公开(公告)号：CN113767075A

公开(公告)日：2021-12-07

申请号：CN202080032093.X

申请日：2020-02-03

Applicant: 株式会社NSC ,  松下电器产业株式会社

Inventor： 西川晴香 ,  岛田和哉 ,  永井忠 ,  三好雄三 ,  富家夏树 ,  大小田健太 ,  柏原康宏 ,  齐藤俊介 ,  大山阳照 ,  林笃嗣 ,  福成良介 ,  石垣畅规 ,  元持健 ,  久米贵大

IPC: C03B33/02 ,  C03C15/00 ,  C03C23/00 ,  B23K26/382

Abstract: 本发明提供一种能够将伴随于蚀刻处理的侧蚀刻的影响抑制在最小限度的液晶面板制造方法。本申请发明所涉及的玻璃用蚀刻液是用于对玻璃进行蚀刻的玻璃用蚀刻液，至少含有蚀刻阻碍物质，该蚀刻阻碍物质使对玻璃的蚀刻速度降低，且至少含有碱和氟络合剂中的任一种。蚀刻阻碍物质优选通过附着于玻璃中的改性成容易被蚀刻的改性部来产生阻碍蚀刻反应的反应生成物。

公开(公告)号：CN105228965B

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201480026612.6

申请日：2014-05-09

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 岛田和哉 ,  爱甲雅彦 ,  铃木靖纪 ,  家田智之 ,  深谷泰史 ,  三好雄三 ,  清水勇斗

IPC: C03C15/00 ,  C02F1/58 ,  C02F1/60

Abstract: 用以氢氟酸为主要成分的研磨液研磨铝硼硅酸盐玻璃时在玻璃表面上、研磨装置的贮存部以及配管内产生泥污、品质劣化、装置停止这些问题。本发明的玻璃研磨方法的特征在于，其为用包含氢氟酸的研磨液研磨含Al玻璃的方法，其具有：使研磨前述玻璃之后的使用后研磨液中的溶解Al固体化得到反应后研磨液的工序；将前述反应后研磨液固液分离得到再生研磨液的工序；和用前述再生研磨液研磨前述玻璃的工序，通过强制地固体化、去除作为泥污原因物质的Al‑F络合物从而即便循环使用研磨液也可以使得玻璃表面、研磨装置各部的泥污的产生得以抑制。

公开(公告)号：CN105228965A

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201480026612.6

申请日：2014-05-09

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 岛田和哉 ,  爱甲雅彦 ,  铃木靖纪 ,  家田智之 ,  深谷泰史 ,  三好雄三 ,  清水勇斗

IPC: C03C15/00 ,  C02F1/58 ,  C02F1/60

Abstract: 用以氢氟酸为主要成分的研磨液研磨铝硼硅酸盐玻璃时在玻璃表面上、研磨装置的贮存部以及配管内产生泥污、品质劣化、装置停止这些问题。本发明的玻璃研磨方法的特征在于，其为用包含氢氟酸的研磨液研磨含Al玻璃的方法，其具有：使研磨前述玻璃之后的使用后研磨液中的溶解Al固体化得到反应后研磨液的工序；将前述反应后研磨液固液分离得到再生研磨液的工序；和用前述再生研磨液研磨前述玻璃的工序，通过强制地固体化、去除作为泥污原因物质的Al-F络合物从而即便循环使用研磨液也可以使得玻璃表面、研磨装置各部的泥污的产生得以抑制。