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公开(公告)号：CN107805790B
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN201711123830.3
申请日：2017-11-14
申请人： 有研亿金新材料有限公司
IPC分类号： C23C14/35
摘要： 本发明属于磁控溅射靶材制造技术领域，公开了一种高比面积的靶材组件及其制造方法，所述靶材组件包括靶材和支撑所述靶材的背板，所述背板有接触冷却水区域，该区域有数控铣床等机加工设备加工出的阿基米德螺旋线沟槽。所述背板接触冷却水区域的比表面积从100％增加到150％以上，通过增加背板上接触冷却水区域的表面积及水流导向，可实现对靶材溅射过程产生的热量快速导出，从而降低靶材表面温升，提高镀膜性能。
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公开(公告)号：CN115196109B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202210819215.0
申请日：2022-07-13
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本发明提供了一种大尺寸靶材全自动包装机的核心组件及其使用方法，该核心组件包括骨架、溜板小车、底部滑轨组件、左托叉和右托叉，底部滑轨组件、左托叉和右托叉分别安装在骨架上，溜板小车安装在底部滑轨组件上；溜板小车包括圆托、溜板小车骨架、滑台、伺服电机Ⅱ、升降架和伺服升降驱动组件，其中，圆托安装在升降架顶部；升降架安装在伺服升降驱动组件上；升降架的背部通过滑轨安装在溜板小车骨架上，溜板小车骨架安装在滑台上并左右移动以实现靶材的运送。本发明中的核心组件在整个机器中起到托运大尺寸靶材、套袋支撑作用，也可直接作为半自动包装机使用；使包装作业机械化降低人力成本，提高生产效率。
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公开(公告)号：CN116103622A
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202211611028.X
申请日：2022-12-14
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本发明涉及磁控溅射靶材技术领域，尤其涉及一种高纯铝合金靶材及其制备方法，制备方法包括制备铝熔液、M熔液加料、合金熔炼及浇注和靶材制备。本发明的制备方法先将铝锭原料采用感应熔炼熔化为铝熔液，再采用高能束流将置于感应坩埚正上方的高熔点M棒料底端熔化形成M熔液，高熔点金属M直接以液态形式加入铝熔液中，为液‑液混合熔炼，这样，一方面避免了高温金属沉底坩埚或反应不充分，从而导致合金成分失配的问题，另一方面，液‑液混合可快速形成铝合金熔液，从而极大降低熔炼温度，避免了高温导致的铝挥发及熔液与坩埚反应引杂。
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公开(公告)号：CN115178714A
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN202211112499.6
申请日：2022-09-14
申请人： 有研亿金新材料有限公司 , 有研亿金新材料(山东)有限公司
摘要： 本发明属于集成电路用高纯金属熔炼与铸造技术领域，具体公开了一种高纯铜及铜合金铸锭的制备装置及方法，所述装置包括：熔炼炉腔，以及自上而下设置在熔炼炉腔内的熔炼装置、铸造装置；所述熔炼装置包括坩埚、流嘴组件、可移动式托盘，所述流嘴组件插装在所述坩埚底部开设的出料口中，所述可移动式托盘设置在所述坩埚出料口的下面；所述铸造装置包括铸模、底托，所述铸模的上端开口与所述坩埚出料口正对，所述铸模底部插装在底托中。本发明的整个装置结构紧凑简单、熔炼与铸造工艺简便可靠，有助于消除或减少铸锭组织中的气孔、疏松、夹杂等冶金缺陷，有效提高铸锭产品的良率和成材率，显著提升生产效率。
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公开(公告)号：CN111015301A
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201911407364.0
申请日：2019-12-31
申请人： 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本发明公开了一种溅射环件安装孔位与开口区域的加工方法，所述加工方法包括以下步骤：1：根据待加工溅射环尺寸在主体工装上加工出定位孔；2：在主体工装上加工出开口区域、倒角区域以及加工让刀区域；3：将待加工溅射环设置在主体工装和工装内撑之间，盖上紧固盖板，并通过主体工装、工装内撑和紧固盖板上预留的安装孔，将待加工溅射环紧固在加工工装上，在主体工装圆周方向上加工出孔位；4：在开口区域的两端进行固定，通过定位销对待加工溅射环进行定位；5：对开口区域的待加工溅射环加工出开口，使用圆弧成型刀完成开口区域的圆弧加工；6：松开螺栓、垫片和螺母，去除紧固盖板，取出工装内撑，取下溅射环，进行检验并包装备存。
