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公开(公告)号:CN112004796A
公开(公告)日:2020-11-27
申请号:CN201980027984.3
申请日:2019-04-25
申请人: 昭和电工株式会社
IPC分类号: C07C231/06 , B01J31/12 , C07C233/05 , C07C233/65 , C07B61/00
摘要: 本发明的N,N‑二取代酰胺的制造方法为使腈与醇在催化剂的存在下进行反应的方法,腈为R1CN(R1为碳原子数为10以下的烷基或碳原子数为10以下的芳基)所示的化合物,醇为R2OH(R2为碳原子数为10以下的烷基)所示的化合物,催化剂为MXn(M为氧化价态为n的金属阳离子,X为包含‑S(=O)2‑R3(R3为碳原子数为10以下的烃基、或烃基中的氢原子的一部分或全部被氟原子取代了的基团)所示的取代磺酰基的1价阴离子,n为1~4的整数)所示的金属盐,N,N‑二取代酰胺的与羰基中的碳原子结合的取代基为R1,与酰胺基中的氮原子结合的2个取代基相同且为R2。
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公开(公告)号:CN101175535B
公开(公告)日:2011-05-04
申请号:CN200680016139.9
申请日:2006-05-12
申请人: 昭和电工株式会社
CPC分类号: A61K8/4913 , A61K8/447 , A61K8/4933 , A61K8/4973 , A61K2800/884 , A61Q5/04 , A61Q5/10
摘要: 本发明涉及一种能够同时烫发和染发的烫发剂。该烫发剂包含:(i)包含至少一种下式(1)表示的化合物和酸性染料和/或氧化染料的烫发第一试剂:其中X为选自-O-、-S-、-NH-和-NR1-的结构;R1为具有1-6个碳原子的烷基;R2为氢原子或具有1-6个碳原子的烷基;Y为氧原子或硫原子;R为任选具有巯基的二价有机残基;和(ii)包含氧化剂的烫发第二试剂。
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公开(公告)号:CN101801922A
公开(公告)日:2010-08-11
申请号:CN200880107962.X
申请日:2008-09-19
申请人: 昭和电工株式会社
IPC分类号: C07C319/04 , C07C323/56 , C07C323/54 , C07C323/61 , C07B45/06
CPC分类号: C07C319/04 , C07B45/06 , C07C2601/10 , C07C2601/16 , C07C323/52 , C07C323/56
摘要: 本发明涉及一种有效制备β-巯基羧酸类化合物的方法,该方法使用诸如沸石的固体酸催化剂,产物对应于选自α,β-不饱和羧酸类化合物(α,β-不饱和羧酸、α,β-不饱和羧酸酯、α,β-不饱和酰胺、α,β-不饱和醛和α,β-不饱和酮)和氢硫化物(硫化氢、硫化物盐和氢硫化物盐)的相应起始材料,在反应中使用与水相容的溶剂。根据本发明,作为在用于药物或农用试剂的合成材料中和聚合物化合物中的有用添加剂的β-巯基羧酸类化合物可通过使用易得的α,β-不饱和羧酸(例如巴豆酸)以高收率有效工业化制备。
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公开(公告)号:CN101175535A
公开(公告)日:2008-05-07
申请号:CN200680016139.9
申请日:2006-05-12
申请人: 昭和电工株式会社
CPC分类号: A61K8/4913 , A61K8/447 , A61K8/4933 , A61K8/4973 , A61K2800/884 , A61Q5/04 , A61Q5/10
摘要: 本发明涉及一种能够同时烫发和染发的烫发剂。该烫发剂包含:(i)包含至少一种下式(1)表示的化合物和酸性染料和/或氧化染料的烫发第一试剂:其中X为选自-O-、-S-、-NH-和-NR1-的结构;R1为具有1-6个碳原子的烷基;R2为氢原子或具有1-6个碳原子的烷基;Y为氧原子或硫原子;R为任选具有巯基的二价有机残基;和(ii)包含氧化剂的烫发第二试剂。
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公开(公告)号:CN105121513B
公开(公告)日:2017-05-10
申请号:CN201480022477.8
申请日:2014-06-11
申请人: 昭和电工株式会社
IPC分类号: C08G75/045
CPC分类号: C08G75/045 , C08G75/04 , C08G75/12
摘要: 本发明的烯硫醇系固化性组合物包含硫醇化合物(A)和烯低聚物(B),该硫醇化合物(A)的分子内具有2个以上由下述通式(1)表示的基团,该烯低聚物(B)的分子内具有脂环或芳香环的结构及2个以上烯属不饱和基团,且数均分子量以聚苯乙烯换算为500~20000。下述通式(1)中,R1和R2分别独立地表示氢原子、碳原子数1~10的烷基或碳原子数6~10的芳香族基团,a是0~2的整数,b是0或1。
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公开(公告)号:CN101184528B
公开(公告)日:2010-12-29
申请号:CN200680018526.6
申请日:2006-05-25
申请人: 昭和电工株式会社
IPC分类号: A61Q5/04
CPC分类号: A61Q5/04 , A61K8/4933
摘要: 本发明公开了一种烫发剂,该烫发试剂即使在对皮肤刺激不明显的中性至弱酸性pH范围内也能够实现烫发。该烫发剂包含至少一种由式(1)表示的杂环巯基化合物:其中R1和R2彼此独立地代表氢原子或任选取代的具有1-5个碳原子的烷基;X代表-O-、-S-、-NH-或-NR3-;R3代表具有1-5个碳原子的烷基;n为0-2的整数;而且,当n为2时,基团SH可以与具有2个碳原子的亚烷基中的任一碳原子连接。
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公开(公告)号:CN101721319A
公开(公告)日:2010-06-09
申请号:CN200910225397.3
申请日:2006-02-03
申请人: 昭和电工株式会社
摘要: 本发明公开的头发松弛剂包含至少一种特定的巯基化合物如3-巯基丙酸2-甲氧基乙基酯、2-巯基-4-丁内酯和2-巯基-4-丁内酰胺。所述头发松弛剂能够在从弱酸性到弱碱性的宽pH值范围内显示成形和松弛头发的优异效果。尤其,所述头发松弛剂在弱酸性到中性pH范围内显示出更优异的头发成形和松弛特性。因此,所述头发松弛剂能够显著地减少对头发和皮肤的损伤并且能够可靠地进行拉直、变直和卷曲和其它头发处理。
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公开(公告)号:CN101083975A
公开(公告)日:2007-12-05
申请号:CN200580043646.7
申请日:2005-12-20
申请人: 昭和电工株式会社
CPC分类号: A61K8/4933 , A61Q5/04
摘要: 本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂,其对皮肤几乎不造成刺激,并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水,并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由-O-、-S-、-NH-和-NR1-组成的组的结构;R1是1-6个碳原子的烷基;Y是氧原子或硫原子;在式(1)中,Z是具有至少一个巯基的二价有机残基;在式(2)中,R是任选地具有巯基的二价有机残基,R2是氢原子或1-6个碳原子的烷基。
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