成膜方法及成膜装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111218659A

    公开(公告)日:2020-06-02

    申请号:CN201911146340.4

    申请日:2019-11-21

    Inventor: 能势正章

    Abstract: 本发明的课题在于提供用于在基板上均质地形成膜厚极薄的纯物质膜或混合膜作为保护膜的、控制了成膜速度和材料比的成膜方法及成膜装置。本发明的成膜方法是在基板上通过从离子源所照射的离子束来进行溅射成膜的成膜方法,其特征在于,在上述基板与上述离子源之间配置溅射靶,对于该溅射靶的与上述基板对置的面的相反侧的面,通过离子束来进行溅射,在该基板上成膜。

    光学构件及光学构件的制造方法

    公开(公告)号:CN111221057A

    公开(公告)日:2020-06-02

    申请号:CN201911146331.5

    申请日:2019-11-21

    Inventor: 能势正章

    Abstract: 本发明的课题在于提供通过改善含有SiO2作为主成分的最上层的盐水引起的溶解剥离性而不存在经时引起的对下层的分光反射率的影响、不存在与其相伴的重影、眩光的发生的、耐盐水性优异的光学构件及其制造方法。本发明的光学构件是在基板上具有电介质多层膜的光学构件,其特征在于,最上层的正下层为含有SiO2、MgF2或Al2O3中的任一者的层、或者包含这些材料的混合物含有层,并且最上层为以SiO2作为主成分、至少含有Cr或Ti中的任一种元素的金属氧化物层。

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