检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法

    公开(公告)号:CN104834186B

    公开(公告)日:2018-01-09

    申请号:CN201510113206.X

    申请日:2009-12-17

    IPC分类号: G03F7/20 G03F1/44

    摘要: 本发明涉及检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法。为了确定曝光设备是否输出正确的辐射剂量以及曝光设备的投影系统是否正确地聚焦辐射,在掩模上使用测试图案、用于印刷特定标记到衬底上。这种标记可以通过例如散射仪等检验设备测量以确定是否在焦距、剂量和其他相关性质中存在误差。这种测试图案布置成使得焦距和剂量中的改变可以容易地通过测量使用掩模曝光的图案的性质而确定。掩模的测试图案布置成使得其产生衬底表面上的标记图案。标记图案包含具有至少两个可测量的侧壁角度的结构。结构的侧壁角度之间的不对称与来自曝光设备的曝光辐射的聚焦(或散焦)相关。散焦的程度由此通过测量印刷的标记图案结构的侧壁角度中的不对称而确定。

    触摸屏及显示装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105122189B

    公开(公告)日:2017-10-20

    申请号:CN201480017845.X

    申请日:2014-02-17

    IPC分类号: G06F3/041 G06F3/044

    摘要: 本发明涉及一种触摸屏及显示装置。通过成为第1电极(18A)或第2电极(18B)的银细线(20)彼此交叉而形成的多个微胞(22A、22B)的形状相互不同,并且无规则性(统一性)。换而言之为无规。在成为此种形状的第1电极(18A)或第2电极(18B)的至少任意一个中,配置有在140℃、1Hz下的损耗系数tanδ为0.13以上,且在25℃、1Hz下的储存弹性模数为8.9×104Pa以下的粘着剂(OCA)(30)。所述触摸屏采用应力松弛性良好的OCA,因此可避免在银细线上产生以应力迁移为首的迁移。