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公开(公告)号：CN104130184A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201410283542.4
申请日：2011-03-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D213/75 , C07D401/12
CPC classification number: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
Abstract: 本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2-取代氨基-6-卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式(1)表示(R0表示C1-6烷氧基、C1-6烷氧基C1-6烷氧基等，R1表示C1-2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数)。
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公开(公告)号：CN104109150B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201410283563.6
申请日：2011-03-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D401/12
CPC classification number: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
Abstract: 本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2‑取代氨基‑6‑卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式(1)表示(R0表示C1‑6烷氧基、C1‑6烷氧基C1‑6烷氧基等，R1表示C1‑2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数)。
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公开(公告)号：CN104130184B
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201410283542.4
申请日：2011-03-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D213/75 , C07D401/12
CPC classification number: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
Abstract: 本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2-取代氨基-6-卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式(1)表示(R0表示C1-6烷氧基、C1-6烷氧基C1-6烷氧基等，R1表示C1-2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数)。
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公开(公告)号：CN104072483B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201410283225.2
申请日：2011-03-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D401/12
CPC classification number: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
Abstract: 本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2-取代氨基-6-卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式(1)表示(R0表示C1-6烷氧基、C1-6烷氧基C1-6烷氧基等，R1表示C1-2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数)。
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公开(公告)号：CN102791692A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201180013214.7
申请日：2011-03-08
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D213/75 , C07D401/12
CPC classification number: C07D401/12 , C07D213/75
Abstract: 根据本发明，提供即使低亲核性的伯胺化合物或仲胺化合物也能使用光气或光气等价体和叔丁醇以及有机碱来高选择率廉价地制造叔丁氧基羰基胺化合物的方法。本发明的制造方法中，使用光气或光气等价体、叔丁醇、有机碱、和伯胺化合物或仲胺化合物或者伯铵盐或仲铵盐来获得叔丁氧基羰基胺化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104072408B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201410283380.4
申请日：2011-03-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D213/75 , C07D401/12
CPC classification number: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
Abstract: 本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2‑取代氨基‑6‑卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式(1)表示(R0表示C1‑6烷氧基、C1‑6烷氧基C1‑6烷氧基等，R1表示C1‑2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数)。
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公开(公告)号：CN104136422B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201380011176.0
申请日：2013-03-06
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D257/04
CPC classification number: C07F1/02 , A01N43/713 , C07B2200/13 , C07D257/04 , C07D401/12 , C07F1/00
Abstract: 本发明提供一种化合物，其特征在于，由通式(I)表示(式(I)中，A表示卤素原子、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷基磺酰基、无取代或具有取代基的芳基、氰基、或硝基。n表示0～5中的任一整数(n为2以上时，A彼此可以相同也可以不同)。Y表示烷基。M表示碱金属或碱土金属。m表示1或者2的整数)。
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公开(公告)号：CN104136422A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201380011176.0
申请日：2013-03-06
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D257/04
CPC classification number: C07F1/02 , A01N43/713 , C07B2200/13 , C07D257/04 , C07D401/12 , C07F1/00
Abstract: 本发明提供一种化合物，其特征在于，由通式(I)表示(式(I)中，A表示卤素原子、烷基、卤代烷基、烷氧基、卤代烷氧基、烷基磺酰基、无取代或具有取代基的芳基、氰基、或硝基。n表示0～5中的任一整数(n为2以上时，A彼此可以相同也可以不同)。Y表示烷基。M表示碱金属或碱土金属。m表示1或者2的整数)。
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公开(公告)号：CN104109150A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201410283563.6
申请日：2011-03-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D401/12
CPC classification number: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
Abstract: 本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2-取代氨基-6-卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式(1)表示(R0表示C1-6烷氧基、C1-6烷氧基C1-6烷氧基等，R1表示C1-2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数)。
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公开(公告)号：CN102791691A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201180012762.8
申请日：2011-03-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
CPC classification number: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
Abstract: 本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2-取代氨基-6-卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式（1）表示（R0表示C1-6烷氧基、C1-6烷氧基C1-6烷氧基等，R1表示C1-2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数）。
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