公开(公告)号：CN119230364A

公开(公告)日：2024-12-31

申请号：CN202410856640.6

申请日：2024-06-28

Applicant: 日本电子株式会社

Inventor： 小冢心寻

IPC: H01J37/305 ,  G06T11/20

Abstract: 提供一种能够容易地决定合适的加工条件的试样加工系统。试样加工系统包含：试样加工装置，其对试样照射离子束来加工所述试样；以及图像生成装置，其生成使用所述试样加工装置以所设定的加工条件加工了所述试样的情况下的预测图像，所述预测图像包含所述离子束的照射方向的分布的信息。

公开(公告)号：CN118263075A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202311793584.8

申请日：2023-12-25

Applicant: 日本电子株式会社

Inventor： 根岸勉 ,  小冢心寻

IPC: H01J37/305

Abstract: 提供能够容易地制造遮蔽板的遮蔽板制造装置。遮蔽板制造装置(100)是用于制造以遮蔽板将试样的一部分遮蔽并对试样照射带电粒子束来加工试样的试样加工装置的遮蔽板的遮蔽板制造装置，包含：基板保持轴件(10)，其可旋转地保持基板(2)，将带(4)卷取到基板(2)；以及张力赋予机构(50)，其对被卷取到基板(2)的带(4)赋予张力。

公开(公告)号：CN116313707A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202211632422.1

申请日：2022-12-19

Applicant: 日本电子株式会社

Inventor： 小冢心寻

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/30

Abstract: 提供一种能够对各种各样的试样高效地进行加工的试样加工装置。本发明的试样加工装置包含：阳极(110)；阴极(120)；引出电极(130)，其引出离子，所述离子是从阴极(120)释放出的电子与气体碰撞而生成的；以及聚焦电极(140)，其配置在阴极(120)与引出电极(130)之间，通过使施加到聚焦电极(140)的聚焦电压变化来控制离子束(IB)的空间轮廓。