-
公开(公告)号：CN102800332B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201210225470.9
申请日：2012-05-22
CPC分类号： G11B5/7325 , G11B5/65 , G11B5/656 , G11B5/66 , G11B5/8404 , G11B5/855
摘要： 本发明提供一种磁记录介质及其制造方法、以及具备这种磁记录介质或利用这种制造方法制造的磁记录介质的磁记录再生装置，所述磁记录介质在圆盘状的非磁性基板上至少具备垂直磁性层，其特征在于，上述垂直磁性层具有如下构造，即，通过实施纹理化处理，在形成有具有圆周方向成分的多个沟槽的形成面上形成FePt或CoPt纳米粒子排列体。
-
公开(公告)号：CN102629475A
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN201210015408.7
申请日：2012-01-18
申请人： 昭和电工株式会社
IPC分类号： G11B5/84
CPC分类号： G11B5/855
摘要： 本发明提供一种能够切实且以高速进行掩模层的除去的磁记录介质的制造方法。本发明是一种具有磁分离了的磁记录图案(2a)的磁记录介质的制造方法，其包括：在非磁性基板(1)之上形成磁性层(2)的工序；在磁性层(2)之上形成溶解层(3)的工序；在溶解层(3)之上形成掩模层(4)的工序；将溶解层(3)和掩模层(4)图案化成为与磁记录图案(2a)对应的形状的工序；将磁性层(2)的没有被掩模层(4)和溶解层(3)覆盖的地方部分性地改性或除去的工序；和利用药剂将溶解层(3)湿式溶解，与其上的掩模层(4)一同从磁性层(2)之上除去的工序，在形成溶解层(3)的工序中，通过在磁性层(2)之上涂布了将有机硅化合物溶解于有机溶剂中的涂液后，固化该涂液，从而形成溶解层(3)。
-
公开(公告)号：CN103219014B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201310024847.9
申请日：2013-01-18
申请人： 昭和电工株式会社
CPC分类号： G11B5/84 , G11B5/3116 , G11B5/3163 , G11B5/855 , H01L21/31116 , Y10T29/49046 , Y10T29/49048
摘要： 一种磁记录介质的制造方法，其包括：在非磁性基板（1）上形成磁性层（2）的工序；在磁性层（2）上形成掩模层（3）的工序；在掩模层（3）上形成被图案化为规定的形状的抗蚀剂层（4）的工序；使用抗蚀剂层（4），将掩模层（3）图案化为与该抗蚀剂层（4）对应的形状的工序；使用被图案化了的掩模层（3），将磁性层（2）图案化为与该掩模层（3）对应的形状的工序；和通过反应性等离子体蚀刻除去残存于磁性层（2）上的掩模层（3）的工序，反应性等离子体蚀刻在含有有机化合物的气氛中进行，所述有机化合物具有选自羟基、羰基、羟基羰基、烷氧基、醚基之中的至少一种或多种官能团。
-
公开(公告)号：CN102456358A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201110320471.7
申请日：2011-10-20
申请人： 昭和电工株式会社
CPC分类号： G11B5/855
摘要： 本发明提供一种不使磁性层的表面氧化或卤化，并且，表面不被粉尘污染、制造工序不复杂的形成有磁分离的磁记录图案的磁记录介质的制造方法。所述具有磁分离的磁记录图案的磁记录介质的制造方法，其特征在于，依次具有：在非磁性基板(1)上形成磁性层(2)的工序；在磁性层(2)上形成用于形成磁记录图案的由碳构成的掩模层(3)的工序；对磁性层(2)的未被掩模层(3)覆盖的部位(7)照射含有氢化碳离子的离子束(10)，在磁性层(2)上形成作为非磁性体的碳化钴的工序；和除去掩模层(3)的工序。
-
公开(公告)号：CN101960517A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200880127437.4
申请日：2008-12-24
申请人： 昭和电工株式会社
摘要： 提供了一种制造磁记录介质的方法，所述磁记录介质具有在非磁性基底的至少一个表面上形成的磁性分离的磁记录图形，所述方法包括通过使形成在所述非磁性基底上的磁性层的一部分与臭氧反应并由此改变所述磁性层的该区域的磁特性而形成所述磁性分离的磁记录图形的步骤。所述磁性层还可以具有两层结构，在该两层结构中，具有非颗粒状结构的磁性层形成在具有颗粒状结构的磁性层上。该制造方法可以高效地制造其记录密度大幅提高的磁记录介质，同时保持等于或优于常规磁记录介质的记录和再现特性。