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公开(公告)号：CN106587940B
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201611094912.5
申请日：2016-12-02
申请人： 有研亿金新材料有限公司
IPC分类号： C04B35/04 , C04B35/626 , C04B35/64 , C23C14/35
摘要： 本发明属于新材料制造及应用技术领域，具体涉及一种高纯致密氧化镁靶材及其制备方法。本发明对行星球磨的氧化镁粉末进行冷等静压成型后真空烧结，得到近净成形高纯致密氧化镁靶材。其中，真空烧结温度为1400～1550℃，保温时间为2～10h，真空度为0.1～1.0Pa。该法制备的高纯致密氧化镁靶材的致密度为98.36％以上，杂质元素总含量为100ppm以下，平均晶粒尺寸为7μm以下，尺寸偏差为3.0μm以下，表面粗糙度Ra低于0.4μm。本发明制备的氧化镁靶材纯度和致密度高、晶粒细小均匀，本发明制备方法生产周期短、生产成本低、生产效率高、可批量生产。
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公开(公告)号：CN105296945B
公开(公告)日：2018-04-06
申请号：CN201510780143.3
申请日：2015-11-13
申请人： 有研亿金新材料有限公司
IPC分类号： C23C14/34
摘要： 本发明公开了属于溅射靶材制备技术领域的一种铝合金溅射靶材及其制备方法。本发明所述的铝合金溅射靶材由Al、Cu和难熔金属组成，原材料为高纯原材料。所述铝合金溅射靶材通过熔炼、热机械化处理及成型加工等工艺制备而成。本发明制备的铝合金溅射靶材的纯度在99.995％以上，晶粒细小均匀，晶粒尺寸控制在200μm以内，综合性能优异，可用于高可靠性高稳定性铝薄膜的制备。
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公开(公告)号：CN107552907A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201710929550.5
申请日：2017-10-09
申请人： 有研亿金新材料有限公司
摘要： 本发明公开一种绿色高效的靶材与背板钎焊装置及方法，钎焊装置包括焊接加热台、焊料加热装置、激光扫描加工装置、钎焊加压部件，集成了靶材与背板加热、激光扫描清洗和表面织构化加工、焊料铺展、靶材与背板压合等工艺，提供的装置能够实现短流程的靶材与背板焊接。采用本发明的装置无需焊接前的化学清洗、喷砂等工艺，焊接流程短、节能环保、成本低、效率高。
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公开(公告)号：CN106587940A
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：CN201611094912.5
申请日：2016-12-02
申请人： 有研亿金新材料有限公司
IPC分类号： C04B35/04 , C04B35/626 , C04B35/64 , C23C14/35
摘要： 本发明属于新材料制造及应用技术领域，具体涉及一种高纯致密氧化镁靶材及其制备方法。本发明对行星球磨的氧化镁粉末进行冷等静压成型后真空烧结，得到近净成形高纯致密氧化镁靶材。其中，真空烧结温度为1400～1550℃，保温时间为2～10h，真空度为0.1～1.0Pa。该法制备的高纯致密氧化镁靶材的致密度为98.36％以上，杂质元素总含量为100ppm以下，平均晶粒尺寸为7μm以下，尺寸偏差为3.0μm以下，表面粗糙度Ra低于0.4μm。本发明制备的氧化镁靶材纯度和致密度高、晶粒细小均匀，本发明制备方法生产周期短、生产成本低、生产效率高、可批量生产。
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公开(公告)号：CN105296945A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201510780143.3
申请日：2015-11-13
申请人： 有研亿金新材料有限公司
IPC分类号： C23C14/34
摘要： 本发明公开了属于溅射靶材制备技术领域的一种铝合金溅射靶材及其制备方法。本发明所述的铝合金溅射靶材由Al、Cu和难熔金属组成，原材料为高纯原材料。所述铝合金溅射靶材通过熔炼、热机械化处理及成型加工等工艺制备而成。本发明制备的铝合金溅射靶材的纯度在99.995％以上，晶粒细小均匀，晶粒尺寸控制在200μm以内，综合性能优异，可用于高可靠性高稳定性铝薄膜的制备。
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