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公开(公告)号：CN118829072A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410447230.6
申请日：2024-04-15
申请人： 柯尼卡美能达株式会社
发明人： 原淳
摘要： 本发明的课题在于提供一种印刷基板制造用的、铜层的平滑性高且铜层与抗蚀层具有足以形成所期望的铜配线的密合性并且抗蚀层剥离后的残渣少的层叠体，以及提供铜配线的表面的平滑性高、铜配线的图案精度高并且抗蚀层的残渣少的印刷基板和该印刷基板的制造方法。本发明的层叠体的特征在于，是印刷基板制造用层叠体，具有铜层、抗蚀层、以及粘接所述铜层与所述抗蚀层的分子间相互作用层，所述铜层的所述分子间相互作用层侧的表面粗糙度Ra为0.3μm以下。
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公开(公告)号：CN116324943A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180071096.9
申请日：2021-10-20
申请人： 柯尼卡美能达株式会社
IPC分类号： G09F9/00
摘要： 本发明的偏振片是将起偏器、在其一面配置的第1保护膜、在另一面配置的第2保护膜、及在第1保护膜的与起偏器相反侧的面配置的剥离膜层叠而成。第2保护膜的波长9.4μm的光的吸光系数A2为1.0×102～4.5×102/μm。在偏振片的沿着所述层叠方向的截面中，将切断端面中的剥离膜的与第1保护膜相反侧的端点P1与起偏器的第2保护膜侧的端点P2连接的直线的相对于所述层叠方向的倾斜角度φ为0.5～10°。
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公开(公告)号：CN117546615A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202280044549.3
申请日：2022-06-23
申请人： 柯尼卡美能达株式会社
IPC分类号： H05K3/06
摘要： 本发明的课题是提供兼具蚀刻性和抗蚀剂材料的剥离性的表面改性剂、以及使用了该表面改性剂的层叠体、金属配线图案的形成方法和印刷配线板的制造方法。本发明的表面改性剂，其特征在于，含有具有由下述通式(1)表示的结构的含氮杂芳环化合物，该含氮杂芳环化合物的ClogP为2～5的范围内。通式(1) 通式(1)中，X1～X5各自独立地表示氮原子或CR1，R1各自独立地表示氢原子、芳基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、烷氧基、氨基、氰基、硫醇基、羰基、卤素基、三氟甲基、或羟基，可进一步具有取代基。
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公开(公告)号：CN118102611A
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202311574789.7
申请日：2023-11-22
申请人： 柯尼卡美能达株式会社
摘要： 本发明的课题为提供能够进一步提高金属层与树脂层之间的密合性的表面改性剂、及使用有该表面改性剂的印刷配线板的制造方法。本发明的表面改性剂为在金属层与树脂层之间形成表面改性层的表面改性剂，其特征在于，由下述式A求出的吸光度变化率Z为5～30％的范围内。式A Z[％]＝(X‑Y)/X×100[将涂布前的上述表面改性剂的吸光度设为吸光度X。将涂布于铜板后没有附着于上述铜板而剩余的上述表面改性剂的吸光度设为吸光度Y。各吸光度采用分光光度测定中得到的吸收光谱的300～800nm的波长范围内的最大吸收极大的吸光度。]。
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公开(公告)号：CN118202008A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202280073097.1
申请日：2022-11-08
申请人： 柯尼卡美能达株式会社
IPC分类号： C09D5/00 , B32B9/00 , C09D201/00 , B32B15/08 , C07D249/06 , C07D249/08 , C23C26/00 , C07D231/12 , C07D231/56 , H05K1/03
摘要： 本发明的非感光性表面改性剂是在金属层与树脂层之间形成表面改性层的非感光性表面改性剂，至少含有一种以上具有由通式(1)、(2)、(3)或(4)表示的结构的杂环化合物。[R1表示氢原子、芳基或杂芳基，并且还可以具有取代基。R2表示氢原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、羧基、酯基、酰胺基、杂芳基或卤素原子。n、m分别表示0～5的整数，n+m＝0～5的整数(其中，通式(1)中为0～4的整数)]。#imgabs0#
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