激光二极管
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114342194B

    公开(公告)日:2024-03-19

    申请号:CN202080059053.4

    申请日:2020-09-25

    Abstract: 激光二极管(1)具备:AlN单晶的基板(11);形成在基板上且包含具有n型导电性的氮化物半导体层的n型包层(12);形成在n型包层上且包含一个以上量子阱的发光层(14);形成在发光层上且包含具有p型导电性的氮化物半导体层的p型包层(20);以及,形成在p型包层上且包含含有GaN的氮化物半导体的p型接触层(18),p型包层具备p型纵传导层(16)和p型横传导层(17),所述p型纵传导层(16)包含AlsGa1‑sN(0.3≤s≤1),具有随着远离基板而Al组成s变小的组成倾斜,且所述p型纵传导层的膜厚小于0.5μm,所述p型横传导层(17)包含AltGa1‑tN(0

    激光二极管
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114342194A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202080059053.4

    申请日:2020-09-25

    Abstract: 激光二极管(1)具备:AlN单晶的基板(11);形成在基板上且包含具有n型导电性的氮化物半导体层的n型包层(12);形成在n型包层上且包含一个以上量子阱的发光层(14);形成在发光层上且包含具有p型导电性的氮化物半导体层的p型包层(20);以及,形成在p型包层上且包含含有GaN的氮化物半导体的p型接触层(18),p型包层具备p型纵传导层(16)和p型横传导层(17),所述p型纵传导层(16)包含AlsGa1‑sN(0.3≤s≤1),具有随着远离基板而Al组成s变小的组成倾斜,且所述p型纵传导层的膜厚小于0.5μm,所述p型横传导层(17)包含AltGa1‑tN(0

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