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公开(公告)号：CN115753567A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202310036978.2
申请日：2023-01-10
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
IPC分类号： G01N15/10
摘要： 本发明涉及微粒计算技术领域，尤其涉及一种对铜或铜合金进行微粒计数的分析方法，将包括硝酸与纯水按照一定的比例混合，在常温下与铜或铜合金材料发生反应，将铜或铜合金材料溶解其中，再用碱性试剂将硝酸铜溶液中和，加入表面活性剂，定容摇匀，得到待测溶液。本发明得到的待测溶液为中性溶液，不会出现粒子在酸液中继续反应生成或者减少的可能，从而保证溶液中粒子稳定，同时由于超高纯铜中存在粒子夹杂尺寸通常＜2μm，较多粒子尺寸在亚微米量级，在溶液中存在团聚的可能，加入表面活性剂，能够有效分散微细粒子，进而能够精准分析计算待测溶液中铜或铜合金材料的颗粒度。
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公开(公告)号：CN115178714B
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202211112499.6
申请日：2022-09-14
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本发明属于集成电路用高纯金属熔炼与铸造技术领域，具体公开了一种高纯铜及铜合金铸锭的制备装置及方法，所述装置包括：熔炼炉腔，以及自上而下设置在熔炼炉腔内的熔炼装置、铸造装置；所述熔炼装置包括坩埚、流嘴组件、可移动式托盘，所述流嘴组件插装在所述坩埚底部开设的出料口中，所述可移动式托盘设置在所述坩埚出料口的下面；所述铸造装置包括铸模、底托，所述铸模的上端开口与所述坩埚出料口正对，所述铸模底部插装在底托中。本发明的整个装置结构紧凑简单、熔炼与铸造工艺简便可靠，有助于消除或减少铸锭组织中的气孔、疏松、夹杂等冶金缺陷，有效提高铸锭产品的良率和成材率，显著提升生产效率。
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公开(公告)号：CN115178714A
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN202211112499.6
申请日：2022-09-14
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本发明属于集成电路用高纯金属熔炼与铸造技术领域，具体公开了一种高纯铜及铜合金铸锭的制备装置及方法，所述装置包括：熔炼炉腔，以及自上而下设置在熔炼炉腔内的熔炼装置、铸造装置；所述熔炼装置包括坩埚、流嘴组件、可移动式托盘，所述流嘴组件插装在所述坩埚底部开设的出料口中，所述可移动式托盘设置在所述坩埚出料口的下面；所述铸造装置包括铸模、底托，所述铸模的上端开口与所述坩埚出料口正对，所述铸模底部插装在底托中。本发明的整个装置结构紧凑简单、熔炼与铸造工艺简便可靠，有助于消除或减少铸锭组织中的气孔、疏松、夹杂等冶金缺陷，有效提高铸锭产品的良率和成材率，显著提升生产效率。
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公开(公告)号：CN220161289U
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202320255222.2
申请日：2023-02-20
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本实用新型提供了一种防反溅可排气高纯金属铸造用漏斗装置，包括漏斗本体和排气盖，排气盖与漏斗本体设置为分体式结构，排气盖可拆卸地盖合在漏斗本体的上端，漏斗本体底部中心开设有浇铸孔，漏斗本体设置为圆筒型结构，漏斗本体的内腔上端为圆柱形腔，圆柱形腔的内壁下端通过弧形凹面过渡连接有内腔斜侧壁，内腔斜侧壁通过弧形凸面与浇铸孔的内壁相连接；排气盖设置为圆柱形结构，排气盖的上端开设有若干通孔。
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公开(公告)号：CN112846660B
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202011633795.1
申请日：2020-12-31
申请人： 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本发明公开了属于靶材制造技术领域的一种厚壁大长径比高纯铜管靶的加工方法，包括以下步骤：1)高纯铜铸锭制备2)高纯铜管材制备3)高纯铜管坯制备4)高纯铜管靶的加工；并经过后续清洗烘干和包装过程得到成品高纯铜管靶；本发明从根本上解决了传统制备工艺生产的铜管靶纯度低、氧含量高、加工流程长、生产成本高、难以实现批量化生产的难题。
