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公开(公告)号：CN106457765B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201580032527.5
申请日：2015-06-16
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供气体阻隔性的面内的波动少、反复弯折时的气体阻隔性的劣化得到抑制的气体阻隔膜和其制造方法。本发明的气体阻隔膜是在基材膜上具有气体阻隔层的气体阻隔膜，其特征在于，从所述气体阻隔膜采取多个试样作为评价试样，使用具有与水分反应而发生腐蚀的腐蚀性金属层的水蒸汽透过率评价单元通过特定的评价方法进行评价而得到的水蒸汽透过率(WVTR)的标准偏差(σ)满足下述式(I)。式(I)：0.01≤σ≤0.40。
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公开(公告)号：CN106457765A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580032527.5
申请日：2015-06-16
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供气体阻隔性的面内的波动少、反复弯折时的气体阻隔性的劣化得到抑制的气体阻隔膜和其制造方法。本发明的气体阻隔膜是在基材膜上通过卷对卷形成气体阻隔层的气体阻隔膜，其特征在于，从所述气体阻隔膜采取多个试样作为评价试样，使用具有与水分反应而发生腐蚀的腐蚀性金属层的水蒸汽透过率评价单元通过特定的评价方法进行评价而得到的水蒸汽透过率(WVTR)的标准偏差(σ)满足下述式(I)。式(I)：0.01≤σ≤0.40。
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公开(公告)号：CN118202008A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202280073097.1
申请日：2022-11-08
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: C09D5/00 , B32B9/00 , C09D201/00 , B32B15/08 , C07D249/06 , C07D249/08 , C23C26/00 , C07D231/12 , C07D231/56 , H05K1/03
Abstract: 本发明的非感光性表面改性剂是在金属层与树脂层之间形成表面改性层的非感光性表面改性剂，至少含有一种以上具有由通式(1)、(2)、(3)或(4)表示的结构的杂环化合物。[R1表示氢原子、芳基或杂芳基，并且还可以具有取代基。R2表示氢原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、羧基、酯基、酰胺基、杂芳基或卤素原子。n、m分别表示0～5的整数，n+m＝0～5的整数(其中，通式(1)中为0～4的整数)]。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN117546615A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202280044549.3
申请日：2022-06-23
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: H05K3/06
Abstract: 本发明的课题是提供兼具蚀刻性和抗蚀剂材料的剥离性的表面改性剂、以及使用了该表面改性剂的层叠体、金属配线图案的形成方法和印刷配线板的制造方法。本发明的表面改性剂，其特征在于，含有具有由下述通式(1)表示的结构的含氮杂芳环化合物，该含氮杂芳环化合物的ClogP为2～5的范围内。通式(1) 通式(1)中，X1～X5各自独立地表示氮原子或CR1，R1各自独立地表示氢原子、芳基、杂芳基、烷基、烯基、炔基、烷氧基、氨基、氰基、硫醇基、羰基、卤素基、三氟甲基、或羟基，可进一步具有取代基。
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