-
公开(公告)号：CN102456358B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201110320471.7
申请日：2011-10-20
申请人： 昭和电工株式会社
CPC分类号： G11B5/855
摘要： 本发明提供一种不使磁性层的表面氧化或卤化，并且，表面不被粉尘污染、制造工序不复杂的形成有磁分离的磁记录图案的磁记录介质的制造方法。所述具有磁分离的磁记录图案的磁记录介质的制造方法，其特征在于，依次具有：在非磁性基板(1)上形成磁性层(2)的工序；在磁性层(2)上形成用于形成磁记录图案的由碳构成的掩模层(3)的工序；对磁性层(2)的未被掩模层(3)覆盖的部位(7)照射含有氢化碳离子的离子束(10)，在磁性层(2)上形成作为非磁性体的碳化钴的工序；和除去掩模层(3)的工序。
-
公开(公告)号：CN102349103B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201080011288.2
申请日：2010-03-08
申请人： 昭和电工株式会社
CPC分类号： G11B5/855
摘要： 本发明提供不使磁性层的表面氧化或卤化并且表面不被粉尘污染、制造工序不复杂的形成有磁性分离了的磁记录图案的磁记录介质的制造方法。这样的磁记录介质的制造方法，其特征在于，依次具有：在非磁性基板上(1)形成磁性层(2)的工序；在磁性层(2)之上形成用于形成磁记录图案的掩模层(3)的工序；以及对磁性层(2)的未被掩模层(3)覆盖的部位照射离子束(10)，除去该部位(7)的磁性层(2)的上层部并且对下层部(8)的磁特性进行改性的工序，离子束(10)使用质量不同的两种以上的正离子，形成离子束的离子枪具有向基板侧推出来自离子源的正离子的正电极和使正离子向基板侧加速的负电极。
-
公开(公告)号：CN101933090B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN200880126071.9
申请日：2008-11-28
申请人： 昭和电工株式会社
摘要： 一种制造磁记录介质的方法，该磁记录介质在非磁性基底的至少一个表面上具有磁性分离的磁记录图形，该方法包括以(A)到(G)的顺序执行的下列七个步骤：(A)在非磁性基底上形成磁性层的步骤；(B)在磁性层上形成碳掩模层的步骤；(C)在碳掩模层上形成抗蚀剂层的步骤；(D)在抗蚀剂层上形成磁记录图形的负图形的步骤；(E)去除在与磁记录图形的负图形对应的区域中的掩模层的部分的步骤；(F)去除在与磁记录图形的负图形对应的区域中的磁性层的至少表面层部分的步骤；以及(G)需要时去除剩余的抗蚀剂层和碳掩模层的步骤。所制成的磁记录介质确保了等于或优于常规介质的记录/再现特性并呈现高记录密度。
-
公开(公告)号：CN101960518A
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200980106506.8
申请日：2009-02-16
申请人： 昭和电工株式会社
摘要： 本发明提供能够效率良好地可靠地除去磁记录介质的表面的异物、不会残留残存于该磁记录介质的表面的掩模层、磁性层的图案形成的生产率高的磁记录介质的制造方法。这样的磁记录介质的制造方法，具有：在非磁性基板上至少形成磁性层的工序；在磁性层上形成掩模层的工序；对掩模层进行图案化而形成掩模图案的工序；使用掩模图案在磁性层上形成磁记录图案的工序；采用研磨材料对掩模图案的表面进行抛光的工序；和除去掩模图案的工序。
-
公开(公告)号：CN104240730A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201410255196.9
申请日：2014-06-10
申请人： 昭和电工株式会社
CPC分类号： G11B5/66 , G11B5/1278 , G11B5/65 , G11B5/82 , Y10T428/115
摘要： 本发明提供一种垂直记录介质及垂直记录再生装置。在垂直记录介质中，在非磁性基板上至少具有底层和垂直记录层。所述垂直记录介质的特征在于，所述垂直记录层具有：垂直磁性层，其具有至少包含Co和Pt的颗粒状结构；及磁性层，其兼具磁性和强介电性。其中，所述垂直磁性层和所述磁性层相互进行反强磁性结合。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
18 条记录 (耗时 0.025 秒)
