公开(公告)号：CN102200699A

公开(公告)日：2011-09-28

申请号：CN201110135461.6

申请日：2004-12-14

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金田昌人 ,  三河泰广 ,  清水孝二

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/16

CPC classification number: G03F7/168 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/325

Abstract: 一种光敏组合物去除剂，用于除去未固化光敏组合物，该去除剂含有1到80质量％的至少一种分子中有9个或更多个碳原子的芳香烃。所述光敏组合物去除剂还含有无质子极性溶剂以及非无质子极性溶剂的其他溶剂。所述光敏组合物去除剂对于除去沉积在基质周围、边缘或背面处不需要的未固化光敏组合物或除去沉积在用于在玻璃基底、半导体晶片等上形成光敏组合物膜的方法中的系统部件或设备表面的未固化光敏组合物有效。所述光敏组合物去除剂优选用于在生产液晶显示器、有机EL显示器的方法中在在基底上形成光敏组合物层的方法中使用的含有颜料的光敏组合物。

公开(公告)号：CN1894629B

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN200480037241.8

申请日：2004-12-14

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金田昌人 ,  三河泰广 ,  清水孝二

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/00 ,  C11D7/24 ,  G03F7/32

CPC classification number: G03F7/168 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/325

Abstract: 一种光敏组合物去除剂，用于除去未固化光敏组合物，该去除剂含有1到80质量％的至少一种分子中有9个或更多个碳原子的芳香烃。所述光敏组合物去除剂还含有无质子极性溶剂以及非无质子极性溶剂的其他溶剂。所述光敏组合物去除剂对于除去沉积在基质周围、边缘或背面处不需要的未固化光敏组合物或除去沉积在用于在玻璃基底、半导体晶片等上形成光敏组合物膜的方法中的系统部件或设备表面的未固化光敏组合物有效。所述光敏组合物去除剂优选用于在生产液晶显示器、有机EL显示器的方法中在在基底上形成光敏组合物层的方法中使用的含有颜料的光敏组合物。

公开(公告)号：CN1894629A

公开(公告)日：2007-01-10

申请号：CN200480037241.8

申请日：2004-12-14

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金田昌人 ,  三河泰广 ,  清水孝二

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/00 ,  C11D7/24 ,  G03F7/32

CPC classification number: G03F7/168 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/325

Abstract: 一种光敏组合物去除剂，用于除去未固化光敏组合物，该去除剂含有1到80质量％的至少一种分子中有9个或更多个碳原子的芳香烃。所述光敏组合物去除剂还含有无质子极性溶剂以及非无质子极性溶剂的其他溶剂。所述光敏组合物去除剂对于除去沉积在基质周围、边缘或背面处不需要的未固化光敏组合物或除去沉积在用于在玻璃基底、半导体晶片等上形成光敏组合物膜的方法中的系统部件或设备表面的未固化光敏组合物有效。所述光敏组合物去除剂优选用于在生产液晶显示器、有机EL显示器的方法中在在基底上形成光敏组合物层的方法中使用的含有颜料的光敏组合物。