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公开(公告)号：CN104350038B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201380029869.2
申请日：2013-06-07
Applicant: 日本曹达株式会社
Inventor： 宫崎秀和
IPC: C07C247/04 , C07D257/04
CPC classification number: C07D257/04 , C07C247/04
Abstract: 本发明提供一种叠氮化合物的制造方法，其特征在于，使烷基化剂或者甲硅烷基化剂与下述通式(II)(通式(II)中，M表示碱金属原子或者碱土金属原子，m表示1或者2)表示的叠氮化物在流动反应器内反应，以溶液的状态制造下述通式(I)(通式(I)中，Y表示烷基、芳烷基、具有取代基的甲硅烷基、或者具有取代基的甲硅烷基烷基)表示的叠氮化合物。M(N3)m···(II)、Y‑N3···(I)。
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公开(公告)号：CN102791691B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201180012762.8
申请日：2011-03-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
CPC classification number: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
Abstract: 本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2-取代氨基-6-卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式（1）表示（R0表示C1-6烷氧基、C1-6烷氧基等，R1表示C1-2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数）。
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公开(公告)号：CN104072483A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201410283225.2
申请日：2011-03-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D401/12
CPC classification number: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
Abstract: 本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2-取代氨基-6-卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式(1)表示(R0表示C1-6烷氧基、C1-6烷氧基C1-6烷氧基等，R1表示C1-2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数)。
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公开(公告)号：CN104072408A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201410283380.4
申请日：2011-03-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D213/75 , C07D401/12
CPC classification number: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
Abstract: 本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2-取代氨基-6-卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式(1)表示(R0表示C1-6烷氧基、C1-6烷氧基C1-6烷氧基等，R1表示C1-2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数)。
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公开(公告)号：CN104350043B
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201380030366.7
申请日：2013-06-07
Applicant: 日本曹达株式会社
Inventor： 宫崎秀和
IPC: C07D257/04
CPC classification number: C07D257/04
Abstract: 本发明提供使通式(II)的叠氮化合物与通式(III)的氰化物在流动反应器内反应来制造通式(I)的化合物的1H‑四唑衍生物的制造方法。(Y表示烷基、芳基、芳基烷基、具有取代基的甲硅烷基或者具有取代基的甲硅烷基烷基，Z表示‑CO‑、‑SO2‑或者‑CRaRb‑(Ra和Rb各自独立地表示H、烷基或者无取代的或具有取代基的芳基)，p表示0或1，q表示0或1，r表示0或1(其中，p为0或r为0时，q为1)，R1在q为0时表示烷基或者氢原子，在q为1时表示亚烷基，R2表示无取代的或具有取代基的芳基。)
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公开(公告)号：CN104350043A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201380030366.7
申请日：2013-06-07
Applicant: 日本曹达株式会社
Inventor： 宫崎秀和
IPC: C07D257/04
CPC classification number: C07D257/04
Abstract: 本发明提供使通式(II)的叠氮化合物与通式(III)的氰化物在流动反应器内反应来制造通式(I)的化合物的1H-四唑衍生物的制造方法。(Y表示烷基、芳基、芳基烷基、具有取代基的甲硅烷基或者具有取代基的甲硅烷基烷基，Z表示-CO-、-SO2-或者-CRaRb-(Ra和Rb各自独立地表示H、烷基或者无取代的或具有取代基的芳基)，p表示0或1，q表示0或1，r表示0或1(其中，p为0或r为0时，q为1)，R1在q为0时表示烷基或者氢原子，在q为1时表示亚烷基，R2表示无取代的或具有取代基的芳基。)
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公开(公告)号：CN104130184A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201410283542.4
申请日：2011-03-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D213/75 , C07D401/12
CPC classification number: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
Abstract: 本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2-取代氨基-6-卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式(1)表示(R0表示C1-6烷氧基、C1-6烷氧基C1-6烷氧基等，R1表示C1-2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数)。
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公开(公告)号：CN100506805C
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：CN02806839.4
申请日：2002-03-20
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D263/32 , C07D233/64
CPC classification number: C07D233/64 , C07D263/32
Abstract: 本发明涉及作为农药、医药、功能材料或者其中间体有用的杂环化合物的制造方法。通过使TosMIC与醛或者亚氨基化合物①在非质子性溶剂和质子性溶剂的混合溶剂中在碱存在下反应，②在相转移催化剂以及无机碱存在下反应，或者③在有机碱存在下反应，可以不分离有刺激性而且不稳定、分解温度低、有爆炸性的TosMIC，使用溶液即可有效地获得目标物。
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公开(公告)号：CN1500084A
公开(公告)日：2004-05-26
申请号：CN02806839.4
申请日：2002-03-20
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D263/32 , C07D233/64
CPC classification number: C07D233/64 , C07D263/32
Abstract: 本发明涉及作为农药、医药、功能材料或者其中间体有用的杂环化合物的制造方法。通过使TosMIC与醛或者亚氨基化合物①在非质子性溶剂和质子性溶剂的混合溶剂中在碱存在下反应，②在相转移催化剂以及无机碱存在下反应，或者③在有机碱存在下反应，可以不分离有刺激性而且不稳定、分解温度低、有爆炸性的TosMIC，使用溶液即可有效地获得目标物。
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公开(公告)号：CN104072408B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201410283380.4
申请日：2011-03-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C07D213/75 , C07D401/12
CPC classification number: C07D213/75 , C07D401/12 , C07D405/12
Abstract: 本发明提供能够在工业上有利地合成且可用作用于制造显示杀菌活性的四唑基肟衍生物的中间体的下述含有吡啶环的化合物、以及2‑取代氨基‑6‑卤代甲基吡啶衍生物以及四唑基肟衍生物的工业上有利的制造方法。所述含有吡啶环的化合物用式(1)表示(R0表示C1‑6烷氧基、C1‑6烷氧基C1‑6烷氧基等，R1表示C1‑2烷氧基羰基、乙酰基等，Z表示卤素原子、氰基等，X表示卤素原子，n为0～3中的任一整数)。
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