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公开(公告)号：CN115178714B
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202211112499.6
申请日：2022-09-14
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本发明属于集成电路用高纯金属熔炼与铸造技术领域，具体公开了一种高纯铜及铜合金铸锭的制备装置及方法，所述装置包括：熔炼炉腔，以及自上而下设置在熔炼炉腔内的熔炼装置、铸造装置；所述熔炼装置包括坩埚、流嘴组件、可移动式托盘，所述流嘴组件插装在所述坩埚底部开设的出料口中，所述可移动式托盘设置在所述坩埚出料口的下面；所述铸造装置包括铸模、底托，所述铸模的上端开口与所述坩埚出料口正对，所述铸模底部插装在底托中。本发明的整个装置结构紧凑简单、熔炼与铸造工艺简便可靠，有助于消除或减少铸锭组织中的气孔、疏松、夹杂等冶金缺陷，有效提高铸锭产品的良率和成材率，显著提升生产效率。
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公开(公告)号：CN115178714A
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN202211112499.6
申请日：2022-09-14
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本发明属于集成电路用高纯金属熔炼与铸造技术领域，具体公开了一种高纯铜及铜合金铸锭的制备装置及方法，所述装置包括：熔炼炉腔，以及自上而下设置在熔炼炉腔内的熔炼装置、铸造装置；所述熔炼装置包括坩埚、流嘴组件、可移动式托盘，所述流嘴组件插装在所述坩埚底部开设的出料口中，所述可移动式托盘设置在所述坩埚出料口的下面；所述铸造装置包括铸模、底托，所述铸模的上端开口与所述坩埚出料口正对，所述铸模底部插装在底托中。本发明的整个装置结构紧凑简单、熔炼与铸造工艺简便可靠，有助于消除或减少铸锭组织中的气孔、疏松、夹杂等冶金缺陷，有效提高铸锭产品的良率和成材率，显著提升生产效率。
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公开(公告)号：CN220161289U
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202320255222.2
申请日：2023-02-20
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本实用新型提供了一种防反溅可排气高纯金属铸造用漏斗装置，包括漏斗本体和排气盖，排气盖与漏斗本体设置为分体式结构，排气盖可拆卸地盖合在漏斗本体的上端，漏斗本体底部中心开设有浇铸孔，漏斗本体设置为圆筒型结构，漏斗本体的内腔上端为圆柱形腔，圆柱形腔的内壁下端通过弧形凹面过渡连接有内腔斜侧壁，内腔斜侧壁通过弧形凸面与浇铸孔的内壁相连接；排气盖设置为圆柱形结构，排气盖的上端开设有若干通孔。
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公开(公告)号：CN219337412U
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202223452562.9
申请日：2022-12-23
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种靶材喷砂装置；其中靶材的内侧设有喷砂位置，上固定盖盖合底座以形成用于盛放靶材的腔体，上固定盖与底座之间设有内侧缝隙，内侧缝隙保证喷砂位置裸露，上固定盖与靶材之间设有第二密封橡胶圈和第三密封橡胶圈，靶材与底座之间设有第一密封橡胶圈、第四密封橡胶圈和第五密封橡胶圈。所述上固定盖与所述底座之间设有外侧缝隙，外侧缝隙位置处设有调整垫片；连接螺栓穿过上固定盖的第一安装孔和底座的第二安装孔，压紧在上固定盖的顶面上的螺帽与连接螺栓螺纹连接。本实用新型可反复多次使用，结构简单，易于操作，也直接避免了靶面的划伤，提高了靶材的外观质量。实现精准喷砂，有效保证喷砂区域形状与质量。
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公开(公告)号：CN114196926A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202111401765.2
申请日：2021-11-19
申请人： 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本发明提出一种短流程高效率高纯铜及铜合金溅射靶材制备方法，其包括以下步骤：第一步，高纯方形铸锭制备；第二步，热轧厚板制备；第三步，等温退火热处理；第四步，靶材机加工；第五步，后处理。本发明采用方形铸锭，将传统溅射方法中的多步环节进行归一化处理，即对方形铸锭进行整体轧制变形加工和热处理，获得大尺寸的板坯，然后根据靶材成品下料需求在板坯上直接进行切割。相对于传统制备方法，本发明所提供的短流程高效率方法可显著提高生产效率、降低生产成本，同时有利于实现自动化，适合大批量生产。
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