公开(公告)号：CN1582195A

公开(公告)日：2005-02-16

申请号：CN02813416.8

申请日：2002-07-03

Applicant: 松下电器产业株式会社 ,  松下环境空调工程株式会社

Inventor： 爱甲雅彦 ,  林和幸 ,  土本利明 ,  泽田博明 ,  中川秋夫

IPC: B01D46/04 ,  B01D47/06 ,  B01D53/68 ,  F23G7/06 ,  F23J15/00

CPC classification number: F23G7/065 ,  B01D53/68 ,  F23J2217/101 ,  F23J2217/50

Abstract: 一种排气净化方法及排气净化装置及其所使用的除尘装置，在成膜装置等半导体或者液晶模组的制造装置中产生的排气的净化工序中，可以减少维护作业，或者使其维护作业的安全性提高。其包括：排气的燃烧处理工序；从由燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘工序；及，将除尘后的燃烧排气进行水性洗涤的洗涤工序。通过该方法，通过除尘工序除去含有Si的粉尘，因此，可以抑制洗涤工序中析出物的析出。因此，使工序稳定运转，并且减少维护作业。另外，不需要大量洗涤水就可以实施洗涤工序。

公开(公告)号：CN105228965B

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201480026612.6

申请日：2014-05-09

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 岛田和哉 ,  爱甲雅彦 ,  铃木靖纪 ,  家田智之 ,  深谷泰史 ,  三好雄三 ,  清水勇斗

IPC: C03C15/00 ,  C02F1/58 ,  C02F1/60

Abstract: 用以氢氟酸为主要成分的研磨液研磨铝硼硅酸盐玻璃时在玻璃表面上、研磨装置的贮存部以及配管内产生泥污、品质劣化、装置停止这些问题。本发明的玻璃研磨方法的特征在于，其为用包含氢氟酸的研磨液研磨含Al玻璃的方法，其具有：使研磨前述玻璃之后的使用后研磨液中的溶解Al固体化得到反应后研磨液的工序；将前述反应后研磨液固液分离得到再生研磨液的工序；和用前述再生研磨液研磨前述玻璃的工序，通过强制地固体化、去除作为泥污原因物质的Al‑F络合物从而即便循环使用研磨液也可以使得玻璃表面、研磨装置各部的泥污的产生得以抑制。

公开(公告)号：CN105228965A

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201480026612.6

申请日：2014-05-09

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 岛田和哉 ,  爱甲雅彦 ,  铃木靖纪 ,  家田智之 ,  深谷泰史 ,  三好雄三 ,  清水勇斗

IPC: C03C15/00 ,  C02F1/58 ,  C02F1/60

Abstract: 用以氢氟酸为主要成分的研磨液研磨铝硼硅酸盐玻璃时在玻璃表面上、研磨装置的贮存部以及配管内产生泥污、品质劣化、装置停止这些问题。本发明的玻璃研磨方法的特征在于，其为用包含氢氟酸的研磨液研磨含Al玻璃的方法，其具有：使研磨前述玻璃之后的使用后研磨液中的溶解Al固体化得到反应后研磨液的工序；将前述反应后研磨液固液分离得到再生研磨液的工序；和用前述再生研磨液研磨前述玻璃的工序，通过强制地固体化、去除作为泥污原因物质的Al-F络合物从而即便循环使用研磨液也可以使得玻璃表面、研磨装置各部的泥污的产生得以抑制。

公开(公告)号：CN103688222A

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201180071024.0

申请日：2011-10-06

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 渊上真一郎 ,  山口典生 ,  爱甲雅彦 ,  清水巧治 ,  竹泽浩义

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/422 ,  G03F7/425 ,  H01L21/31133

Abstract: 本发明提供一种使用光致抗蚀剂的剥离液的剥离液循环系统；在湿法蚀刻大面积的基板上的Cu膜或Cu合金膜从而进行布线等时，该光致抗蚀剂的剥离液能够不损害Cu膜地进行剥离并且不降低与Cu膜上所沉积的层之间的粘接力。该剥离液循环系统具有：抗蚀剂剥离装置，重复使用包含含有主剂、极性溶剂和水的混合液以及抗蚀剂成分的剥离液，剥离液中的抗蚀剂浓度达到规定的值时，将剥离液的一部分从排出管排出，接受新的剥离液的供给；废液罐；蒸馏再生装置，蒸馏废液罐中的剥离液；成分检测装置，检测前述分离液中的主剂和极性溶剂的组成比率；调和装置，追加不足部分的主剂、极性溶剂和水使得分离液的主剂和极性溶剂以及水的比率达到预定的比率，调制混合液；供给罐，储存混合液。

公开(公告)号：CN1283343C

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN02813416.8

申请日：2002-07-03

Applicant: 松下电器产业株式会社 ,  松下环境空调工程株式会社

Inventor： 爱甲雅彦 ,  林和幸 ,  土本利明 ,  泽田博明 ,  中川秋夫

IPC: B01D46/04 ,  B01D47/06 ,  B01D53/68 ,  F23G7/06 ,  F23J15/00

CPC classification number: F23G7/065 ,  B01D53/68 ,  F23J2217/101 ,  F23J2217/50

Abstract: 一种排气净化方法及排气净化装置及其所使用的除尘装置，在成膜装置等半导体或者液晶模组的制造装置中产生的排气的净化工序中，可以减少维护作业，或者使其维护作业的安全性提高。其包括：排气的燃烧处理工序；从由燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘工序；及，将除尘后的燃烧排气进行水性洗涤的洗涤工序。通过该方法，通过除尘工序除去含有Si的粉尘，因此，可以抑制洗涤工序中析出物的析出。因此，使工序稳定运转，并且减少维护作业。另外，不需要大量洗涤水就可以实施洗涤工序。