公开(公告)号：CN118043411A

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202280062506.8

申请日：2022-10-31

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 林彰吾 ,  二神渉 ,  荒金宏忠 ,  村口良

IPC: C09C1/28 ,  C01B33/18 ,  C09D7/62

Abstract: 本发明提供了一种在分散介质中或在树脂中分散性高的粒子的分散液，其中，所述粒子具有包含硅的外壳、以及其内侧的空腔，有机硅化合物精密地负载于所述粒子的表面。该粒子含有官能团和硅。通过该粒子的图像解析得到的一次粒径的平均值为20nm～250nm，该粒子的碳含量为0.5质量％～10质量％。相对于该粒子100质量份，从含有该粒子的分散液中除去粒子后的液体中所含的有机硅化合物的量以固体成分计为0.50质量份以下。根据该分散液，可以得到能够制作覆膜的涂布液，所述覆膜具有低反射率，与基材的密合性优异，具有高硬度和强度。

公开(公告)号：CN116568391A

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN202280008014.0

申请日：2022-01-17

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 二神渉 ,  林彰吾 ,  村口良

IPC: B01J13/02

Abstract: 提供具有抗菌性且具有含硅外壳及其内侧的空腔的颗粒。该颗粒以氧化物为基准含有0.5质量％～40质量％的抗菌性金属成分，在含硅外壳的内侧具有空腔。颗粒的空隙率为10％～90％，并且所述空腔为一个的颗粒相对于全部颗粒的个数比例为80％以上。使用了该颗粒的带透明覆膜基材具有足够的硬度和强度以及高抗菌性，特别是在防反射用途中有用。

公开(公告)号：CN118591507A

公开(公告)日：2024-09-03

申请号：CN202380018292.9

申请日：2023-03-20

Applicant: 日挥触媒化成株式会社

Inventor： 林彰吾 ,  荒金宏忠 ,  村口良

IPC: C01B33/18 ,  G03F7/004

Abstract: 提供一种粒径小、折射率低、在分散介质中或树脂中的分散性高的中空二氧化硅粒子的分散液及其制造方法。该粒子是中空二氧化硅粒子，所述中空二氧化硅粒子具有：包含硅的外壳、及其内侧的空洞。所述外壳的厚度为3nm～7nm，所述粒子的平均粒径为20nm～55nm，所述粒子的折射率为1.12～1.35，所述粒子的根据Sears测定法计算出的粒子表面的硅烷醇基的数密度为0.5个/nm2～2.5个/nm2。在将包含该粒子的分散液用于抗蚀剂材料的情况下，在形成图案时，实现了高显影性。