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公开(公告)号：CN101301589B
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200810087032.4
申请日：2002-09-17
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 本发明提供DDR型沸石膜复合物，其特征在于：所述DDR型沸石膜复合物具备多孔基质和沉积于基质微孔内的DDR型沸石层，该DDR型沸石层的厚度为所述多孔基质的平均微孔径的5-50倍；所述DDR型沸石层由DDR型沸石构成，沉积于所述多孔基质的至少一侧表面的微孔内。
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公开(公告)号：CN1585669A
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：CN02822317.9
申请日：2002-09-12
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D67/0048 , B01D53/228 , B01D71/028 , B01D2323/12 , C07C7/144 , Y02P20/52 , Y10T428/24942 , Y10T428/249953 , Y10T428/249967 , Y10T428/249969 , C07C11/06
Abstract: 一种沸石层压复合体，其特征在于它包含一种由MFI型沸石组成且其SiO2/Al2O3(摩尔比)为40～100的MFI薄膜和一种由MFI型沸石组成且其SiO2/Al2O3(摩尔比)为20～400的多孔性基材，而且该MFI薄膜是在该基材上形成的。这种沸石层压复合体兼备优异的分离特征和高的透过性能。
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公开(公告)号：CN101687149B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200880021720.9
申请日：2008-06-27
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D69/12 , B01D63/066 , B01D67/0046 , B01D67/0067 , B01D69/02 , B01D71/021 , B01D71/025 , B01D71/027 , B01D71/028 , B01D2325/04
Abstract: 本发明提供一种分离膜复合体和分离膜复合体的制造方法。在多孔质体(61)(表面层(64))上直接形成碳膜(66)，且中间层(63)的厚度为10～100μm的分离膜复合体(1)，能够作为比以往提高了通量和选择性的过滤膜而利用。
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公开(公告)号：CN101745319A
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910253517.0
申请日：2009-12-08
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: B01D71/02
CPC classification number: B01D67/0051 , B01D53/228 , B01D69/02 , B01D71/028 , B01D2253/108 , B01D2256/22 , B01D2256/24 , B01D2257/504 , B01D2257/7022 , B01D2323/24 , B01D2325/20 , Y02C10/10
Abstract: 本发明提供一种DDR型沸石膜结构体的制造方法，可减少DDR型沸石膜开裂的产生、减少DDR型沸石膜内1-金刚烷胺残存。该DDR型沸石膜结构体的制造方法，包括：在含有1-金刚烷胺、二氧化硅(SiO2)和水的原料溶液中，使在表面附着有DDR型沸石膜种晶的多孔质基体浸渍来进行DDR型沸石的水热合成，由该水热合成在多孔质基体表面形成含有1-金刚烷胺的DDR型沸石膜，来制作DDR型沸石膜结构体的母体的膜形成工序，和通过在400℃以上550℃以下加热母体，燃烧除去含在DDR型沸石膜内的1-金刚烷胺的燃烧工序。
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公开(公告)号：CN100393399C
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200610005958.5
申请日：2002-09-17
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: B01D71/02
Abstract: 本发明提供DDR型沸石膜，其特征在于：在基质上成膜，膜的主要成分为二氧化硅，同时选自二氧化碳(CO2)、氢(H2)、氧(O2)、氮(N2)、甲烷(CH4)、正丁烷(n-C4H10)、异丁烷(i-C4H10)、六氟化硫(SF6)、乙烷(C2H6)、乙烯(C2H4)、丙烷(C3H8)、丙烯(C3H6)、一氧化碳(CO)以及一氧化氮(NO)的至少2种气体分别在室温和100℃的单一成分气体透过率在上述至少2种气体间彼此不同。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1307096C
