公开(公告)号：CN110006347B

公开(公告)日：2023-04-18

申请号：CN201811472803.1

申请日：2018-12-04

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 青木敏彦

IPC: G01B11/02

Abstract: 一种刻度尺包括：基板；刻度光栅，其形成在基板的面上并具有预定间隔的多个光栅；以及保护层，其由氟化物制成并覆盖刻度光栅和基板的面的暴露部分。

公开(公告)号：CN114184214A

公开(公告)日：2022-03-15

申请号：CN202110960971.0

申请日：2021-08-20

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 青木敏彦

IPC: G01D5/14

Abstract: 一种标尺，包括：基板；标尺图案，其具有导电性并设置在基板的第一主面上；以及，导电膜，其设置在基板的第二主面上，导电膜的基材是树脂材料，导电材料被添加到基材中。

公开(公告)号：CN113280841A

公开(公告)日：2021-08-20

申请号：CN202011501256.2

申请日：2020-12-18

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 三宅耕作 ,  青木敏彦

IPC: G01D5/32 ,  G01D5/26 ,  G01D5/12

Abstract: 本发明提供一种标尺，其能够在长期抑制腐蚀的同时，在测量中维持高测量精度。标尺具有基材、在所述基材的主面以规定的周期排列的标尺图案、以及覆盖所述标尺图案且至少一部分为单分子氟化合物的氟膜。

公开(公告)号：CN103134531B

公开(公告)日：2017-10-27

申请号：CN201210477727.X

申请日：2012-11-21

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 青木敏彦 ,  前田不二雄 ,  富樫理彦

IPC: G01D5/347

CPC classification number: H03M1/22 ,  G01D5/34707

Abstract: 光电编码器的刻度盘及其制造方法。该光电编码器的刻度盘包括导电的且具有光反射面的基部构件和在基部构件上以预定间距排列的光吸收性黑色光栅。

公开(公告)号：CN103134531A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201210477727.X

申请日：2012-11-21

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 青木敏彦 ,  前田不二雄 ,  富樫理彦

IPC: G01D5/347

CPC classification number: H03M1/22 ,  G01D5/34707

Abstract: 光电编码器的刻度盘及其制造方法。该光电编码器的刻度盘包括导电的且具有光反射面的基部构件和在基部构件上以预定间距排列的光吸收性黑色光栅。

公开(公告)号：CN114942038A

公开(公告)日：2022-08-26

申请号：CN202210140199.2

申请日：2022-02-16

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 青木敏彦

IPC: G01D5/244

Abstract: 一种标尺，包括：基材；软磁材料中间层，形成在基材的一个表面上并且在其与基材相反的面上被粗糙化；以及形成在中间层上的导体的标尺图案。

公开(公告)号：CN112147729B

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202010598440.7

申请日：2020-06-28

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 青木敏彦 ,  三宅耕作

IPC: G02B5/18 ,  G01D5/347

Abstract: 本发明提供一种能够抑制光学特性的偏差的光栅部件及其制造方法。该光栅部件的特征在于，其具备在第1主面具备光学光栅的透明的第1基板以及在第1主面具备光学光栅的透明的第2基板，所述第1基板的与该第1基板的所述第1主面相对的第2主面和所述第2基板的与该第2基板的所述第1主面相对的第2主面彼此接合。

公开(公告)号：CN110017854B

公开(公告)日：2022-12-27

申请号：CN201811608112.X

申请日：2018-12-27

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 青木敏彦

IPC: G01D5/26 ,  G02B5/18

Abstract: 一种标尺，包括：基板；标尺光栅，形成在基板的一面上且具有以预定间隔设置的多个金属光栅；和无机透明构件，设置在多个金属光栅之间，其中基板的所述面的至少一个表面用金属制造，且其中标尺光栅和无机透明构件露出到大气。

公开(公告)号：CN113758414A

公开(公告)日：2021-12-07

申请号：CN202110254533.2

申请日：2021-03-05

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 青木敏彦 ,  三宅耕作

IPC: G01B11/00

Abstract: 本发明提供能够改善可靠性的刻度尺及其制造方法。一种刻度尺，其特征在于，具备：基板；Ni的金属层，其形成在前述基板的一个主面上；以及刻度光栅，其形成在前述金属层上、以规定的间隔配置有多个Cr光栅。

公开(公告)号：CN110030894A

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201811598095.6

申请日：2018-12-26

Applicant: 株式会社三丰

Inventor： 青木敏彦

IPC: G01B3/02 ,  G01B11/00 ,  G02B5/18

Abstract: 一种标尺，包括：基板；形成在基板上的第一金属层；形成在第一金属层上的第二金属层；以及刻度光栅，其形成在第二金属层上并具有预定间隔的多个金属光栅，其中，所述第一金属层由第一金属制成，其中，所述第二金属层由第二金属制成，其中，所述第一金属与基板的粘附性高于第二金属与基板的粘附性，并且其中所述第二金属相对于所用光的波长的反射率高于第一金属层相对于所用光的波长的反射率。