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公开(公告)号:CN1585050A
公开(公告)日:2005-02-23
申请号:CN200410057403.6
申请日:2004-08-12
申请人: 日本AE帕瓦株式会社 , 有限会社技术咨询谷水
IPC分类号: H01F7/06
CPC分类号: H01F7/1607 , H01F3/10 , H01F3/12 , H01F3/14 , H01F7/081 , H01F7/13 , H01F2007/163
摘要: 本发明公开了一种电磁装置。吸引线圈、排斥线圈和插棒式铁心设置在电磁装置的磁路中。启动磁通产生部分设置在磁路中在吸引线圈和排斥线圈之间。启动磁通产生部分的磁通量在磁路的一部分上通过排斥线圈的磁通量在磁性上排斥以启动插棒式铁心。通过自吸引线圈和排斥线圈的磁通量产生的电磁力将插棒式铁心吸引到第一和第二磁路部件中的一个部件。
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公开(公告)号:CN100466117C
公开(公告)日:2009-03-04
申请号:CN200410057403.6
申请日:2004-08-12
申请人: 日本AE帕瓦株式会社
IPC分类号: H01F7/06
CPC分类号: H01F7/1607 , H01F3/10 , H01F3/12 , H01F3/14 , H01F7/081 , H01F7/13 , H01F2007/163
摘要: 本发明公开了一种电磁装置。吸引线圈、排斥线圈和插棒式铁心设置在电磁装置的磁路中。启动磁通产生部分设置在磁路中在吸引线圈和排斥线圈之间。启动磁通产生部分的磁通量在磁路的一部分上通过排斥线圈的磁通量在磁性上排斥以启动插棒式铁心。通过自吸引线圈和排斥线圈的磁通量产生的电磁力将插棒式铁心吸引到第一和第二磁路部件中的一个部件。
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公开(公告)号:CN100388403C
公开(公告)日:2008-05-14
申请号:CN200410057837.6
申请日:2004-08-19
申请人: 日本AE帕瓦株式会社
IPC分类号: H01H33/664 , H01H11/04
CPC分类号: H01H11/048 , H01H1/0206 , H01H33/664
摘要: 本发明涉及一种烧结而成的电触点,包含作为主要组分的重量比为15至30%的铬和作为余量的铜,0.05至0.5%的碲,100至3000ppm的氧,7.5至900ppm的铝,以及15至750ppm的硅。
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公开(公告)号:CN1612275A
公开(公告)日:2005-05-04
申请号:CN200410057837.6
申请日:2004-08-19
申请人: 日本AE帕瓦株式会社
IPC分类号: H01H33/664
CPC分类号: H01H11/048 , H01H1/0206 , H01H33/664
摘要: 本发明涉及一种烧结而成的电触点,包含作为主要组分的重量比为15至30%的铬和作为余量的铜,0.05至0.5%的碲,100至3000ppm的氧,7.5至900ppm的铝,以及15至750ppm的硅。
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