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：CN03824091.2
申请日：2003-08-15
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D53/228 , B01D61/362 , B01D67/0048 , B01D67/0051 , B01D67/0095 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D71/028 , B01D2323/08 , B01D2323/24 , C01B37/02
Abstract: 本发明为沸石成型体的制备方法，其特征在于：在硅溶胶中添加氢氧化四丙铵(TPAOH)溶液和溴化四丙铵(TPABr)，将所得制备液于密闭容器中在不使所述制备液中发生结晶和/或沉淀的条件下进行加热处理，将加热处理后的制备液进行干燥，并将所得干燥凝胶进行成型，将成型后的干燥凝胶在水蒸气中进行结晶处理。本发明可有效制备沸石成型体，所制得的沸石成型体可在其上形成并保持沸石膜而不发生龟裂，同时在用作分子筛膜等气体分离膜或浸透蒸发膜时，能满足减少压力损失和维持或提高机械强度的要求。
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公开(公告)号：CN1688510A
公开(公告)日：2005-10-26
申请号：CN03824091.2
申请日：2003-08-15
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D53/228 , B01D61/362 , B01D67/0048 , B01D67/0051 , B01D67/0095 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D71/028 , B01D2323/08 , B01D2323/24 , C01B37/02
Abstract: 本发明为沸石成型体的制备方法，其特征在于：在硅溶胶中添加氢氧化四丙铵(TPAOH)溶液和溴化四丙铵(TPABr)，将所得制备液于密闭容器中在不使所述制备液中发生结晶和/或沉淀的条件下进行加热处理，将加热处理后的制备液进行干燥，并将所得干燥凝胶进行成型，将成型后的干燥凝胶在水蒸气中进行结晶处理。本发明可有效制备沸石成型体，所制得的沸石成型体可在其上形成并保持沸石膜而不发生龟裂，同时在用作分子筛膜等气体分离膜或浸透蒸发膜时，能满足减少压力损失和维持或提高机械强度的要求。
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公开(公告)号：CN1331657A
公开(公告)日：2002-01-16
申请号：CN99814350.2
申请日：1999-10-08
Applicant: 日本碍子株式会社
IPC: C01B39/02
CPC classification number: C01B39/02 , B01D67/0083 , B01D69/10 , B01D71/028
Abstract: 一种由具有与欲在其上形成分子筛膜相同或相似的组成且含有与被涂敷的分子筛含有的相同模板剂的分子筛所制成的多孔基质。将该被涂敷的基质焙烧以同时除去该分子筛涂层和该多孔基质中的模板剂。由此形成由该多孔基质和在其上形成的分子筛膜组成的分子筛复合膜。由于该分子筛膜已被调整,以表现出与该多孔基质几乎相同的热膨胀行为,因此该分子筛膜不产生裂缝。
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公开(公告)号：CN102348494A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201080012623.0
申请日：2010-02-23
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D53/228 , B01D63/066 , B01D67/0051 , B01D71/028 , B01D2323/42
Abstract: 提供沸石分离膜构件、其制造方法、混合流体的分离方法、以及混合流体分离装置，该沸石分离膜构件具有大于沸石晶体的固有细孔、控制在适当范围的间隙或细孔，对于吸附性差较小的成分或分子径小于该细孔的成分，可兼备高透过性和高分离性。沸石分离膜构件包括沸石膜，该沸石分离膜构件在室温下的N2气体的透过速度为1.0×10-6mol·m-2·s-1·Pa-1以上，且室温下的1，3，5-三甲苯/N2的透过速度比为0.17以上，且不会出现由于罗丹明B的渗透引起的染色。
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公开(公告)号：CN1956770A
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN200580007611.8
申请日：2005-03-11
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: Y02A50/235
Abstract: 一种碳膜叠层体(1)，其具有由大量颗粒构成的多孔性基材(6)以及设置在多孔性基材(6)表面上的碳膜(2)，其中多孔性基材(6)具有与碳膜(2)相接且由平均粒径为0.01～0.11μm的颗粒(3a)构成的表面层(3)以及由平均粒径与构成表面层(3)的颗粒(3a)的平均粒径不同的颗粒构成的多孔体(5)。本发明提供了一种抑制碳膜叠层体(1)中龟裂和针孔的产生并适于薄膜化的碳膜叠层体。
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