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公开(公告)号：CN106802141A
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201610846221.X
申请日：2016-09-23
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B21/20
Abstract: 提供一种形状测量设备的控制方法，其能够实现轨迹校正能力和控制稳定性这两者。在对触针针尖进行控制以使探测器相对于工件的偏转量保持为基准偏转量的同时，使触针针尖沿着扫描路径移动。根据通过以下表达式表示的合成速度矢量V来生成针对探测器的移动指示：合成速度矢量V＝Gf·Vf+Ge·Ve+Gc·Vc2，其中：Vf是用以使探测器沿着扫描路径移动的路径速度矢量，Ve是用以使探测器相对于工件的偏转量保持为基准偏转量的偏转校正矢量，Vc2是通过(Vc1·q)q表示的第二轨迹校正矢量，Vc1是用以对探测器的位置进行校正以使得触针针尖朝向扫描路径的第一轨迹校正矢量，以及q是利用工件的表面的法线与路径速度矢量Vf的矢积给出的轨迹校正方向矢量。
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公开(公告)号：CN107621248B
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201710576085.1
申请日：2017-07-14
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B21/20
Abstract: 本发明涉及一种形状测量设备的控制方法。根据合成速度矢量V来生成扫描测量中的探测器移位指令：V＝Gf·Vf+Ge·Ve+sg(p)·Gc·Vc2其中：Vf是探测器沿着扫描路径移位所沿着的矢量；Ve是使探测器的向着工件的压入量维持于标准压入量的矢量。Vc2由(Vc1·q)q来表示，Vc1是在校正探测器位置使得触针头沿着扫描轨道取向的方向上的矢量，q是由工件的表面的法线与Vf的外积给出的矢量。将被测面的法线方向指定为Nw，p是Vc和Nw的内积，并且sg(p)是根据p的值而返回+1或‑1的函数。
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公开(公告)号：CN107621248A
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201710576085.1
申请日：2017-07-14
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B21/20
CPC classification number: G05B19/401 , G01B5/008 , G01B21/04 , G01B21/042 , G01B21/20 , G05B19/041 , G05B2219/37043 , G05B2219/37374 , G05B2219/37411 , Y02P90/265
Abstract: 本发明涉及一种形状测量设备的控制方法。根据合成速度矢量V来生成扫描测量中的探测器移位指令：V＝Gf·Vf+Ge·Ve+sg(p)·Gc·Vc2其中：Vf是探测器沿着扫描路径移位所沿着的矢量；Ve是使探测器的向着工件的压入量维持于标准压入量的矢量。Vc2由(Vc1·q)q来表示，Vc1是在校正探测器位置使得触针头沿着扫描轨道取向的方向上的矢量，q是由工件的表面的法线与Vf的外积给出的矢量。将被测面的法线方向指定为Nw，p是Vc和Nw的内积，并且sg(p)是根据p的值而返回+1或-1的函数。
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公开(公告)号：CN106802141B
公开(公告)日：2020-02-18
申请号：CN201610846221.X
申请日：2016-09-23
Applicant: 株式会社三丰
IPC: G01B21/20
Abstract: 提供一种形状测量设备的控制方法，其能够实现轨迹校正能力和控制稳定性这两者。在对触针针尖进行控制以使探测器相对于工件的偏转量保持为基准偏转量的同时，使触针针尖沿着扫描路径移动。根据通过以下表达式表示的合成速度矢量V来生成针对探测器的移动指示：合成速度矢量V＝Gf·Vf+Ge·Ve+Gc·Vc2，其中：Vf是用以使探测器沿着扫描路径移动的路径速度矢量，Ve是用以使探测器相对于工件的偏转量保持为基准偏转量的偏转校正矢量，Vc2是通过(Vc1·q)q表示的第二轨迹校正矢量，Vc1是用以对探测器的位置进行校正以使得触针针尖朝向扫描路径的第一轨迹校正矢量，以及q是利用工件的表面的法线与路径速度矢量Vf的矢积给出的轨迹校正方向矢量。
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