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公开(公告)号：CN1960698A
公开(公告)日：2007-05-09
申请号：CN200580017743.9
申请日：2005-05-31
申请人： 昭和电工株式会社
摘要： 本发明提供了含有肉碱衍生物的减肥皮外制剂和化妆品，其具有优异的皮肤亲合力和经皮吸收性且能够增强脂肪新陈代谢，且其可以通过作为解脂剂起作用以增强全部或局部皮下脂肪组织的脂肪新陈代谢来治疗、降低或抑制肥胖。该减肥皮外制剂含有特定的肉碱衍生物(如环肉碱(cylcarnitine)和醇肉碱脂)与优选的其它减肥和护肤成分。
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公开(公告)号：CN1462483A
公开(公告)日：2003-12-17
申请号：CN02801458.8
申请日：2002-02-20
申请人： 昭和电工株式会社
IPC分类号： H01L51/30
CPC分类号： H01L51/5016 , B82Y10/00 , H01L51/0042 , H01L51/007 , H01L51/0086 , H01L51/0093
摘要： 本发明涉及一种用于有机发光器件的具有高发光效率、高亮度和耐久性的发光材料，并涉及一种使用该发光材料的有机电致发光器件。该发光材料含有一种受到两维或多维空间压缩和限制的发光物质，由此提供一种以源于激发三重态的磷光发光为基础的高效率有机发光器件。
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公开(公告)号：CN101669887B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200910171912.4
申请日：2005-12-20
申请人： 昭和电工株式会社
CPC分类号： A61K8/4933 , A61Q5/04
摘要： 本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂，其对皮肤几乎不造成刺激，并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水，并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由-O-、-S-、-NH-和-NR1-组成的组的结构；R1是1-6个碳原子的烷基；Y是氧原子或硫原子；在式(1)中，Z是具有至少一个巯基的二价有机残基；在式(2)中，R是任选地具有巯基的二价有机残基，R2是氢原子或1-6个碳原子的烷基。
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公开(公告)号：CN101669887A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200910171912.4
申请日：2005-12-20
申请人： 昭和电工株式会社
CPC分类号： A61K8/4933 , A61Q5/04
摘要： 本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂，其对皮肤几乎不造成刺激，并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水，并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由-O-、-S-、-NH-和-NR 1 -组成的组的结构；R 1 是1-6个碳原子的烷基；Y是氧原子或硫原子；在式(1)中，Z是具有至少一个巯基的二价有机残基；在式(2)中，R是任选地具有巯基的二价有机残基，R 2 是氢原子或1-6个碳原子的烷基。
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公开(公告)号：CN101175535B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200680016139.9
申请日：2006-05-12
申请人： 昭和电工株式会社
CPC分类号： A61K8/4913 , A61K8/447 , A61K8/4933 , A61K8/4973 , A61K2800/884 , A61Q5/04 , A61Q5/10
摘要： 本发明涉及一种能够同时烫发和染发的烫发剂。该烫发剂包含：(i)包含至少一种下式(1)表示的化合物和酸性染料和/或氧化染料的烫发第一试剂：其中X为选自-O-、-S-、-NH-和-NR1-的结构；R1为具有1-6个碳原子的烷基；R2为氢原子或具有1-6个碳原子的烷基；Y为氧原子或硫原子；R为任选具有巯基的二价有机残基；和(ii)包含氧化剂的烫发第二试剂。
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公开(公告)号：CN101175535A
公开(公告)日：2008-05-07
申请号：CN200680016139.9
申请日：2006-05-12
申请人： 昭和电工株式会社
CPC分类号： A61K8/4913 , A61K8/447 , A61K8/4933 , A61K8/4973 , A61K2800/884 , A61Q5/04 , A61Q5/10
摘要： 本发明涉及一种能够同时烫发和染发的烫发剂。该烫发剂包含：(i)包含至少一种下式(1)表示的化合物和酸性染料和/或氧化染料的烫发第一试剂：其中X为选自－O－、－S－、－NH－和－NR1－的结构；R1为具有1－6个碳原子的烷基；R2为氢原子或具有1－6个碳原子的烷基；Y为氧原子或硫原子；R为任选具有巯基的二价有机残基；和(ii)包含氧化剂的烫发第二试剂。
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公开(公告)号：CN101083975A
公开(公告)日：2007-12-05
申请号：CN200580043646.7
申请日：2005-12-20
申请人： 昭和电工株式会社
CPC分类号： A61K8/4933 , A61Q5/04
摘要： 本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂，其对皮肤几乎不造成刺激，并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水，并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由－O－、－S－、－NH－和－NR1－组成的组的结构；R1是1－6个碳原子的烷基；Y是氧原子或硫原子；在式(1)中，Z是具有至少一个巯基的二价有机残基；在式(2)中，R是任选地具有巯基的二价有机残基，R2是氢原子或1－6个碳原子的烷基。
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公开(公告)号：CN1554128A
公开(公告)日：2004-12-08
申请号：CN02812312.3
申请日：2002-06-20
申请人： 昭和电工株式会社
CPC分类号： H01L51/004 , C08G2261/1526 , H01L51/0085 , H01L51/5016 , Y10S428/917
摘要： 一种聚合物发光材料，其中所述材料具有基于从电子能级的激发三重态跃迁至基态或通过激发三重态跃迁至基态的发光机理，所述材料包含构成所述聚合物的一部分或与所述聚合物结合的非离子发光部分。该聚合物发光材料显示出高于5％(这是荧光的外量子效率的极限值)的高发光效率，可设计成具有大面积并因而适用于有机发光装置的大规模生产。
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公开(公告)号：CN101083975B
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200580043646.7
申请日：2005-12-20
申请人： 昭和电工株式会社
CPC分类号： A61K8/4933 , A61Q5/04
摘要： 本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂，其对皮肤几乎不造成刺激，并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水，并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由-O-、-S-、-NH-和-NR1-组成的组的结构；R1是1-6个碳原子的烷基；Y是氧原子或硫原子；在式(1)中，Z是具有至少一个巯基的二价有机残基；在式(2)中，R是任选地具有巯基的二价有机残基，R2是氢原子或1-6个碳原子的烷基。
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