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公开(公告)号：CN112846660A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202011633795.1
申请日：2020-12-31
申请人： 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本发明公开了属于靶材制造技术领域的一种厚壁大长径比高纯铜管靶的加工方法，包括以下步骤：1)高纯铜铸锭制备2)高纯铜管材制备3)高纯铜管坯制备4)高纯铜管靶的加工；并经过后续清洗烘干和包装过程得到成品高纯铜管靶；本发明从根本上解决了传统制备工艺生产的铜管靶纯度低、氧含量高、加工流程长、生产成本高、难以实现批量化生产的难题。
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公开(公告)号：CN111015090A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201911164944.1
申请日：2019-11-25
申请人： 有研亿金新材料有限公司
IPC分类号： B23P15/00 , B23K28/02 , B23K103/18
摘要： 本发明公开了属于金属材料加工和微电子材料制造技术领域的一种铜系靶材和背板焊接方法，步骤包括：对加厚的高纯铜系靶材靶面和高强度合金背板进行机加工，然后对靶材靶面和合金背板的焊接界面侧面采用真空电子束封焊，底面采用扩散焊接，实现靶面和背板的可靠连接，需要对机加工后的合金背板进行表面处理和离子清洗；并且在合金背板的整个焊接界面均匀的添加中间层；所述铜系靶材和背板焊接界面是在合适的扩散焊接工艺参数和焊接结构的基础上研究焊接界面对铜系靶材和背板的焊接性能的影响，对获得焊合率≥99％，焊接强度≥80MPa的铜系靶面和背板的可靠连接的靶材，具有显著的经济和技术效益。
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公开(公告)号：CN114196926A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202111401765.2
申请日：2021-11-19
申请人： 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本发明提出一种短流程高效率高纯铜及铜合金溅射靶材制备方法，其包括以下步骤：第一步，高纯方形铸锭制备；第二步，热轧厚板制备；第三步，等温退火热处理；第四步，靶材机加工；第五步，后处理。本发明采用方形铸锭，将传统溅射方法中的多步环节进行归一化处理，即对方形铸锭进行整体轧制变形加工和热处理，获得大尺寸的板坯，然后根据靶材成品下料需求在板坯上直接进行切割。相对于传统制备方法，本发明所提供的短流程高效率方法可显著提高生产效率、降低生产成本，同时有利于实现自动化，适合大批量生产。
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公开(公告)号：CN111843854A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010739905.6
申请日：2020-07-28
申请人： 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种大长径比旋转管靶材喷砂设备，包括工字型支架和脚支架，工字型支架包括上管靶固定盖和下管靶固定盖，旋转管靶材的中部套接有橡胶夹套，上管靶固定盖和下管靶固定盖的左右两侧各设置有两个定位圆盘，且下管靶固定盖和定位圆盘为一体式设计，通过定位圆盘的运动带动下管靶固定盖的运动，实现旋转管靶材在竖直方向的自由旋转；旋转管靶材的两端各设置有两个喷砂挡板，位于旋转管靶材端面处的喷砂挡板上均设置有吊耳，脚支架通过吊绳与吊耳的配合实现对旋转管靶材的升降和搬运。本发明结合工字型支架和脚支架作为管靶喷砂，可使管靶材在竖直方向自由旋转，精准喷砂，解决了大长径比管靶喷砂占地空间大，喷砂角度受限等问题。
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公开(公告)号：CN211679870U
公开(公告)日：2020-10-16
申请号：CN201922467890.8
申请日：2019-12-31
申请人： 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本实用新型公开了集成电路用高纯金属熔炼与铸造技术领域的一种分体式高纯金属浇铸模具的底座。具体包括固定式底座、可拆卸式底座，所述可拆卸式底座置于所述固定式底座上，可拆卸式底座上表面中央位置设置盲孔；所述高纯金属浇铸模具置于盲孔中，所述盲孔的直径＞高纯金属浇铸模具外径，盲孔的深度≤所述可拆卸式底座厚度的一半，且盲孔的深度≤高纯金属浇铸模具高度；所述可拆卸式底座上表面设置防腐涂层。本实用新型提供的分体式高纯金属浇铸模具的底座适用于所有采用倾转式顶部浇铸的圆柱形模具设备，解决了传统单体式模具底座体积大、质量重、不易更换的难题。
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