柳平

    IPC分类号: C23C18/08

    CPC分类号: C23C18/08

    摘要: 本发明涉及一种含有钯盐和有机胺的钯母体组合物。该组合物使得可使用溶液处理法形成钯层。本发明还涉及一种用于在基底上形成钯层的方法,其包括接受一种钯母体组合物,其含有钯盐、有机胺、和水不混溶的有机溶剂;用钯母体组合物对基底进行溶液涂布;以及加热钯母体组合物以形成钯层。另外,本发明还涉及一种在物体上形成导电钯层的方法,其包括接受一种钯母体溶液,其含有至少一种钯盐、至少一种有机胺,和至少一种水不混溶的有机溶剂;用该钯母体溶液对该物体进行溶液涂布以在该物体上形成无定形涂层;以及加热该无定形层形成导电钯层。