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公开(公告)号：CN109427522A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810531366.X
申请日：2018-05-29
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 藤本龙吾
IPC: H01J37/244 , H01J37/317
Abstract: 本发明提供微粒诊断方法和微粒诊断装置。为了通过高效的清扫来降低微粒的产生，诊断离子束照射装置中的微粒产生部位。该微粒诊断方法包括：输送和照射步骤(S1)，通过规定的输送线路(L1)将第一基板向离子束(IB)的照射位置输送，并向输送到照射位置的第一基板照射离子束(IB)；第一判断步骤(S2)，判断在输送和照射步骤(S1)中被照射了离子束(IB)的第一基板上附着的微粒是多是少；输送步骤(S3)，当在第一判断步骤(S2)中判断为微粒多时，通过输送线路(L1)将第二基板输送到照射位置；以及第二判断步骤(S4)，判断在输送步骤(S3)中输送到照射位置的第二基板上附着的微粒是多是少。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110890264B
公开(公告)日：2024-06-18
申请号：CN201910526439.0
申请日：2019-06-18
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明涉及一种离子束照射装置，所述离子束照射装置不使用灯具加热器或钨丝等的发热体，而可在广范围加热真空容器壁面，以使水成分挥发。本发明的离子束照射装置在开放至大气后的基板处理前，对构成离子束的输送路的真空容器壁面扫描离子束。
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公开(公告)号：CN109427522B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN201810531366.X
申请日：2018-05-29
Applicant: 日新离子机器株式会社
Inventor： 藤本龙吾
IPC: H01J37/244 , H01J37/317
Abstract: 本发明提供微粒诊断方法和微粒诊断装置。为了通过高效的清扫来降低微粒的产生，诊断离子束照射装置中的微粒产生部位。该微粒诊断方法包括：输送和照射步骤(S1)，通过规定的输送线路(L1)将第一基板向离子束(IB)的照射位置输送，并向输送到照射位置的第一基板照射离子束(IB)；第一判断步骤(S2)，判断在输送和照射步骤(S1)中被照射了离子束(IB)的第一基板上附着的微粒是多是少；输送步骤(S3)，当在第一判断步骤(S2)中判断为微粒多时，通过输送线路(L1)将第二基板输送到照射位置；以及第二判断步骤(S4)，判断在输送步骤(S3)中输送到照射位置的第二基板上附着的微粒是多是少。
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公开(公告)号：CN112439747A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202010342663.7
申请日：2020-04-27
Applicant: 日新离子机器株式会社
Abstract: 本发明提供一种离子束照射装置的清洗方法，是能够提前使束线内的颗粒减少并稳定化的有效且高效的清洗方法。所述清洗方法是采用含卤气体对被处理物进行离子束照射处理的离子束照射装置中的清洗方法，向被照射物照射含氢气体由来的离子束后，向被照射物照射稀有气体由来的离子束。
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公开(公告)号：CN110890264A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201910526439.0
申请日：2019-06-18
Applicant: 日新离子机器株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明涉及一种离子束照射装置，所述离子束照射装置不使用灯具加热器或钨丝等的发热体，而可在广范围加热真空容器壁面，以使水成分挥发。本发明的离子束照射装置在开放至大气后的基板处理前，对构成离子束的输送路的真空容器壁面扫描离子束。
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