公开(公告)号：CN102348494B

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：CN201080012623.0

申请日：2010-02-23

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 河合应明 ,  富田俊弘 ,  森伸彦 ,  佐藤绫

IPC: B01D71/02 ,  B01D69/10 ,  C01B37/02

CPC classification number: B01D53/228 ,  B01D63/066 ,  B01D67/0051 ,  B01D71/028 ,  B01D2323/42

Abstract: 本发明提供沸石分离膜构件、其制造方法、混合流体的分离方法、以及混合流体分离装置，该沸石分离膜构件具有大于沸石晶体的固有细孔、控制在适当范围的间隙或细孔，对于吸附性差较小的成分或分子径小于该细孔的成分，可兼备高透过性和高分离性。沸石分离膜构件包括沸石膜，该沸石分离膜构件在室温下的N2气体的透过速度为1.0×10-6mol·m-2·s-1·Pa-1以上，且室温下的1，3，5-三甲苯/N2的透过速度比为0.17以上，且不会出现由于罗丹明B的渗透引起的染色。

公开(公告)号：CN102348494A

公开(公告)日：2012-02-08

申请号：CN201080012623.0

申请日：2010-02-23

Applicant: 日本碍子株式会社

Inventor： 河合应明 ,  富田俊弘 ,  森伸彦 ,  佐藤绫

IPC: B01D71/02 ,  B01D69/10 ,  C01B37/02

CPC classification number: B01D53/228 ,  B01D63/066 ,  B01D67/0051 ,  B01D71/028 ,  B01D2323/42

Abstract: 提供沸石分离膜构件、其制造方法、混合流体的分离方法、以及混合流体分离装置，该沸石分离膜构件具有大于沸石晶体的固有细孔、控制在适当范围的间隙或细孔，对于吸附性差较小的成分或分子径小于该细孔的成分，可兼备高透过性和高分离性。沸石分离膜构件包括沸石膜，该沸石分离膜构件在室温下的N2气体的透过速度为1.0×10-6mol·m-2·s-1·Pa-1以上，且室温下的1，3，5-三甲苯/N2的透过速度比为0.17以上，且不会出现由于罗丹明B的渗透引起的染色。