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公开(公告)号：CN106966609A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201710064138.1
申请日：2012-06-22
申请人： 旭硝子株式会社
CPC分类号： C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57 , C03C21/002
摘要： 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β‑OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β‑OH之比为1.27以下。
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公开(公告)号：CN101868428A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN200880116763.5
申请日：2008-11-14
申请人： 旭硝子株式会社
IPC分类号： C03C15/00 , G02F1/13 , G02F1/1333
摘要： 本发明提供以玻璃基板的薄板化为目的、蚀刻速度高并且可以抑制在玻璃基板表面产生雾度的蚀刻处理方法。本发明涉及一种玻璃基板表面的蚀刻处理方法，以1～690μm的蚀刻量对玻璃基板表面进行蚀刻处理，其特征在于，所述蚀刻处理通过HF浓度为1～5重量％、HCl浓度为1重量％以上的蚀刻液进行。
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公开(公告)号：CN101541697A
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200780041086.0
申请日：2007-10-19
申请人： 旭硝子株式会社
CPC分类号： H01J29/863 , C03B18/20 , C03C3/087 , H01J9/241 , H01J11/10 , H01J11/34 , H01J2329/8615 , Y02P40/57
摘要： 本发明提供在玻璃基板表面形成银电极时产生的黄变得到抑制的平板显示器用玻璃基板。所述平板显示器用玻璃基板是通过浮法成形的平板显示器用玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板的组成以氧化物基准的质量百分比表示实质上为：SiO250～72％、Al2O30.5～15％、MgO+CaO+SrO+BaO 4～30％、Na2O大于0％且10％以下、K2O 1～21％、Li2O 0～1％、Na2O+K2O+Li2O6～25％、ZrO20～10％、Fe2O30.0725～0.15％；所述玻璃基板的自上表面至10μm的深度为止的表层中的平均Fe2+含量以Fe2O3换算在0.0725％以下。
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公开(公告)号：CN104591523B9
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201410830179.3
申请日：2012-06-22
申请人： 旭硝子株式会社
CPC分类号： C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
摘要： 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β-OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β-OH之比为1.27以下。
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公开(公告)号：CN103619764B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201280031658.8
申请日：2012-06-22
申请人： 旭硝子株式会社
CPC分类号： C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
摘要： 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β-OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β-OH之比为1.27以下。
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公开(公告)号：CN103619764A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201280031658.8
申请日：2012-06-22
申请人： 旭硝子株式会社
CPC分类号： C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
摘要： 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β-OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β-OH之比为1.27以下。
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公开(公告)号：CN102076625A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200980124716.X
申请日：2009-06-19
申请人： 旭硝子株式会社
IPC分类号： C03C15/00 , G02F1/1333
CPC分类号： C03C15/00
摘要： 本发明涉及一种蚀刻方法，对含有选自由Ca、Sr、Ba和Mg组成的组中的一种以上金属的无碱玻璃基板的表面进行蚀刻，其中，使用HF和HCl满足式(A)HF：5质量％以上且低于20质量％，并且HCl：9质量％以上、式(B)HF：20质量％以上且低于30质量％，并且HCl：5质量％以上或式(C)HF：30质量％以上，并且HCl：2质量％以上的条件、并且不含NH4F的蚀刻液，对所述无碱玻璃基板的表面进行蚀刻。
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公开(公告)号：CN106573830A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580044569.0
申请日：2015-06-16
申请人： 旭硝子株式会社
CPC分类号： C03B18/02 , C03C3/087 , C03C15/00 , C03C15/02 , C03C17/002 , C03C17/007 , C03C17/22 , C03C2217/42 , C03C2217/47 , C03C2218/33 , C03C2218/355 , C03C2218/36 , G06F3/041
摘要： 本发明的玻璃板在利用浮法进行成形时与熔融金属接触的底面具有包含多个硫酸盐晶体的缓冲层，并且从厚度方向观察到的、多个硫酸盐晶体的当量圆直径的中位数为350nm以下。
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公开(公告)号：CN104591523A
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201410830179.3
申请日：2012-06-22
申请人： 旭硝子株式会社
CPC分类号： C03C3/087 , C03B18/02 , C03C3/085 , C03C4/18 , C03C21/006 , C03C2204/00 , Y02P40/57
摘要： 本发明提供一种能够有效地抑制化学强化后的翘曲，并且能够省略或简化化学强化前的研磨处理等的化学强化用浮法玻璃。本发明涉及一种化学强化用浮法玻璃，其具有在成形时与熔融金属接触的底面和与该底面相对的顶面，其中，顶面的深度5～10μm处的标准化氢浓度与底面的深度5～10μm处的标准化氢浓度之差的绝对值为0.35以下，底面的深度5～10μm处的平均H/Si强度相对于顶面的深度5～10μm处的平均H/Si强度之比为1.65以下，以及底面的深度5～30μm处的表层β-OH相对于顶面的深度5～30μm处的表层β-OH之比为1.27以下。
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公开(公告)号：CN102351418B
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201110193920.6
申请日：2007-06-27
申请人： 旭硝子株式会社
CPC分类号： C03B18/14 , C03C3/087 , C03C17/22 , C03C21/007 , C03C2217/28 , C03C2217/283 , C03C2218/355 , H01J9/241 , H01J2211/34 , Y02P40/57
摘要： 本发明以提供能维持良好的耐损伤性、并能防止Ag胶体显色的平板玻璃用玻璃基板的制造方法及通过该制造方法得到的平板玻璃用玻璃基板为课题。本发明涉及制造平板玻璃用玻璃基板的方法，通过浮法制造平板玻璃用玻璃基板，其特征在于，具有使熔融玻璃在熔融锡上成形为玻璃基板的成形工序和使由所述成形工序成形的所述玻璃基板缓冷的缓冷工序，并且具有向所述玻璃基板的与所述熔融锡接触侧表面喷吹含有碱金属的无机物质的第一供给工序和在所述第一供给工序之后向所述玻璃基板的与上述熔融锡接触侧表面喷吹SO2气体的第二供给工序。
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