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公开(公告)号：CN116997528A
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202280017046.7
申请日：2022-03-30
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01G23/053
Abstract: 本发明涉及一种具有金红石型晶体结构的粒子。粒子的晶粒直径为7nm以上，粒子含有以TiO2换算为90重量％以上的氧化钛并含有以SnO2换算为0.2重量％～10重量％的氧化锡。这样的粒子容易分散在溶剂中，具有高折射率。
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公开(公告)号：CN118591507A
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202380018292.9
申请日：2023-03-20
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: 提供一种粒径小、折射率低、在分散介质中或树脂中的分散性高的中空二氧化硅粒子的分散液及其制造方法。该粒子是中空二氧化硅粒子，所述中空二氧化硅粒子具有：包含硅的外壳、及其内侧的空洞。所述外壳的厚度为3nm～7nm，所述粒子的平均粒径为20nm～55nm，所述粒子的折射率为1.12～1.35，所述粒子的根据Sears测定法计算出的粒子表面的硅烷醇基的数密度为0.5个/nm2～2.5个/nm2。在将包含该粒子的分散液用于抗蚀剂材料的情况下，在形成图案时，实现了高显影性。
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公开(公告)号：CN106497400A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201610799355.0
申请日：2016-08-31
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D183/04 , C08G77/08
Abstract: 本发明涉及覆膜形成用涂布液、覆膜形成用涂布液的制造方法、及带覆膜的基材。本发明的覆膜形成用涂布液的特征在于，其是在包含水和有机溶剂的混合溶剂中溶解或分散有能够与金属醇盐形成螯合物的有机化合物(A成分)、下述式(2)所示的6官能硅烷化合物及其水解缩合物中的至少任一者(B成分)和下述式(3)所示的金属醇盐及其水解缩合物中的至少任一者(C成分)而成的，A成分的摩尔数(M1)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M1/M3)处于0.25以上且小于2的范围，B成分的摩尔数(M2)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M2/M3)处于0.5以上且8以下的范围。M(OR10)n (3)。
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公开(公告)号：CN116917233A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202280016384.9
申请日：2022-03-30
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/193
Abstract: 本发明涉及一种粉体，所述粉体包含无孔外壳的内部具有空腔的空心颗粒。粉体的平均粒径(D50)为1.0μm～10.0μm，粒径小于1.0μm的微小颗粒的含量在10体积％以下，粒径大于8.0μm的粗颗粒的含量在20体积％以下。当粉体悬浮在水中时，漂浮颗粒为0.5质量％～15.0质量％、悬浮颗粒为0～4.0质量％、沉降颗粒为81.0质量％～99.5质量％。
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公开(公告)号：CN116867738A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202280016403.8
申请日：2022-03-30
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/193
Abstract: 本发明涉及一种粉体，所述粉体包含无孔外壳的内部具有空腔的空心颗粒。粉体的平均粒径(D50)为2.0μm～10.0μm，粒径小于2.0μm的微小颗粒的含量在20体积％以下。当粉体悬浮在水中时，漂浮颗粒为7.0质量％～25.0质量％、悬浮颗粒为0～4.0质量％、沉降颗粒为71.0质量％～93.0质量％。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116829254A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202280014219.X
申请日：2022-03-30
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: B01J13/00
Abstract: 本发明涉及含有锑掺杂氧化锡的导电粒子的分散液。导电粒子包含由初级粒子连接形成的链状粒子的簇，该分散液中包含1质量％～20质量％的导电粒子，并且，相对于导电粒子的含量包含0.05％～0.5％质量的簇形成剂。在用动态光散射式粒度分布计测定的该分散液的粒径分布中，体积平均粒径为10nm～50nm；以体积为基准，从粒径小的一侧累积到16％时的粒径D16与累积到84％时的粒径D84之差(D84‑D16)为3nm～50nm。根据这样的导电粒子能够实现导电膜的低电阻化。
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公开(公告)号：CN106497400B
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201610799355.0
申请日：2016-08-31
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D183/04 , C08G77/08
Abstract: 本发明涉及覆膜形成用涂布液、覆膜形成用涂布液的制造方法、及带覆膜的基材。本发明的覆膜形成用涂布液的特征在于，其是在包含水和有机溶剂的混合溶剂中溶解或分散有能够与金属醇盐形成螯合物的有机化合物(A成分)、下述式(2)所示的6官能硅烷化合物及其水解缩合物中的至少任一者(B成分)和下述式(3)所示的金属醇盐及其水解缩合物中的至少任一者(C成分)而成的，A成分的摩尔数(M1)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M1/M3)处于0.25以上且小于2的范围，B成分的摩尔数(M2)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M2/M3)处于0.5以上且8以下的范围。;M(OR10)n (3)。
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公开(公告)号：CN118724005A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410364324.7
申请日：2024-03-28
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/193 , C08K7/26 , C08L63/00
Abstract: [问题]本发明提供一种在能够实现绝缘层的低介电常数化及低介电损耗角正切化的同时能够实现绝缘层的薄膜化的填料。[解决手段]一种含有在外壳的内部具有空腔的中空粒子的粉体，其中，所述粉体的平均粒径(D50)为0.1μm～5.0μm，所述粉体最大粒径(D100)为20.0μm以下，所述粉体的粒度分布中的峰粒径(Ps)×0.75μm～(Ps)×1.25μm范围的粒子体积之和为全部粒子总体积的50％以下，所述粉体的孔隙率为10％～50％，所述粉体的破裂粒子率为10体积％以下，所述外壳含有70质量％以上的二氧化硅。
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公开(公告)号：CN113462219A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110342025.X
申请日：2021-03-30
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D5/24 , C09D183/04 , C09D7/20
Abstract: [技术问题]提高含有导电粒子以及结合至该导电粒子的粘合剂成分的涂布液的保存稳定性。[技术手段]根据本发明的用于形成导电膜的涂布液含有链状导电粒子、高沸点溶剂、低沸点溶剂以及可结合至链状导电粒子的烷氧基硅烷低聚物。在该涂布液中，相对于链状导电粒子和烷氧基硅烷低聚物的总量，含有35质量％～75质量％的链状导电粒子；在用动态光散射式粒度分布计测定的涂布液的粒径分布中，平均粒径为100nm以上；以体积为基准，从粒径小的一侧累积到16％时的粒径D16与累积到84％时的粒径D84之间的差(D84‑D16)为200nm以上。
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公开(公告)号：CN106009788B
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201610202193.8
申请日：2016-03-31
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: 本发明涉及覆膜形成用涂布液和其制造方法、和带覆膜的基材的制造方法。对于本发明的透明覆膜形成用涂布液，在包含水和有机溶剂的混合溶剂中溶解或分散有能够与金属醇盐形成螯合物的有机化合物(A成分)、式(2)所示的3官能以上的硅烷化合物和其水解缩合物中的至少一者(B成分)以及式(3)所示的金属醇盐和其水解缩合物中的至少一者(C成分)。此时，A成分的摩尔数(M1)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M1/M3)处于0.25以上且小于2.0的范围，B成分的摩尔数(M2)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M2/M3)处于0.1以上且9.0以下的范围。(R3)(4‑m)Si(R4)m(2)M(OR5)n(3)。
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