磁记录头中的屏蔽结构
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100424752C

    公开(公告)日:2008-10-08

    申请号:CN200610080307.2

    申请日:2006-05-09

    CPC classification number: G11B5/115 G11B5/3146 G11B5/3906 G11B5/3912 G11B5/398

    Abstract: 本发明公开了一种磁记录头及其相应的制造方法。本发明的记录头包括读元件,该读元件在其两侧具有第一屏蔽件和第二屏蔽件。所述第一屏蔽件和所述第二屏蔽件每个包括在彼此上连接的多个屏蔽层从而形成面向所述读元件的多层面表面。每个屏蔽件的所述表面相关于所述读元件升高。因此,与所述读元件接近的所述第一和第二屏蔽件之间的间隔与远离所述读元件的间隔相比较更小。因为远离所述读元件的所述屏蔽件之间的更大间隔,所以所述两个屏蔽件之间的电容性耦合被有利地减小。

    磁记录头中的屏蔽结构
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1862662A

    公开(公告)日:2006-11-15

    申请号:CN200610080307.2

    申请日:2006-05-09

    CPC classification number: G11B5/115 G11B5/3146 G11B5/3906 G11B5/3912 G11B5/398

    Abstract: 本发明公开了一种磁记录头及其相应的制造方法。本发明的记录头包括读元件,该读元件在其两侧具有第一屏蔽件和第二屏蔽件。所述第一屏蔽件和所述第二屏蔽件每个包括在彼此上连接的多个屏蔽层从而形成面向所述读元件的多层面表面。每个屏蔽件的所述表面相关于所述读元件升高。因此,与所述读元件接近的所述第一和第二屏蔽件之间的间隔与远离所述读元件的间隔相比较更小。因为远离所述读元件的所述屏蔽件之间的更大间隔,所以所述两个屏蔽件之间的电容性耦合被有利地减小。

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