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公开(公告)号:CN101083975B
公开(公告)日:2010-12-01
申请号:CN200580043646.7
申请日:2005-12-20
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: A61K8/4933 , A61Q5/04
Abstract: 本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂,其对皮肤几乎不造成刺激,并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水,并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由-O-、-S-、-NH-和-NR1-组成的组的结构;R1是1-6个碳原子的烷基;Y是氧原子或硫原子;在式(1)中,Z是具有至少一个巯基的二价有机残基;在式(2)中,R是任选地具有巯基的二价有机残基,R2是氢原子或1-6个碳原子的烷基。
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公开(公告)号:CN101083975A
公开(公告)日:2007-12-05
申请号:CN200580043646.7
申请日:2005-12-20
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: A61K8/4933 , A61Q5/04
Abstract: 本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂,其对皮肤几乎不造成刺激,并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水,并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由-O-、-S-、-NH-和-NR1-组成的组的结构;R1是1-6个碳原子的烷基;Y是氧原子或硫原子;在式(1)中,Z是具有至少一个巯基的二价有机残基;在式(2)中,R是任选地具有巯基的二价有机残基,R2是氢原子或1-6个碳原子的烷基。
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公开(公告)号:CN101669887B
公开(公告)日:2012-12-05
申请号:CN200910171912.4
申请日:2005-12-20
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: A61K8/4933 , A61Q5/04
Abstract: 本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂,其对皮肤几乎不造成刺激,并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水,并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由-O-、-S-、-NH-和-NR1-组成的组的结构;R1是1-6个碳原子的烷基;Y是氧原子或硫原子;在式(1)中,Z是具有至少一个巯基的二价有机残基;在式(2)中,R是任选地具有巯基的二价有机残基,R2是氢原子或1-6个碳原子的烷基。
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公开(公告)号:CN101669887A
公开(公告)日:2010-03-17
申请号:CN200910171912.4
申请日:2005-12-20
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: A61K8/4933 , A61Q5/04
Abstract: 本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂,其对皮肤几乎不造成刺激,并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水,并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由-O-、-S-、-NH-和-NR 1 -组成的组的结构;R 1 是1-6个碳原子的烷基;Y是氧原子或硫原子;在式(1)中,Z是具有至少一个巯基的二价有机残基;在式(2)中,R是任选地具有巯基的二价有机残基,R 2 是氢原子或1-6个碳原子的烷基。
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