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公开(公告)号：CN112225171B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202010580125.1
申请日：2020-06-23
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种薄膜的制造方法，在薄膜上形成图案时，能够防止应用的掩模部件在干蚀刻时的掩模的磨损或缺损，并且能够以高精度形成具有微细结构的细孔的薄膜。本发明的薄膜的制造方法是具有细孔的薄膜的制造方法，其特征在于，在基板上形成薄膜之后，在该薄膜上依次层叠至少由自组织化材料构成的第一掩模和与所述第一掩模相比对反应性蚀刻处理或物理蚀刻处理具有耐性的第二掩模，通过干蚀刻处理在所述薄膜上形成细孔。
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公开(公告)号：CN115702369A
公开(公告)日：2023-02-14
申请号：CN202180044588.9
申请日：2021-06-07
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供能够形成耐久性、耐擦过性和防反射功能优异的亲水性膜的亲水性膜的制造方法、亲水性膜和光学部件。本发明的亲水性膜的制造方法的特征在于，是在具有在基板上形成以SiO2为主成分的亲水层的工序的亲水性膜的制造方法中，用湿式成膜法将至少一层的上述亲水层以干燥后的层厚按光学层厚换算成为10nm以下的方式形成在上述基板上，且上述亲水性膜的算术平均粗糙度Ra为3nm以上。
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公开(公告)号：CN113167928A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980082853.5
申请日：2019-11-27
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供具有低的光反射率、亲水性和光催化性，耐盐水性或耐伤性等特性也优异的电介质多层膜、其制造方法和使用其的光学构件。本发明的电介质多层膜是在基板上由多个层构成的电介质多层膜，其特征在于，所述多个层具有至少1层低折射率层和至少1层高折射率层，最远离所述基板的最上层为所述低折射率层，在所述最上层的基板侧配置的所述高折射率层为含有具有光催化功能的金属氧化物的功能层，所述最上层为含有具有亲水功能的金属氧化物的亲水性层，并且具有使所述功能层的表面部分地露出的细孔，所述细孔的宽度的平均值为5nm以上。
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公开(公告)号：CN108957631A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201810466674.9
申请日：2018-05-16
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明提供价格便宜且能够抑制环境温度变化时的损失的光连接器。用于将单模用的光纤连接成能够传递光的光连接器具有：套圈，其连接所述光纤，对所述光纤进行保持；树脂制的光学元件，其与所述套圈连结，并具备透镜，该透镜相对于保持于所述套圈的所述光纤的端部被定位；在将所述套圈的线膨胀系数设为A(PPM/℃)，将所述光学元件的线膨胀系数设为B(PPM/℃)时，满足以下算式：0＜B‑A≦20(1)至少在所述透镜中设有反射防止构造，在将一对所述光连接器对置地保持时，所述光学元件彼此相对置，从一方的所述光纤的端部出射的发散光入射至一方的所述透镜并变为准直光而出射，所述准直光入射至另一方的所述透镜并向另一方的所述光纤的端部聚光。
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公开(公告)号：CN103443857A
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201280008900.X
申请日：2012-02-10
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: G11B7/1374 , G11B7/1353 , G02B19/00
CPC classification number: G11B7/1374 , G02B19/0076 , G11B7/1353
Abstract: 本发明提供一种即使为高NA物镜，也能够良好地测定安装在光拾取装置时的倾斜度且能够高精度地装配光拾取装置的高NA物镜及具备该高NA物镜的光拾取装置。该物镜具有：形成于光源侧的第一光学面、以面向第一光学面且曲率半径大于第一光学面的方式形成的第二光学面、从光轴方向观察位于第二光学面外侧且与光轴大致垂直的平面即端面，像侧数值孔径(NA)为0.7以上、0.9以下，作为从光轴方向观察通过光轴及端面的直线，将端面范围内的直线的距离设为A(mm)，从光轴至端面最外周部的直线的距离设为B(mm)时，满足以下式(1)即0.12
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN113167928B
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN201980082853.5
申请日：2019-11-27
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供具有低的光反射率、亲水性和光催化性，耐盐水性或耐伤性等特性也优异的电介质多层膜、其制造方法和使用其的光学构件。本发明的电介质多层膜是在基板上由多个层构成的电介质多层膜，其特征在于，所述多个层具有至少1层低折射率层和至少1层高折射率层，最远离所述基板的最上层为所述低折射率层，在所述最上层的基板侧配置的所述高折射率层为含有具有光催化功能的金属氧化物的功能层，所述最上层为含有具有亲水功能的金属氧化物的亲水性层，并且具有使所述功能层的表面部分地露出的细孔，所述细孔的宽度的平均值为5nm以上。
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公开(公告)号：CN108957631B
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN201810466674.9
申请日：2018-05-16
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明提供价格便宜且能够抑制环境温度变化时的损失的光连接器。用于将单模用的光纤连接成能够传递光的光连接器具有：套圈，其连接所述光纤，对所述光纤进行保持；树脂制的光学元件，其与所述套圈连结，并具备透镜，该透镜相对于保持于所述套圈的所述光纤的端部被定位；在将所述套圈的线膨胀系数设为A(PPM/℃)，将所述光学元件的线膨胀系数设为B(PPM/℃)时，满足以下算式：0＜B‑A≦20(1)至少在所述透镜中设有反射防止构造，在将一对所述光连接器对置地保持时，所述光学元件彼此相对置，从一方的所述光纤的端部出射的发散光入射至一方的所述透镜并变为准直光而出射，所述准直光入射至另一方的所述透镜并向另一方的所述光纤的端部聚光。
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公开(公告)号：CN112239843A
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN202010685323.4
申请日：2020-07-16
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种蚀刻速率优异，并能够提高生产率的精细结构体的制造方法以及精细结构体的制造装置。本发明的精细结构体的制造方法是通过进行蚀刻的精细结构体的制造方法，其特征在于，使用IAD(离子辅助沉积)装置(1)，将反应性气体导入该IAD装置(1)的腔室(2)内的等离子体源(7)并进行蚀刻。
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