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公开(公告)号：CN110890264B
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN201910526439.0
申请日：2019-06-18
申请人： 日新离子机器株式会社
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 本发明涉及一种离子束照射装置，所述离子束照射装置不使用灯具加热器或钨丝等的发热体，而可在广范围加热真空容器壁面，以使水成分挥发。本发明的离子束照射装置在开放至大气后的基板处理前，对构成离子束的输送路的真空容器壁面扫描离子束。
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公开(公告)号：CN112439747A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202010342663.7
申请日：2020-04-27
申请人： 日新离子机器株式会社
摘要： 本发明提供一种离子束照射装置的清洗方法，是能够提前使束线内的颗粒减少并稳定化的有效且高效的清洗方法。所述清洗方法是采用含卤气体对被处理物进行离子束照射处理的离子束照射装置中的清洗方法，向被照射物照射含氢气体由来的离子束后，向被照射物照射稀有气体由来的离子束。
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公开(公告)号：CN110890264A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201910526439.0
申请日：2019-06-18
申请人： 日新离子机器株式会社
IPC分类号： H01J37/32
摘要： 本发明涉及一种离子束照射装置，所述离子束照射装置不使用灯具加热器或钨丝等的发热体，而可在广范围加热真空容器壁面，以使水成分挥发。本发明的离子束照射装置在开放至大气后的基板处理前，对构成离子束的输送路的真空容器壁面扫描离子束。
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