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公开(公告)号:CN1193115C
公开(公告)日:2005-03-16
申请号:CN01801937.4
申请日:2001-07-04
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: H01F41/026 , C25D3/38 , C25D7/001 , Y10S428/935 , Y10T428/12701 , Y10T428/12708 , Y10T428/12715 , Y10T428/12785 , Y10T428/12792 , Y10T428/12875 , Y10T428/12889 , Y10T428/12896 , Y10T428/12903 , Y10T428/1291 , Y10T428/12944
Abstract: R-T-B系磁铁(R为至少一种包括Y的稀土元素,T为Fe或Fe和Co)具有电镀被膜,该被膜在用CuKα1线进行X射线衍射分析中,(200)面的X射线衍射峰强度I(200)和(111)面的X射线衍射峰强度之比[I(200)/I(111)]为0.1~0.45,该电镀被膜是使用含有20~150g/L硫酸铜及30~250g/L螯合剂、并且不含铜离子还原剂、pH调节至10.5~13.5的电镀液,以电镀铜方法形成的。
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公开(公告)号:CN1386146A
公开(公告)日:2002-12-18
申请号:CN01801937.4
申请日:2001-07-04
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: H01F41/026 , C25D3/38 , C25D7/001 , Y10S428/935 , Y10T428/12701 , Y10T428/12708 , Y10T428/12715 , Y10T428/12785 , Y10T428/12792 , Y10T428/12875 , Y10T428/12889 , Y10T428/12896 , Y10T428/12903 , Y10T428/1291 , Y10T428/12944
Abstract: R-T-B系磁铁(R为至少一种包括Y的稀土元素,T为Fe或Fe和Co)具有电镀被膜,该被膜在用CuKα1线进行X射线衍射分析中,(200)面的X射线衍射峰强度I(200)和(111)面的X射线衍射峰强度之比[I(200)/I(111)]为0.1~0.45,该电镀被膜是使用含有20~150g/L硫酸铜及30~250g/L螯合剂、并且不含铜离子还原剂、pH调节至10.5~13.5的电镀液,以电镀铜方法形成的。
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